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公开(公告)号：CN108489373A
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201810270780.X
申请日：2018-03-29
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: G01B7/06
Abstract: 本发明公开了一种用于金属膜厚测量的差分探头装置，包括：激励源，用于提供振荡源；差分探头，差分探头具有第一线圈通道和第二线圈通道，且对应包括第一线圈和第二线圈；采集模块，用于在探头正下方产生磁场，且在探头正下方的被测金属薄膜的表面产生感应磁场时，采集探头的等效阻抗；中央处理模块，用于使得第一线圈和第二线圈同时工作，并且根据等效阻抗得到线圈阻抗的变化值，以根据线圈阻抗的变化值得到被测金属薄膜的厚度。该装置可以通过非接触式进行金属膜厚的测量，从而消减共模量的干扰，提高测试的稳定性。
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公开(公告)号：CN103676880A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310684501.1
申请日：2013-12-13
Applicant: 清华大学
IPC: G05B19/418
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 本发明提出一种CMP集成控制系统的通讯模块，该CMP集成控制系统包括：主工控机、下位机组和二级工控机，该通讯模块用于实现主工控机与下位机组和二级工控机之间的通讯，其包括：OPC访问子模块和TCP/IP访问子模块，且两个子模块并行工作；主工控机通过OPC访问子模块从下位机组获取多个工艺单元的状态信息和过程参数，并向下位机组发送控制多个工艺单元运行的控制指令、工艺配方及工艺参数，以及通过TCP/IP访问子模块向二级工控机发送控制指令以便二级工控机控制被集成单元执行相应的动作，并接收二级工控机的反馈。本发明实施例的通讯模块具有安全、稳定及可靠的优点，且该通讯模块便于维护，可扩展性好。
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公开(公告)号：CN106926110A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710245274.0
申请日：2017-04-14
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: B24B37/013 , H01L21/306 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/013 , H01L21/30625 , H01L22/12
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光终点检测装置，包括：装置与化学机械抛光平台配合使用，化学机械抛光平台的抛光盘上设置有窗口，装置包括：平面反射镜；搭载平面反射镜的转轴，转轴用于调整平面反射镜的角度；光发射模块，用于发出激光线，激光线经由平面反射镜通过窗口照射到抛光盘上的晶圆表面；光检测模块，用于接收经由窗口接收晶圆的反射光线，以根据反射光线确定化学机械抛光工艺的终点。该实施例的化学机械抛光终点检测装置通过转轴可调节激光线射向化学机械抛光平台的抛光盘上窗口的角度，由此，提高了该装置的可调节性，容错性，可适用于不同厂家的化学机械抛光平台。
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公开(公告)号：CN103252705A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310180057.X
申请日：2013-05-15
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光设备。所述化学机械抛光设备包括：用于存放晶圆的晶盒装载装置；用于放置晶圆的晶圆过渡装置；第一机械手；化学机械抛光机；晶圆清洗装置，晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在第一容纳腔内第一晶圆支撑组件和设在第一本体上的晶圆清洗组件；晶圆刷洗装置，晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在第二容纳腔内的晶圆刷洗组件和第二晶圆支撑组件；晶圆干燥装置，晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在第三容纳腔内的晶圆干燥组件和第三晶圆支撑组件；和第二机械手。根据本发明实施例的化学机械抛光设备具有清洗效果好等优点。
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公开(公告)号：CN108489373B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201810270780.X
申请日：2018-03-29
Applicant: 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC: G01B7/06
Abstract: 本发明公开了一种用于金属膜厚测量的差分探头装置，包括：激励源，用于提供振荡源；差分探头，差分探头具有第一线圈通道和第二线圈通道，且对应包括第一线圈和第二线圈；采集模块，用于在探头正下方产生磁场，且在探头正下方的被测金属薄膜的表面产生感应磁场时，采集探头的等效阻抗；中央处理模块，用于使得第一线圈和第二线圈同时工作，并且根据等效阻抗得到线圈阻抗的变化值，以根据线圈阻抗的变化值得到被测金属薄膜的厚度。该装置可以通过非接触式进行金属膜厚的测量，从而消减共模量的干扰，提高测试的稳定性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107024737A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710305123.X
申请日：2017-05-03
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: G02B6/32
CPC classification number: G02B6/32
Abstract: 本发明公开了一种透镜组装置，包括：透镜组装置用于Y型光纤端，透镜组装置包括：聚焦镜筒，聚焦镜筒内设置有凸透镜；遮挡镜筒；锁定环，在将遮挡镜筒套在聚焦镜筒上时，通过锁定环固定遮挡镜筒的位置；发散镜筒，发散镜筒内设置有凹透镜；其中，发散镜筒套在聚焦镜筒上，以通过与聚焦镜筒结合提供平行光。该实施例的透镜组装置对Y型光线端的光线进行聚焦处理时，在提供聚焦的同时，提供遮挡杂光的功能，减少杂光产生的光干扰，并且通过聚焦镜筒和发散镜筒的相互结合还可提供平行光或者接近平行光的光线。
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公开(公告)号：CN103231303A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201310180314.X
申请日：2013-05-15
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光设备。所述化学机械抛光设备包括：用于存放晶圆的晶盒装载装置；用于输送晶圆的晶圆转移装置；第一机械手；化学机械抛光机；用于放置晶圆的晶圆过渡装置；第二机械手；晶圆清洗装置，晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在第一容纳腔内的第一晶圆支撑组件和设在第一本体上的晶圆清洗组件；晶圆刷洗装置，晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在第二容纳腔内的晶圆刷洗组件和第二晶圆支撑组件；晶圆干燥装置，晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在第三容纳腔内的晶圆干燥组件和第三晶圆支撑组件；和第三机械手。根据本发明实施例的化学机械抛光设备具有清洗效果好等优点。
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公开(公告)号：CN209822600U
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201920565995.4
申请日：2019-04-24
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型公开了一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备，该设备包括流体存储容器和用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件，以及与执行部件连接的流体控制装置。该装置包括受控于主控模块的第一控制部件和受控于安全控制模块的第二控制部件；第一控制部件与第二控制部件串联至用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件；在主控模块工作异常时，安全控制模块控制第二控制部件动作以使执行部件断开流体存储容器的管路。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207873939U
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201820242718.5
申请日：2018-02-09
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/013 , B24B49/12
Abstract: 本实用新型公开了一种用于标定光学终点检测模块的工装，所述工装包括：托盘，光学终点检测模块设在托盘上，沿着托盘的周向上多个固定孔间隔开排布；多个支脚，分别与固定孔螺纹连接，且通过支脚上的固定件锁死；上盘，设在托盘上，上盘朝向托盘的一侧设有腔室，光学终点检测模块容纳在腔室内，上盘设有第一透光区域；抛光垫，设在上盘上表面，抛光垫上设有第二透光区域，第一透光区域和第二透光区域的位置对应布置以使得出射光线通过第一透光区域和第二透光区域射出。根据本实用新型的用于标定光学终点检测模块的工装，可调整出光角度，机械加工精度要求较低，加工周期短，造价低，可线下检测标定，拆装简单，可一次性装入CMP抛光盘内，可实现量产化。
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公开(公告)号：CN206653253U
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201720391740.1
申请日：2017-04-14
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: B24B37/013 , H01L21/306 , H01L21/66
Abstract: 本实用新型公开了一种化学机械抛光终点检测装置，包括：装置与化学机械抛光平台配合使用，化学机械抛光平台的抛光盘上设置有窗口，装置包括：平面反射镜；搭载平面反射镜的转轴，转轴用于调整平面反射镜的角度；光发射模块，用于发出激光线，激光线经由平面反射镜通过窗口照射到抛光盘上的晶圆表面；光检测模块，用于接收经由窗口接收晶圆的反射光线，以根据反射光线确定化学机械抛光工艺的终点。该实施例的化学机械抛光终点检测装置通过转轴可调节激光线射向化学机械抛光平台的抛光盘上窗口的角度，由此，提高了该装置的可调节性，容错性，可适用于不同厂家的化学机械抛光平台。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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