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公开(公告)号：CN110993525A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201910331457.3
申请日：2019-04-24
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备，该设备包括流体存储容器和用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件，以及与执行部件连接的流体控制装置。该装置包括受控于主控模块的第一控制部件和受控于安全控制模块的第二控制部件；第一控制部件与第二控制部件串联至用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件；在主控模块工作异常时，安全控制模块控制第二控制部件动作以使执行部件断开流体存储容器的管路。
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公开(公告)号：CN110948379A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201911015128.4
申请日：2019-10-24
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/10 , B24B37/32 , B24B37/34 , H01L21/304
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光装置，包括：转盘，用于使抛光垫与其一起旋转；承载头，其配置有保持环以接收基板并将基板加载于所述抛光垫；承载头驱动装置，该驱动装置包括电机、驱动轴、气动组件、外壳和控制单元。所述电机和气动组件配置于所述外壳内，所述驱动轴从所述外壳底部伸出以将所述电机和气动组件的作用传递至承载头，所述外壳外表面配置有光学传感器单元及用于致动该光学传感器单元的导杆，所述光学传感器单元可随所述导杆在所述外壳表面移动或移动至所述外壳下方，并且所述光学传感器单元具有至少一个可调节角度的摄像头或多个朝不同方向设置的摄像头以获取化学机械抛光装置不同作业区域和零部件的图像信息。
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公开(公告)号：CN108831849A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201810659303.2
申请日：2018-06-25
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
CPC classification number: H01L21/67034 , H01L21/02041
Abstract: 本发明公开了一种基于热马兰哥尼效应的晶圆干燥装置和干燥方法，其中晶圆干燥装置包括：水槽，用于容纳去离子水；晶圆提拉装置，用于从去离子水中提拉晶圆；氮气源；氮气喷射系统，用于提拉晶圆时，对晶圆与去离子水的弯液面区域喷射热氮气，以在弯液面区域诱导温度梯度产生沿弯液面向下的热马兰哥尼流动，实现卷吸水膜剥离，进而实现晶圆超洁净干燥；控制器，用于控制晶圆提拉装置、氮气源和氮气喷射系统。本发明通过使用绿色环保的热氮气取代可燃、可爆且有毒的有机蒸汽进行Marangoni干燥，无需配备保护装置，简化供给系统，提升了安全性；晶圆提拉装置从两个位置固定并分步提拉晶圆，避免夹具晶圆接触区无法干燥，实现晶圆完全干燥。
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公开(公告)号：CN108257894A
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201810030585.X
申请日：2018-01-12
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种晶圆干燥装置，晶圆干燥装置包括底座、储液池、晶圆驱动模组、晶圆干燥模组及调整模组。储液池设在底座上，储液池内适于装载去离子水。晶圆驱动模组设在底座上，晶圆驱动模组用于驱动晶圆升降。晶圆干燥模组用于朝向脱离液面的晶圆与去离子水形成的弯月面处喷射低表面张力物质，诱发沿弯面向下的Marangoni流动，促使晶圆表面吸附水膜的剥离，从而实现晶圆干燥。调整模组用于调整晶圆干燥模组朝向晶圆喷射低表面张力物质的喷射参数。根据本发明实施例的晶圆干燥装置，能够方便地调整晶圆干燥的相关参数，有利于分析各喷射工艺参数对干燥效果的影响机制，加深对晶圆干燥机理的认识。
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公开(公告)号：CN108956958B
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201810781667.8
申请日：2018-07-17
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: G01N33/30
Abstract: 本发明公开了一种用于润滑剂参数测量系统的防护装置，包括：外围防护组件，所述外围防护组件包括横向设置的底板和从所述底板竖向向上延伸的上围壁，所述底板上设有透光孔和排泄口，所述透光孔的孔壁竖向向上延伸且超出所述底板的上表面；测试盘组件，所述测试盘组件包括测试盘和密封设置在所述测试盘的外周壁上的隔离圈，所述隔离圈的上顶面高于所述测试盘的上表面；所述测试盘组件位于所述底板上方且位于所述上围壁中。使用该防护装置，可以持续向测试盘组件中供给润滑剂进行测量，测量稳定性高，同时，还能有效地防止了润滑剂污染测量系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108257894B
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201810030585.X
申请日：2018-01-12
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种晶圆干燥装置，晶圆干燥装置包括底座、储液池、晶圆驱动模组、晶圆干燥模组及调整模组。储液池设在底座上，储液池内适于装载去离子水。晶圆驱动模组设在底座上，晶圆驱动模组用于驱动晶圆升降。晶圆干燥模组用于朝向脱离液面的晶圆与去离子水形成的弯月面处喷射低表面张力物质，诱发沿弯面向下的Marangoni流动，促使晶圆表面吸附水膜的剥离，从而实现晶圆干燥。调整模组用于调整晶圆干燥模组朝向晶圆喷射低表面张力物质的喷射参数。根据本发明实施例的晶圆干燥装置，能够方便地调整晶圆干燥的相关参数，有利于分析各喷射工艺参数对干燥效果的影响机制，加深对晶圆干燥机理的认识。
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公开(公告)号：CN110948376A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201911014962.1
申请日：2019-10-24
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/04 , B24B37/10 , B24B37/30 , B24B49/12 , B24B53/017 , B24B57/02 , B24B47/16
Abstract: 本发明公开了一种用于化学机械抛光承载头的驱动装置，包括电机、驱动轴、气动组件和外壳，所述电机和气动组件配置于所述外壳内，所述驱动轴从所述外壳底部伸出以将所述电机和气动组件的作用传递至承载头，所述外壳外表面配置有至少一个光学传感器单元。
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公开(公告)号：CN110379734A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201910517944.9
申请日：2019-06-14
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Abstract: 本发明涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种晶圆后处理系统和方法，系统包括：晶圆提升装置，用于从清洗液中提拉浸入清洗液的晶圆；气体喷射装置，用于在晶圆从清洗液中提升的过程中，向晶圆表面附着的清洗液的弯液面区域喷射第一温度的干燥气体，以使晶圆表面的附着物按照与提升方向相反的方向从晶圆表面剥离；液面监测装置，与气体喷射装置连接，用于检测弯液面区域的位置以使气体喷射装置喷射的干燥气体对准该弯液面三相接触线区域。
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公开(公告)号：CN108956958A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201810781667.8
申请日：2018-07-17
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: G01N33/30
Abstract: 本发明公开了一种用于润滑剂参数测量系统的防护装置，包括：外围防护组件，所述外围防护组件包括横向设置的底板和从所述底板竖向向上延伸的上围壁，所述底板上设有透光孔和排泄口，所述透光孔的孔壁竖向向上延伸且超出所述底板的上表面；测试盘组件，所述测试盘组件包括测试盘和密封设置在所述测试盘的外周壁上的隔离圈，所述隔离圈的上顶面高于所述测试盘的上表面；所述测试盘组件位于所述底板上方且位于所述上围壁中。使用该防护装置，可以持续向测试盘组件中供给润滑剂进行测量，测量稳定性高，同时，还能有效地防止了润滑剂污染测量系统。
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公开(公告)号：CN209822600U
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201920565995.4
申请日：2019-04-24
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型公开了一种用于基板后清洗的流体控制装置和流体供应设备，该设备包括流体存储容器和用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件，以及与执行部件连接的流体控制装置。该装置包括受控于主控模块的第一控制部件和受控于安全控制模块的第二控制部件；第一控制部件与第二控制部件串联至用于控制流体存储容器的管路通断的执行部件；在主控模块工作异常时，安全控制模块控制第二控制部件动作以使执行部件断开流体存储容器的管路。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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