-
公开(公告)号：CN104007623B
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201410061770.7
申请日：2014-02-24
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。
-
公开(公告)号：CN102482533A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080038243.4
申请日：2010-08-23
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C09D183/04 , C09D183/14 , H01L21/312
Abstract: 本发明涉及倍半硅氧烷聚合物、在负型可光图案化介电配制剂中的倍半硅氧烷聚合物、使用含有倍半硅氧烷聚合物的可光图案化介电配制剂的形成构件的方法和由倍半硅氧烷聚合物制造的构件。
-
公开(公告)号：CN1619420A
公开(公告)日：2005-05-25
申请号：CN200410090474.6
申请日：2004-11-18
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/094 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0757
Abstract: 本发明提供了倍半硅氧烷聚合物，还提供了包含这种倍半硅氧烷聚合物的光刻胶组合物，其中至少部分倍半硅氧烷聚合物包含氟化残基，并且至少部分倍半硅氧烷聚合物包含具有低的酸催化分裂活化能的侧基可溶解性抑制环状缩酮酸不稳定残基。本发明的聚合物还包含促进光刻胶在碱性水溶液中的碱可溶性的侧基极性残基。本发明的聚合物尤其可用于正光刻胶组合物中。本发明包括使用这种光刻胶组合物在基底上形成图案状结构的方法，特别包括多层(例如双层)光刻方法，这些方法能够在例如193nm和157nm的波长生成高分辨率图像。
-
公开(公告)号：CN1295587A
公开(公告)日：2001-05-16
申请号：CN99804515.2
申请日：1999-02-19
Applicant: B·F·谷德里奇公司 , 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/039 , C08G61/02 , C08G61/08 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及环状聚合物和其在照相平版印刷应用中的用途。这些环状聚合物含有酸不稳定官能侧基和含保护的羟基部分的官能基团。这些聚合物通过使羟基侧基部分脱保护并使该含脱保护羟基的部分与共反应剂反应而进行后改性。发现这些后－官能化的聚合物可用于化学放大光刻胶组合物中。
-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101288027B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN200680034135.3
申请日：2006-08-21
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0045 , C07J9/005 , C07J17/00 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , Y10S430/115
Abstract: 一种光致抗蚀剂组合物，它包括：聚合物；光致产酸剂；和溶解改性剂。使用该光致抗蚀剂组合物和溶解改性剂组合物，形成图像的方法。该溶解改性剂不溶于含水碱性显影剂内且抑制聚合物在显影剂内溶解，直到通过光致产酸剂暴露于光化辐射线下生成酸，其中溶解改性剂在合适的温度下变为可溶于显影剂内，并允许聚合物溶解在显影剂中。该溶解改性剂是用酸不稳定性的乙氧基乙基、四氢呋喃基和当归内酯基保护的葡糖苷、胆酸酯、柠檬酸酯和金刚烷二羧酸酯。
-
公开(公告)号：CN102597138B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201080049821.4
申请日：2010-09-14
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C09D143/04 , G03F7/075 , G03F7/00
CPC classification number: C09D143/04 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开了涂料组合物，其包含其中R1为含硅结构部分，R2为酸稳定的内酯官能团，且R3为酸不稳定的内酯官能团；X1、X2、X3独立地为H或CH3；和m和o为非零正整数且n为零或正整数(表示重复单元数)的聚合物(I)、光酸产生剂和溶剂。本发明还公开了在含有相同组分的涂料组合物中形成图案的方法。
-
公开(公告)号：CN102317350A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080008226.6
申请日：2010-02-18
CPC classification number: C08G69/28 , B01D61/025 , B01D61/027 , B01D67/0006 , B01D69/02 , B01D69/125 , B01D71/56 , B01D2323/40 , B01D2325/30 , C08G69/26 , C08G69/42 , Y02A20/131
Abstract: 聚合物膜包括载体上的活性层。活性层包括具有骨架的聚合物，和所述骨架附着至少一种氟代醇部分。
-
公开(公告)号：CN101164013B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200680004726.6
申请日：2006-02-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了在光致抗蚀剂材料上涂施的表面涂料。该表面涂料包含至少一种溶剂和在含水碱性显影剂中具有至少3000A/秒的溶解速率的聚合物。该聚合物含有六氟醇单体单元，该单元包含下列两种结构之一：(I)，其中n是整数。该表面涂料可用在光刻法中，其中将该表面涂料涂施在光致抗蚀剂层上。表面涂料优选不溶于水，因此特别可用在使用水作为成像介质的浸渍光刻技术中。
-
公开(公告)号：CN101288027A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200680034135.3
申请日：2006-08-21
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0045 , C07J9/005 , C07J17/00 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , Y10S430/115
Abstract: 一种光致抗蚀剂组合物，它包括：聚合物；光致产酸剂；和溶解改性剂。使用该光致抗蚀剂组合物和溶解改性剂组合物，形成图像的方法。该溶解改性剂不溶于含水碱性显影剂内且抑制聚合物在显影剂内溶解，直到通过光致产酸剂暴露于光化辐射线下生成酸，其中溶解改性剂在合适的温度下变为可溶于显影剂内，并允许聚合物溶解在显影剂中。该溶解改性剂是用酸不稳定性的乙氧基乙基、四氢呋喃基和当归内酯基保护的葡糖苷、胆酸酯、柠檬酸酯和金刚烷二羧酸酯。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
29
records
(took 0.03 seconds)
