用于润滑剂参数测量系统的防护装置

    公开(公告)号:CN108956958B

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201810781667.8

    申请日:2018-07-17

    Abstract: 本发明公开了一种用于润滑剂参数测量系统的防护装置,包括:外围防护组件,所述外围防护组件包括横向设置的底板和从所述底板竖向向上延伸的上围壁,所述底板上设有透光孔和排泄口,所述透光孔的孔壁竖向向上延伸且超出所述底板的上表面;测试盘组件,所述测试盘组件包括测试盘和密封设置在所述测试盘的外周壁上的隔离圈,所述隔离圈的上顶面高于所述测试盘的上表面;所述测试盘组件位于所述底板上方且位于所述上围壁中。使用该防护装置,可以持续向测试盘组件中供给润滑剂进行测量,测量稳定性高,同时,还能有效地防止了润滑剂污染测量系统。

    一种承载头测试装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110702390A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201910961454.8

    申请日:2019-10-11

    Abstract: 本发明公开了一种承载头测试装置,包括箱体、接收法兰、挡板、支撑组件及测控组件,所述接收法兰固定设置于箱体顶部以接收承载头,所述挡板通过支撑组件可移动地架设于接收法兰上部,所述测控组件经由连接法兰加载测试承载头,其中,所述箱体表面配置有导轨,所述支撑组件的下部卡接于所述导轨并且其上部与所述挡板固定连接,使得所述挡板可连同所述支撑组件整体水平移动至接收法兰上方并挡住全部承载头。本申请提供的一种承载头测试装置,用于化学机械抛光设备中承载头的检测,能够适用于各种不同尺寸及规格的承载头的安装和检测、检测效率高、作业故障率低、不容易产生故障、具有良好的推广价值。

    用于润滑剂参数测量系统的防护装置

    公开(公告)号:CN108956958A

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201810781667.8

    申请日:2018-07-17

    Abstract: 本发明公开了一种用于润滑剂参数测量系统的防护装置,包括:外围防护组件,所述外围防护组件包括横向设置的底板和从所述底板竖向向上延伸的上围壁,所述底板上设有透光孔和排泄口,所述透光孔的孔壁竖向向上延伸且超出所述底板的上表面;测试盘组件,所述测试盘组件包括测试盘和密封设置在所述测试盘的外周壁上的隔离圈,所述隔离圈的上顶面高于所述测试盘的上表面;所述测试盘组件位于所述底板上方且位于所述上围壁中。使用该防护装置,可以持续向测试盘组件中供给润滑剂进行测量,测量稳定性高,同时,还能有效地防止了润滑剂污染测量系统。

    一种晶圆厚度测量装置和磨削机台

    公开(公告)号:CN110695849A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201911009313.2

    申请日:2019-10-23

    Abstract: 本发明公开了一种晶圆厚度测量装置和磨削机台,测量装置包括:主体结构、可升降的悬挂结构和光学传感器组件,悬挂结构挂载在主体结构下部,主体结构下部可滑动地设置于悬挂结构的槽内,主体结构内设有通向主体结构与悬挂结构的交接处的第一流体管路用于向该槽内充入第一流体以提升该悬挂结构,主体结构设有贯穿其上、下表面的用于容置光学传感器组件的第一通孔,悬挂结构的槽底部在第一通孔下方设有第二通孔以通过由光学传感器组件输出的光路,悬挂结构内设有第二流体管路以实现由主体结构底面、光学传感器组件底面、槽内面和第二通孔形成的腔室内充满第二流体。能够有效提高晶圆厚度测量的准确性和精度。

    一种磨削工作台和晶圆减薄设备

    公开(公告)号:CN111421412B

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202010430230.7

    申请日:2020-05-20

    Abstract: 本发明公开了一种磨削工作台和晶圆减薄设备,包括:用于承载晶圆吸盘的安装板、转盘、气浮支撑结构和驱动机构,安装板固定在转盘上,转盘包括主体部和从主体部的边缘向下向外延伸形成的环状边缘部,气浮支撑结构在其上部的内侧具有用于间隙包围转盘的边缘部的环状凹槽,以使所述边缘部在转动时悬浮于所述凹槽内并在静止时紧压所述凹槽的下表面限制所述转盘移动,驱动机构与转盘连接以驱动转盘带动安装板旋转。

    晶圆对心装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111627853A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN202010749056.2

    申请日:2020-07-30

    Abstract: 一种晶圆对心装置,包括:晶圆支撑轮组,其包括相对设置的第一晶圆支撑轮组和第二晶圆支撑轮组,和对心支架,其包括相对设置的第一对心支架和第二对心支架;所述第一对心支架和第二对心支架各自包括一对卡爪,每个卡爪包括卡爪支撑面,所述卡爪支撑面设置在所述卡爪的靠近晶圆一侧的端部上;所述卡爪进一步包括卡爪凸台,所述卡爪凸台设置在所述卡爪支撑面的远离晶圆一侧的末端上并且包括面向晶圆一侧的端面,并且所述滚轮包括滚轮轴肩支撑面,其在所述卡爪支撑面未对所述晶圆形成支撑时支撑所述晶圆,所述滚轮轴肩支撑面设置为斜坡形态,其坡度大于等于5°且小于等于20°。

    碳纳米管的制备方法
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108946700B

    公开(公告)日:2020-03-17

    申请号:CN201710349116.X

    申请日:2017-05-17

    Abstract: 本发明涉及一种碳纳米管的制备方法,包括以下步骤:提供一基底,在所述基底的表面沉积一催化剂层;将所述基底设置于一反应炉内,加热使反应炉内温度达到一预定温度,向反应炉内通入一碳源气体及一保护气体,以在该基底上生长第一碳纳米管片段结构,所述第一碳纳米管片段结构包括多根金属性碳纳米管片段;对生长的第一碳纳米管片段结构施加一电场,该电场方向为给催化剂层充正电荷的方向;以及反转电场方向,从该金属性碳纳米管片段生长出半导体性碳纳米管片段。

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