半导体镀膜用掺杂改性元素锌基合金溅射靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN117660899A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311681209.4

    申请日:2023-12-08

    Abstract: 本发明涉及一种半导体镀膜用掺杂改性元素锌基合金溅射靶材的制备方法,属于金属溅射靶材材料制备领域。制备方法包括备料、合金化熔炼、离心铸造成形、同步水冷快速凝固和表面机加工等步骤。通过惰性气流保护冶炼、高频感应加热、浸入式加料、旋转叶片均匀搅拌、充压式离心铸造、同步水冷快速凝固以及表面机加工,可以制备圆形、矩形和异形不同规格尺寸的靶材。该制备方法可以解决活泼金属元素难以掺杂锌基溅射靶材难题,获得较高含量的掺杂元素成分合金,制得靶材具有内部元素掺杂分布均匀、晶粒尺寸小、体积缺陷少等优点,并且有效减少靶材机加工工作量,具备生产效率快、成品率高、成本低等优点。

    一种超声离心雾化制粉装置

    公开(公告)号:CN215144704U

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN202121433012.5

    申请日:2021-06-24

    Abstract: 一种超声离心雾化制粉装置,包括制备仓、中间包、导流管、伞状超声器、离心盘、充气管和收集仓;制备仓中由上至下依次设置中间包、导流管、伞状超声器和离心盘;中间包上具有加热装置,中间包顶部连接氮气管,并具有合金溶液浇铸口,中间包底部连接导流管;导流管下方为伞状超声器,超声器的上表面为伞面状;伞状超声器的下方为离心盘;制备仓的底部侧面具有充气管,制备仓的底部相对充气管的一侧依次设置多个收集仓。该装置可制备微米级合金粉,所制备的粉体具有较高的球形度、球形率,粉体的粒径均匀集中。

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