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公开(公告)号：CN115696713A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202210808444.2
申请日：2022-07-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体源和等离子体处理装置。等离子体源具有：第1腔室，构成为形成扁平的第1等离子体生成空间，并具有构成第1腔室的多个壁中的面积最大且相对的第1壁和第2壁；气体供给部，构成为能够向第1腔室内供给气体；电磁波供给部，在设置于第1壁的开口具有面向第1等离子体生成空间设置的电介质窗，并构成为能够经由电介质窗向第1腔室内供给电磁波；等离子体供给部，向第1腔室的外部供给等离子体中所含的自由基，该等离子体是利用电磁波从供给到第1腔室内的气体生成的等离子体；和等离子体点火源，在第1腔室内从与电介质窗相对的第2壁的内壁突出，并与电介质窗隔开间隔地设置。根据本发明，能够使等离子体的点火变得容易。
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公开(公告)号：CN113871281A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202110689591.8
申请日：2021-06-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。在气体供给管从构成喷淋头的上部电极的中央向上方延伸的等离子体处理装置中，提高通过电磁波在腔室内生成的等离子体的密度的分布的均匀性。公开的等离子体处理装置具备腔室、基板支承部、喷淋头、气体供给管、导入部以及电磁波的供给路。喷淋头由金属形成，设置于基板支承部的上方，提供朝向腔室内的空间开口的多个气体孔。气体供给管由金属形成，在腔室的上方沿铅垂方向延伸，并与喷淋头的上部中央连接。导入部由电介质制成，并沿喷淋头的外周设置，以将电磁波从该导入部导入腔室内。供给路包括与气体供给管的环状的凸缘部连接的导体。
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公开(公告)号：CN112466736A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN202010893601.5
申请日：2020-08-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置和温度控制方法。在一个例示的实施方式中，等离子体处理装置包括多个微波辐射机构、载置台、下部加热源和上部加热源。多个微波辐射机构设置于处理容器的上部。载置台配置于处理容器内。下部加热源设置于载置台内。上部加热源配置于与载置台相对的位置。根据本发明，能够形成品质优良的膜。
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公开(公告)号：CN112349575A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202010742867.X
申请日：2020-07-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , C23C16/455 , C23C16/509
Abstract: 本发明提供一种喷淋板、下部电介质和等离子体处理装置。在一个例示的实施方式中，喷淋板包括：具有气孔的板状的电介质主体；和电介质主体内所包含的多个密闭区域。各密闭区域具有比电介质主体低的介电常数，电介质主体的中央区域中的密闭区域的体积密度高于电介质主体的周边区域中的密闭区域的体积密度。根据本发明，能够提高等离子体的面内均匀性。
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公开(公告)号：CN102202992A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980143494.6
申请日：2009-11-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B65G49/06 , H01L21/677 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: H01L51/56 , H01L21/67173 , H01L21/6723
Abstract: 本发明提供一种能够扩展与传输模块侧面相连接的各种处理装置之间的间隔，维护性优良，可以避免生产能力的恶化，确保充分的生产效率的基板处理系统。基板处理系统在基板上沉积例如包含有机层的多个层来制造有机EL元件，由可抽真空的一个或两个以上的传输模块构成直线状的搬送路径，在传输模块的内部沿着搬送路径相互串联配置有：将基板相对于处理装置搬入搬出的多个搬入搬出区域，和配置在它们之间的一个或两个以上贮存区域，在传输模块的侧面且与搬入搬出区域对置的位置连接有处理装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113871281B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202110689591.8
申请日：2021-06-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。在气体供给管从构成喷淋头的上部电极的中央向上方延伸的等离子体处理装置中，提高通过电磁波在腔室内生成的等离子体的密度的分布的均匀性。公开的等离子体处理装置具备腔室、基板支承部、喷淋头、气体供给管、导入部以及电磁波的供给路。喷淋头由金属形成，设置于基板支承部的上方，提供朝向腔室内的空间开口的多个气体孔。气体供给管由金属形成，在腔室的上方沿铅垂方向延伸，并与喷淋头的上部中央连接。导入部由电介质制成，并沿喷淋头的外周设置，以将电磁波从该导入部导入腔室内。供给路包括与气体供给管的环状的凸缘部连接的导体。
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公开(公告)号：CN112349575B
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202010742867.X
申请日：2020-07-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , C23C16/455 , C23C16/509
Abstract: 本发明提供一种喷淋板、下部电介质和等离子体处理装置。在一个例示的实施方式中，喷淋板包括：具有气孔的板状的电介质主体；和电介质主体内所包含的多个密闭区域。各密闭区域具有比电介质主体低的介电常数，电介质主体的中央区域中的密闭区域的体积密度高于电介质主体的周边区域中的密闭区域的体积密度。根据本发明，能够提高等离子体的面内均匀性。
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公开(公告)号：CN113284784A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110172280.4
申请日：2021-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种载置台、等离子体处理装置以及等离子体处理方法。期待能够在基板的边缘附近高效地产生等离子体的载置台、等离子体处理装置以及等离子体处理方法。在一个例示性的实施方式中，提供一种具有载置面的载置台。该载置台的特征在于，载置台具有厚度，包括埋设有高频电极的载置台主体，载置台主体包含陶瓷，高频电极在载置面的外周部下方区域沿上述的厚度的方向延伸。
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公开(公告)号：CN107615446A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680029129.2
申请日：2016-05-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02
Abstract: 处理系统具备1个以上的处理单元(20)。各处理单元(20)具有多个处理腔室(22)和公用模块(30)。各处理腔室(22)使用所供给的处理气体来对被处理体进行处理。公用模块(30)包括对向多个处理腔室(22)分别供给的处理气体的流量进行控制的流量控制部(31)。多个处理腔室(22)在上下方向重叠地配置。公用模块(30)配置于多个处理腔室(22)中的、在上下方向相邻的两个处理腔室(22)之间。
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公开(公告)号：CN113557797A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202080020699.1
申请日：2020-03-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065 , H01L21/31 , C23C16/505
Abstract: 本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法。分隔板具有绝缘性，将处理容器的内部分隔为载置被处理体的反应室和生成等离子体的等离子体生成室。此外，分隔板在等离子体生成室侧的面设置第一电极，形成有用于将在等离子体生成室内生成的等离子体所包含的活性种供给到反应室的多个贯通孔。第二电极与第一电极相对地配置在等离子体生成室。在等离子体生成室生成等离子体时，电功率供给部对第一电极和第二电极中的任一者供给将多个频率的高频电功率进行相位控制并叠加而成的高频电功率。
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