公开(公告)号：CN221549326U

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202323346941.4

申请日：2023-12-08

Applicant: 北京有色金属与稀土应用研究所有限公司

Inventor： 黄晓猛 ,  祁宇 ,  王玉庆 ,  吴河龙 ,  窦程亮 ,  宁书龙 ,  张震

IPC: F27B14/04 ,  C23C14/35 ,  F27B14/10 ,  F27B14/08 ,  F27B14/12 ,  F27B14/14 ,  F27D27/00

Abstract: 本实用新型涉及一种真空熔炼坩埚，属于真空熔炼设备和坩埚领域。该坩埚包括坩埚主体和坩埚盖，坩埚盖与坩埚主体之间通过螺纹密封连接，坩埚盖上设有进气管和出气管，以便坩埚主体内部抽真空和进、出保护性气体；坩埚盖中心设有可升降的陶瓷杆，陶瓷杆下部设有旋转叶片；坩埚主体下部设有一个出料口。该坩埚可满足半导体镀膜用掺杂改性元素锌基合金溅射靶材的真空熔炼及二次加料的需求，使制得靶材具有内部元素掺杂分布均匀、晶粒尺寸小、体积缺陷少等优点，并且利于大批量规模生产。