发光元件及其制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113851928B

    公开(公告)日:2024-09-20

    申请号:CN202111109431.8

    申请日:2017-09-01

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本申请公开了发光元件及其制造方法。一种发光元件设置有由GaN化合物半导体形成的层压结构,所述层压结构中层压有:第一化合物半导体层,其具有第一表面和在第一表面的相反侧上的第二表面;有源层,其面向第一化合物半导体层的第二表面;以及第二化合物半导体层,其具有面向有源层的第一表面和在第一表面的相反侧上的第二表面。所述发光元件还设置有:第一光反射层,其设置在第一化合物半导体层的第一表面侧;和第二光反射层,其设置在第二化合物半导体层的第二表面侧。所述第一光反射层具有凹面镜部分,所述第二光反射层具有平坦形状。

    受光元件及其制造方法、成像器件和电子装置

    公开(公告)号:CN116404020A

    公开(公告)日:2023-07-07

    申请号:CN202310293532.8

    申请日:2017-05-26

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 根据本发明的实施例的受光元件包括:多个像素;多个像素公共的光电转换层;第一电极层,其设置在所述光电转换层的光入射面侧,其中,所述第一电极层包括多个第一电极,且其中,针对所述多个像素中的每一像素设置至少一个所述第一电极;遮光部,其埋设在所述第一电极层的相邻的所述第一像素之间;和第一半导体层,其设置在所述光电转换层和所述第一电极层之间,其中,所述遮光部的一个面延伸至所述第一半导体层的内部。本发明的受光元件可以抑制混色发生。

    发光元件及其制造方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106663919B

    公开(公告)日:2020-03-10

    申请号:CN201580031161.X

    申请日:2015-04-16

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 该发光元件至少具有:GaN衬底(11);第一光反射层(41),其形成所述GaN衬底(11)上,并且用作选择性生长掩膜层(44);形成在所述第一光反射层上的第一化合物半导体层(21)、有源层(23)以及第二化合物半导体层(22);以及形成在所述第二化合物半导体层(22)上的第二电极(32)和第二光反射层(42)。所述GaN衬底(11)表面的平面方向的离角等于或小于0.4°,所述第一光反射层(41)的面积等于或小于0.8S0,其中,所述GaN衬底(11)的面积由S0表示,并且作为所述第一光反射层的最低层(41A),热膨胀缓解薄膜(44)形成在所述GaN衬底(11)上。

    发光元件及其制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109923742A

    公开(公告)日:2019-06-21

    申请号:CN201780066313.9

    申请日:2017-09-01

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 该发光元件设置有由GaN化合物半导体形成的层压结构20,所述层压结构中层压有:第一化合物半导体层21,其具有第一表面21a和在第一表面21a的相反侧上的第二表面21b;有源层23,其面向第一化合物半导体层21的第二表面21b;以及第二化合物半导体层22,其具有面向有源层23的第一表面22a和在第一表面22a的相反侧上的第二表面22b。所述发光元件还设置有:第一光反射层41,其设置在第一化合物半导体层21的第一表面21a侧;和第二光反射层42,其设置在第二化合物半导体层22的第二表面22b侧。所述第一光反射层41具有凹面镜部分43,所述第二光反射层42具有平坦形状。

    发光元件及其制造方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113851928A

    公开(公告)日:2021-12-28

    申请号:CN202111109431.8

    申请日:2017-09-01

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本申请公开了发光元件及其制造方法。一种发光元件设置有由GaN化合物半导体形成的层压结构,所述层压结构中层压有:第一化合物半导体层,其具有第一表面和在第一表面的相反侧上的第二表面;有源层,其面向第一化合物半导体层的第二表面;以及第二化合物半导体层,其具有面向有源层的第一表面和在第一表面的相反侧上的第二表面。所述发光元件还设置有:第一光反射层,其设置在第一化合物半导体层的第一表面侧;和第二光反射层,其设置在第二化合物半导体层的第二表面侧。所述第一光反射层具有凹面镜部分,所述第二光反射层具有平坦形状。

    面发射激光器和电子设备

    公开(公告)号:CN110268587B

    公开(公告)日:2021-09-21

    申请号:CN201780071445.0

    申请日:2017-10-19

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本公开的实施方式的面发射激光器设置有:电流收缩区域,具有由从第二半导体层侧注入到层叠体内部的杂质形成的开口部;以及第一半导体层侧的第一DBR层和第二半导体层侧的第二DBR层,该第一DBR层和该第二DBR层在反向面对开口部的位置中夹紧层叠体。在开口部中,靠近第一DBR层的开口直径大于靠近第二DBR层的开口直径。

    光学半导体装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107112722B

    公开(公告)日:2020-06-19

    申请号:CN201580068863.5

    申请日:2015-10-02

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 一种光学半导体装置具有一种层压结构(20),其中,n型化合物半导体层(21)、有源层(23)和p型化合物半导体层(22)依次层压,有源层(23)设置有具有隧道势垒层(33)的多量子阱结构,与p型化合物半导体层(22)相邻的阱层(312)的组分的波动大于另一个阱层(311)的组分的波动,与p型化合物半导体层(22)相邻的阱层(312)的带隙能量小于另一个阱层(311)的带隙能量,并且与p型化合物半导体层(22)相邻的阱层(312)的厚度大于另一个阱层(311)的厚度。

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