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公开(公告)号：CN109048644B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201811220718.6
申请日：2018-10-19
Applicant: 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC: B24B37/10 , B24B37/34 , H01L21/304 , B08B3/02 , B08B13/00
Abstract: 本发明公开了一种晶圆的处理装置及处理方法、化学机械抛光系统。晶圆的处理装置包括：驱动组件以及处理组件，所述驱动组件带动所述晶圆旋转的同时所述处理组件绕垂直于所述晶圆表面的轴线摆动以向所述晶圆表面喷射流体。根据本发明实施例的处理装置在对晶圆进行处理时，可以防止损坏晶圆，处理效果好。
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公开(公告)号：CN106312780B
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201610859516.0
申请日：2016-09-28
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
CPC classification number: B24B29/02 , B24B55/00 , H01L21/67092
Abstract: 本发明公开了一种抛光设备，包括：抛光装置，所述抛光装置包括：抛光盘以及位于所述抛光盘上表面的抛光垫，所述抛光装置沿所述抛光垫的中心轴线方向旋转；清洗装置，所述清洗装置位于所述抛光装置的上方，所述清洗装置设有至少一个向所述抛光垫喷射水的喷水孔，所述喷水孔的喷射方向与竖直方向呈一定夹角且与所述抛光装置的旋转方向相对。根据本发明实施例的抛光设备，喷水孔的喷射方向与竖直方向呈一定夹角且与抛光装置的旋转方向相对，从而提高了清洗装置的清洗效果，避免了晶片被刮伤，提高了晶片的产品质量。
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公开(公告)号：CN106482881B
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201610857556.1
申请日：2016-09-28
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: G01L5/00
CPC classification number: G01L5/0061
Abstract: 本发明公开了一种测量润滑剂摩擦力的装置，包括：安装平台；盘轴系统，盘轴系统可旋转地设置于安装平台；玻璃盘，玻璃盘设在盘轴系统上，盘轴系统带动玻璃盘旋转；立柱，立柱设有沿立柱轴向方向延伸的外套，外套的外壁设有凸块，立柱与玻璃盘相对设置；球轴系统，球轴系统与外套连接，球轴系统包括：球轴和用于驱动球轴旋转的球轴驱动组件，球轴的一端设置于球轴驱动组件内，球轴的另一端的端部设有钢球，钢球与玻璃盘的上表面接触，凸块距离立柱中心轴线的水平距离大于钢球距离立柱中心轴线的水平距离；测力系统，测力系统与凸块的侧壁接触用于测量润滑剂摩擦力。根据本发明实施例的测量润滑剂摩擦力的装置测量准确性高。
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公开(公告)号：CN105470177B
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201610010190.4
申请日：2016-01-05
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种晶圆清洗干燥装置，晶圆清洗干燥装置包括：转盘，晶圆适于固定在转盘上；第一流体盘，第一流体盘设置在转盘和晶圆之间；第二流体盘，第二流体盘与第一流体盘关于晶圆相对设置，其中，第一流体盘和第二流体盘的朝向晶圆的表面上均设置有适于喷射流体的多个喷孔，流体包括氮气。通过设置第一流体盘和第二流体盘，第一流体盘内的流体可以通过相应的喷孔喷射在晶圆的下表面上，第二流体盘内的流体可以通过相应的喷孔喷射在晶圆的上表面上，从而可以有效清洗晶圆。当第一流体盘和第二流体盘内喷出的流体为氮气时，可以有效干燥晶圆的上表面和下表面，而且氮气可以有效去除晶圆的上表面和下表面上的残留水痕。
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公开(公告)号：CN108356708A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201810153961.4
申请日：2018-02-22
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种串接冷却的抛光转台及抛光转台冷却系统，所述串接冷却的抛光转台包括旋转部件、抛光盘、电机和冷却机构，抛光盘连接在旋转部件上，电机包括电机定子和电机转子，电机转子连接在旋转部件上，电机定子间隔开地设在电机转子的外侧以驱动旋转部件转动。冷却机构包括第一冷却通道和第二冷却通道，第一冷却通道形成在旋转部件内以对抛光盘冷却，第二冷却通道用于对电机定子冷却，在冷却液的流通方向上，第二冷却通道串联连接在第一冷却通道的下游。根据本发明实施例的串联冷却的抛光转台能够对电机定子，旋转部件及抛光盘均进行冷却，保证了电机及抛光盘的及时冷却，从而保证了抛光转台的晶圆抛光效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106378710A
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201610861615.2
申请日：2016-09-28
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: B24B53/017 , B24B49/16
Abstract: 本发明公开了一种修整器进气系统以及抛光机，修整器进气系统包括：真空源；与真空源相连的真空管路；压缩空气源；与压缩空气源相连的压缩空气管路；压缩空气控制阀，压缩空气控制阀用于调节压缩空气管路输出的压缩空气压力；修整器，修整器形成有加载腔室，加载腔室选择性地与真空管路和压缩空气管路相连；压力传感器，压力传感器用于检测加载腔室的压力；控制器，控制器根据压力传感器的检测结果通过压缩空气控制阀调节压缩空气管路输出的压缩空气压力。这样可以使得修整器压力控制精确，精确的压力控制可以使得修整器对抛光垫进行适当的修整，从而可以改善抛光效果。
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公开(公告)号：CN106312780A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610859516.0
申请日：2016-09-28
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
CPC classification number: B24B29/02 , B24B55/00 , H01L21/67092
Abstract: 本发明公开了一种抛光设备，包括：抛光装置，所述抛光装置包括：抛光盘以及位于所述抛光盘上表面的抛光垫，所述抛光装置沿所述抛光垫的中心轴线方向旋转；清洗装置，所述清洗装置位于所述抛光装置的上方，所述清洗装置设有至少一个向所述抛光垫喷射水的喷水孔，所述喷水孔的喷射方向与竖直方向呈一定夹角且与所述抛光装置的旋转方向相对。根据本发明实施例的抛光设备，喷水孔的喷射方向与竖直方向呈一定夹角且与抛光装置的旋转方向相对，从而提高了清洗装置的清洗效果，避免了晶片被刮伤，提高了晶片的产品质量。
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公开(公告)号：CN102581745B
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201210050639.1
申请日：2012-02-29
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明提出一种化学机械抛光传输机器人系统，包括：执行机构包括机器人本体和支撑装置，机器人本体包括爪、手爪翻转机构、小臂体、大臂体和套筒，支撑装置包括：直线导轨滑台和导轨丝杠；检测器用于检测执行机构的工作状态参数以生成检测信息；控制装置用于控制手爪的运动位移和运动角度，包括：上位控制器、主控制器、运动控制器、伺服驱动器、电机和编码器，上位机控制器用于接收用户输入的操作指令；编码器用于检测相应的电机的状态信息；主控制器用于生成执行机构的运动指令，运动控制器用于按照预设控制算法计算电机控制量；伺服驱动器用于计算相应电机的控制转矩；电机用于在相应的控制转矩的控制下驱动执行机构运动。
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公开(公告)号：CN103252705A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310180057.X
申请日：2013-05-15
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光设备。所述化学机械抛光设备包括：用于存放晶圆的晶盒装载装置；用于放置晶圆的晶圆过渡装置；第一机械手；化学机械抛光机；晶圆清洗装置，晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在第一容纳腔内第一晶圆支撑组件和设在第一本体上的晶圆清洗组件；晶圆刷洗装置，晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在第二容纳腔内的晶圆刷洗组件和第二晶圆支撑组件；晶圆干燥装置，晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在第三容纳腔内的晶圆干燥组件和第三晶圆支撑组件；和第二机械手。根据本发明实施例的化学机械抛光设备具有清洗效果好等优点。
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