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公开(公告)号：CN110861000A
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201911398791.7
申请日：2019-12-30
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/10 , B24B37/30 , B24B53/017 , H01L21/673
Abstract: 本发明公开了一种用于承载头的驱动组件及晶圆承载装置，包括承载头和上部气动组件，所述承载头通过连接组件耦接至所述上部气动组件，所述连接组件包括定位销和具有定位销孔的法兰盘，所述定位销和法兰盘由金属材料制成，所述定位销的部分或全部表面设置有非金属结构使得所述定位销与所述法兰盘接触不产生金属污染物。
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公开(公告)号：CN110695849A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201911009313.2
申请日：2019-10-23
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B49/12
Abstract: 本发明公开了一种晶圆厚度测量装置和磨削机台，测量装置包括：主体结构、可升降的悬挂结构和光学传感器组件，悬挂结构挂载在主体结构下部，主体结构下部可滑动地设置于悬挂结构的槽内，主体结构内设有通向主体结构与悬挂结构的交接处的第一流体管路用于向该槽内充入第一流体以提升该悬挂结构，主体结构设有贯穿其上、下表面的用于容置光学传感器组件的第一通孔，悬挂结构的槽底部在第一通孔下方设有第二通孔以通过由光学传感器组件输出的光路，悬挂结构内设有第二流体管路以实现由主体结构底面、光学传感器组件底面、槽内面和第二通孔形成的腔室内充满第二流体。能够有效提高晶圆厚度测量的准确性和精度。
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公开(公告)号：CN110394728A
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201910335847.8
申请日：2019-04-24
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/013 , B24B37/04 , H01L21/67
Abstract: 本发明适用于化学机械抛光技术领域，提供了一种终点检测方法、系统及化学机械抛光装置，其中方法包括在晶圆抛光期间：获取抛光盘的运行参数；消除所述运行参数的波动影响以得到归一化的摩擦因子；根据所述摩擦因子确定抛光终点。本发明提高了在化学机械抛光过程中进行终点检测的准确率，有效地保证了抛光质量。
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公开(公告)号：CN108698193A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780003705.0
申请日：2017-09-13
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
CPC classification number: B24B37/10 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B41/00 , B24B41/02 , B24B41/06 , B24B55/06 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械抛光系统，包括：前端模块(101)，所述前端模块用于存储和/或检测晶圆；多个抛光单元(102，103，104，105)，多个所述抛光单元并排设置，且至少一个邻近所述前端模块；抛光机械手(107，109)，所述抛光机械手设在多个所述抛光单元之间用以传递晶圆；后清洗单元(108，110)，所述后清洗单元与所述抛光单元和所述前端模块均相连，且设置为清洗时晶圆纵置；中转机械手(408)，所述中转机械手用于将晶圆在所述抛光单元与所述后清洗单元之间顺次传递。化学机械抛光系统生产效率高，工艺流程更加灵活，清洗效果更好，且后清洗单元的体积小，结构紧凑。
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公开(公告)号：CN108644336A
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201810528665.8
申请日：2018-05-29
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种柔性传动装置，包括：动力部件，用于生成驱动力；输出部件及使用端，用于输出驱动力；联轴部件，联轴部件分别与动力部件和输出部件及使用端相连，用于柔性连接动力部件和输出部件，以实现驱动力的平稳输出。该装置可以通过柔性连接动力部件和输出部件实现驱动力的平稳输出，有效避免因为刚性大对电机及整个传动系统产生额外的外力而减少使用寿命、甚至系统功能失效，从而有效提高系统使用寿命和可靠性，简单易实现。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108555771A
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201810377019.6
申请日：2018-04-25
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/013 , B24B37/04 , H01L21/67
CPC classification number: B24B37/013 , B24B37/04 , H01L21/67253
Abstract: 本发明公开了一种CMP终点的确定方法、确定系统和CMP系统，该确定方法包括：获取驱动所述抛光盘的电机负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据和所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据；进而根据以上数据得到归一化摩擦力矩随时间变化的数据；根据归一化摩擦力矩随时间变化的数据得到所述归一化摩擦力矩随时间变化的曲线；根据曲线确定抛光终点。本发明具有如下优点：不需要复杂的滤波计算，计算量小，能够更加实时准确确定抛光终点，进而提升抛光后的成品质量。
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公开(公告)号：CN108044484A
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201810002749.8
申请日：2018-01-02
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
CPC classification number: B24B29/02 , B24B41/047
Abstract: 本发明公开了一种具有自适应性的抛光头,包括：枢轴组件、基体及夹片组件，枢轴组件由轴体及盘体组成，基体上设置有适于与轴体配合的轴孔，夹片组件上设置有适于与盘体配合的凹槽；枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置，枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内；盘体的外周壁设有环形凸缘，环形凸缘的外周面与凹槽的内周壁线接触。根据本发明的具有自适应性的抛光头，能够保证抛光头的定心功能，提高抛光头稳定性和自适应性。
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公开(公告)号：CN110993525A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201910331457.3
申请日：2019-04-24
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备，该设备包括流体存储容器和用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件，以及与执行部件连接的流体控制装置。该装置包括受控于主控模块的第一控制部件和受控于安全控制模块的第二控制部件；第一控制部件与第二控制部件串联至用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件；在主控模块工作异常时，安全控制模块控制第二控制部件动作以使执行部件断开流体存储容器的管路。
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公开(公告)号：CN110948379A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201911015128.4
申请日：2019-10-24
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/10 , B24B37/32 , B24B37/34 , H01L21/304
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光装置，包括：转盘，用于使抛光垫与其一起旋转；承载头，其配置有保持环以接收基板并将基板加载于所述抛光垫；承载头驱动装置，该驱动装置包括电机、驱动轴、气动组件、外壳和控制单元。所述电机和气动组件配置于所述外壳内，所述驱动轴从所述外壳底部伸出以将所述电机和气动组件的作用传递至承载头，所述外壳外表面配置有光学传感器单元及用于致动该光学传感器单元的导杆，所述光学传感器单元可随所述导杆在所述外壳表面移动或移动至所述外壳下方，并且所述光学传感器单元具有至少一个可调节角度的摄像头或多个朝不同方向设置的摄像头以获取化学机械抛光装置不同作业区域和零部件的图像信息。
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公开(公告)号：CN110524412A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910942462.8
申请日：2019-09-30
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/32 , B24B37/013 , B24B49/10
Abstract: 一种化学机械抛光保持环，包括环形主体，所述环形主体由环状的上部和下部组成，所述上部由金属制成，所述下部由塑料制成并且具有用作抛光液通道的凹槽，所述上部和下部通过结合层结合为一体，所述结合层含有吸波材料以防止保持环反射电磁波或产生电涡流。
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