发光元件及其制造方法
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106663919A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201580031161.X

    申请日:2015-04-16

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 该发光元件至少具有:GaN衬底(11);第一光反射层(41),其形成所述GaN衬底(11)上,并且用作选择性生长掩膜层(44);形成在所述第一光反射层上的第一化合物半导体层(21)、有源层(23)以及第二化合物半导体层(22);以及形成在所述第二化合物半导体层(22)上的第二电极(32)和第二光反射层(42)。所述GaN衬底(11)表面的平面方向的离角等于或小于0.4°,所述第一光反射层(41)的面积等于或小于0.8S0,其中,所述GaN衬底(11)的面积由S0表示,并且作为所述第一光反射层的最低层(41A),热膨胀缓解薄膜(44)形成在所述GaN衬底(11)上。

    发光元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN104347774A

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201410390677.0

    申请日:2014-08-08

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本发明公开了一种发光元件及其制造方法,所述发光元件包括:层叠结构体,所述层叠结构体包括第一化合物半导体层、有源层和第二化合物半导体层,所述第一化合物半导体层包括第一表面和面对所述第一表面的第二表面,所述有源层与所述第一化合物半导体层的第二表面接触;其中所述第一化合物半导体层的第一表面具有第一表面区域和第二表面区域,所述第一表面区域和所述第二表面区域在高度或者粗糙度的至少之一上不同,在至少一部分所述第一表面区域上形成第一光反射层,和在至少一部分所述第二表面区域上形成第一电极。

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