半导体装置
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101233394A

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200680027408.1

    申请日:2006-07-20

    CPC classification number: H01L31/102 G01J1/44 H01L31/145 H04N5/2351

    Abstract: 本发明提供了一种能够探测从弱光到强光的光的光电转换器件,并且涉及一种光电转换器件,其具有:具有光电转换层的光电二极管;包括晶体管的放大器电路;以及开关,其中,当入射光的强度低于预定强度时,通过所述开关使所述光电二极管和所述放大器电路相互电连接,从而通过所述放大器电路将光电电流放大,以供输出,并且可以通过所述开关使所述光电二极管和部分或全部所述放大器电路电断开,从而按照放大系数降低光电电流,以供输出。根据这样的光电转换器件,能够探测从弱光到强光的光。

    制造半导体器件的方法
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1893033A

    公开(公告)日:2007-01-10

    申请号:CN200610100198.6

    申请日:2006-06-30

    CPC classification number: H01L27/1266 H01L27/1285 H01L27/1292

    Abstract: 本发明的一个目的在于提供制造半导体器件的方法,该方法消除了在将半导体元件形成在基片上后基片变薄或者除去基片的情形中,由于杂质元素或者水分等从外界进入而对半导体元件产生的影响。其一个特征是通过对基片进行表面处理在基片的至少一个侧面上形成起防护膜作用的绝缘薄膜,将半导体元件(比如薄膜晶体管)形成在所述绝缘薄膜上,和薄化所述基片。作为表面处理,对基片进行杂质元素的加入或者等离子处理。作为薄化基片的方法,通过对基片另一侧面进行研磨处理或者抛光处理等可以使基片被部分除去。

    半导体装置及其制造方法
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1873950A

    公开(公告)日:2006-12-06

    申请号:CN200610088624.9

    申请日:2006-05-31

    CPC classification number: H01L27/1266 H01L27/1214

    Abstract: 提供一种低成本和薄厚度的薄膜集成电路,不像常规玻璃基板或单晶硅基板,该薄膜集成电路适于大规模生产,以及一种薄膜集成电路装置或具有该薄膜集成电路的IC芯片的结构和工艺。半导体装置的制造方法包括以下步骤:在硅基板的一个表面上形成第一绝缘薄膜、在该第一绝缘薄膜上形成至少具有两个薄膜集成电路的层、形成覆盖该具有薄膜集成电路的层的树脂层、形成覆盖该树脂层的薄膜、研磨硅基板的形成具有薄膜集成电路的层的一个表面的背面,并抛光硅基板的研磨的表面。

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