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公开(公告)号:CN109830548A
公开(公告)日:2019-05-31
申请号:CN201810538676.4
申请日:2018-05-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L31/028 , H01L31/0352 , H01L31/107 , H01L27/146 , G01S17/08
Abstract: 具有小形状尺寸并相对于可见光和红外线两者具有高探测效率的一种光电探测器可以包括第一电极、在第一电极上的收集层、在收集层上的隧道势垒层、在隧道势垒层上的石墨烯层、在石墨烯层上的发射层以及在发射层上的第二电极。该光电探测器可以被包括在图像传感器中。一种图像传感器可以包括基板、在基板上的绝缘层和在绝缘层上的多个光电探测器。光电探测器可以在平行于或垂直于绝缘层的顶表面延伸的方向上彼此对准。光电探测器可以被包括在LiDAR系统中。
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公开(公告)号:CN105280594B
公开(公告)日:2019-05-31
申请号:CN201510042066.1
申请日:2015-01-28
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/482 , H01L21/60
CPC classification number: H01L29/1606 , H01L21/187 , H01L21/28512 , H01L23/485 , H01L29/1037 , H01L29/165 , H01L29/41725 , H01L29/45 , H01L29/456 , H01L29/7781 , H01L29/7839 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨烯‑金属接合结构、制造石墨烯‑金属接合结构的方法和包括该石墨烯‑金属接合结构的半导体器件。根据示例实施方式,一种石墨烯‑金属接合结构包括:石墨烯层;在石墨烯层上的金属层;以及在石墨烯层和金属层之间的中间材料层。中间材料层从中间材料层中包含的材料的接触金属层的边界部分与金属层形成边缘接触。
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公开(公告)号:CN107359686A
公开(公告)日:2017-11-17
申请号:CN201710325561.2
申请日:2017-05-10
IPC: H02J7/32
Abstract: 本发明公开了一种摩擦电发生器,该摩擦电发生器包括构造为通过滑动运动而彼此接触的第一充电部和第二充电部。此外,该摩擦电发生器包括构造为将电荷储存器间歇地连接到第二充电部的接地单元。接地单元被构造为改变第二充电部的电位从而放大在该摩擦电发生器的电极之间流动的电流。
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公开(公告)号:CN106410002A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:CN201610601246.3
申请日:2016-07-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L33/14
Abstract: 本发明涉及包括扩散阻挡层的多层结构体、包括其的器件和电子器件。所述多层结构体包括第一材料层、第二材料层、和扩散阻挡层。所述第二材料层连接至所述第一材料层。所述第二材料层与所述第一材料层隔开。所述扩散阻挡层在所述第一材料层和所述第二材料层之间。所述扩散阻挡层可包括二维(2D)材料。所述2D材料可为非基于石墨烯的材料,如具有2D晶体结构的基于金属硫属化物的材料。所述第一材料层可为半导体或绝缘体,且所述第二材料层可为导体。所述多层结构体的至少一部分可构成用于电子器件的互连。
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公开(公告)号:CN105280594A
公开(公告)日:2016-01-27
申请号:CN201510042066.1
申请日:2015-01-28
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/482 , H01L21/60
CPC classification number: H01L29/1606 , H01L21/187 , H01L21/28512 , H01L23/485 , H01L29/1037 , H01L29/165 , H01L29/41725 , H01L29/45 , H01L29/456 , H01L29/7781 , H01L29/7839 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨烯-金属接合结构、制造石墨烯-金属接合结构的方法和包括该石墨烯-金属接合结构的半导体器件。根据示例实施方式,一种石墨烯-金属接合结构包括:石墨烯层;在石墨烯层上的金属层;以及在石墨烯层和金属层之间的中间材料层。中间材料层从中间材料层中包含的材料的接触金属层的边界部分与金属层形成边缘接触。
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公开(公告)号:CN101462718A
公开(公告)日:2009-06-24
申请号:CN200810170303.2
申请日:2008-10-10
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C01B31/04
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y30/00 , C01B3/0021 , C01B32/15 , C01B32/18 , C01B32/184 , C01B2204/02 , C01B2204/04 , Y02E60/325
Abstract: 本发明公开了一种制备石墨烯壳的方法和一种使用该方法制备的石墨烯壳。对有机溶剂和石墨化催化剂的混合物执行第一热处理工艺,以便用从有机溶剂分解的碳对石墨化催化剂进行渗碳。石墨化催化剂为颗粒的形式。在惰性气体氛围或还原性气体氛围下对渗碳石墨化催化剂执行第二热处理工艺,从而在渗碳石墨化催化剂的表面上形成石墨烯壳。
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