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公开(公告)号：CN101851769B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200910168343.8
申请日：2006-03-31
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: C25D1/04 , C25D3/38 , C25D5/48 , H05K1/0393 , H05K1/09 , H05K2201/0355 , Y10T428/12451 , Y10T428/12472 , Y10T428/12882 , Y10T428/12903 , Y10T428/12993 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明的目的是提供一种电解铜箔，其与以往市场上供给的低轮廓电解铜箔相比，为更低的低轮廓而且具有光泽。为了达成该目的，采用一种电解铜箔，其具有与厚度无关的析出面侧的表面粗糙度(Rzjis)低于1.0μm的超低轮廓，且该析出面的光泽度[Gs(60°)]为400以上。而且还提供一种电解铜箔的制造方法，其是对硫酸类铜电解液进行电解而得到电解铜箔的方法，该硫酸类铜电解液含有3-巯基-1-丙磺酸及/或二(3-磺基丙基)二硫化物、具有环状结构的季铵盐聚合物以及氯。
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公开(公告)号：CN101517131B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200780035397.6
申请日：2007-10-02
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C25D3/38
CPC classification number: C25D3/38
Abstract: 本发明目的是提供一种硫酸酸性铜电解液，其中，相对于铜电解液使用单硫化物类药品作为添加剂，从而可在紧接着建浴之后稳定地获得平滑的光泽性优异的电析铜薄膜。为了达到该目的，在添加有已提出的用于形成具有光泽的电析铜薄膜的活性硫化合物磺酸盐的硫酸酸性铜电解液中，使用双(3-磺丙基)二硫化物作为添加剂。该双(3-磺丙基)二硫化物，是从3-巯基-1-丙磺酸的水溶液通过氧化反应将3-巯基-1-丙磺酸转化为双(3-磺丙基)二硫化物而得到。在该氧化反应中，为了防止3-巯基-1-丙磺酸的氧化分解优选采用空气鼓泡法。
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公开(公告)号：CN101395304B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200780007910.0
申请日：2007-03-09
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: H05K3/384 , C25D1/04 , C25D3/38 , C25D5/16 , C25D5/18 , C25D5/48 , C25D7/06 , H05K2201/0355 , H05K2203/0307 , H05K2203/0723 , H05K2203/1476 , Y10T428/12438 , Y10T428/12451 , Y10T428/12472 , Y10T428/12882 , Y10T428/12903 , Y10T428/12993 , Y10T428/24355 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明的目的在于提供一种表面处理电解铜箔及其制造方法，该表面处理电解铜箔具有与以往供给市场的低轮廓表面处理电解铜箔同等水平以上的低轮廓，且对布线直线性有影响的波纹小。为了达到该目的，制造与绝缘层构成材料的粘接面的波纹的最大高低差(Wmax)为0.05μm～0.7μm、凹凸的最大高低差(PV)为0.05～1.5μm、表面粗糙度(Rzjis)为0.1μm～1.0μm的表面处理电解铜箔。用于该表面处理电解铜箔的制造中的电解铜箔，采用如下的电解条件加以制造：采用添加3—巯基—1—丙磺酸或双(3—磺丙基)二硫化物和具有环状结构的季铵盐聚合物以及氯而得到的硫酸类铜电解液，用表面粗糙度小的阴极，以不同的两个标准以上的电流密度来实施连续的第一步电解至第n步电解。
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公开(公告)号：CN101297067A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200680039678.4
申请日：2006-10-31
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可有效形成比以往市场上供应的低轮廓电解铜箔的轮廓更低且机械强度优良的电解铜箔的制造方法。为了达成上述目的，采用了下述电解铜箔的制造方法等，其电解含有具有环状结构的季铵盐聚合物和氯的硫酸系铜电解液来得到电解铜箔，上述硫酸系铜电解液中含有的季铵盐聚合物使用二聚体以上的DDAC聚合物。另外，在该季铵盐聚合物中，优选使用数均分子量为300～10000的二烯丙基二甲基氯化铵。另外，上述硫酸系铜电解液优选含有双(3－磺丙基)二硫化物或者含有具有巯基的化合物3－巯基－1－丙磺酸。
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公开(公告)号：CN1238556C
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN00133152.3
申请日：2000-10-25
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C23C22/07
Abstract: 含铝镁合金表面用含高锰酸或锰酸的水溶性盐换算成KMnO4为2g/L以上，溶解度以下、水溶性磷酸盐换算成Na3PO4为0.05～100g/L、醋酸为0.05～100ml/L、醋酸钠为0.05～50g/L、pH7以下、液温288～368K的处理液进行化学处理0.3～10分钟的高腐蚀性表面处理镁合金制品的法，及用该制法得到的Mn附着量为100～600mg/m2、P附着量为200mg/m2以下、CH3COO-附着量为0.01～1000mg/m2的高耐腐蚀性表面处理镁合金制品。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1714463A
公开(公告)日：2005-12-28
申请号：CN200380103987.X
申请日：2003-11-25
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Abstract: 本发明公开了一种非水电解液二次电池用负极，其特征是，在集电体的单面或两面上形成含有锂化合物的形成能力低的导电性材料的活性物质结构体，在该活性物质结构体中含有5－80重量％的含有锂化合物的形成能力高的材料的活性物质粒子。上述活性物质结构体优选具有含上述活性物质粒子的活性物质层及位于该活性物质层上的表面被覆层。
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公开(公告)号：CN1711654A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200380102999.0
申请日：2003-12-17
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Abstract: 本发明公开了一种非水电解液二次电池用负极。该负极具备：表面与电解液接触的一对集电用表面层、和介于该对表面层间且含有锂化合物的形成能力高的活性物质粒子的至少一层活性物质层。优选的是，构成上述面的材料浸透到上述活性物质层的厚度方向整个区域，使得两面电导通，整个电极成为一体而具有集电功能。上述表面层的厚度优选为0.3－10μm。
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公开(公告)号：CN1650448A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN03809367.7
申请日：2003-04-21
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: H01M4/134 , H01M4/0402 , H01M4/0404 , H01M4/043 , H01M4/0435 , H01M4/0438 , H01M4/045 , H01M4/0452 , H01M4/0471 , H01M4/366 , H01M4/38 , H01M4/387 , H01M4/405 , H01M10/052 , H01M2004/027
Abstract: 本发明涉及一种非水电解液二次电池用负极，在集电体表面上形成着包含锡、锡合金、铝或铝合金的第一被覆层，在其上面形成着包含锂化合物的形成能低的金属的第二被覆层。也可以进一步在第二被覆层的上面形成第一被覆层。也可以进一步形成包含铜等的被覆层作为最上层。通过用热处理形成各被覆层，就能够得到期望的性能。由于热处理在非常短的时间内完成，故成本价值大。
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公开(公告)号：CN1116789C
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN97114996.8
申请日：1997-06-16
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: H05K3/244 , C23C28/00 , C23C28/3225 , C23C28/345 , C23C28/347 , H05K3/282 , H05K2201/0355 , H05K2203/124 , Y10S428/901 , Y10T428/12556 , Y10T428/12611 , Y10T428/12792 , Y10T428/12903 , Y10T428/273
Abstract: 提供改善耐伤性、其结果能使铜箔最小限度地发生伤痕和裂纹、而且能防止树脂粒子向铜箔的附着的印刷电路板制造用铜箔和该铜箔的制造方法。具备在表面上由锌或锌合金组成的第1层、以及为了具有提高的耐伤性由具有充分厚度的苯并三唑或其衍生物组成的第2层的印刷电路板用铜箔。
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公开(公告)号：CN1294203A
公开(公告)日：2001-05-09
申请号：CN00133152.3
申请日：2000-10-25
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C23C22/07
Abstract: 含铝镁合金表面用含高锰酸或锰酸的水溶性盐换算成KMnO4为2g/L以上,溶解度以下、水溶性磷酸盐换算成Na3PO4为0.05～100g/L、醋酸为0.05～100ml/L、醋酸钠为0.05～50g/L、pH7以下、液温288～368K的处理液进行化学处理0.3～10分钟的高腐蚀性表面处理镁合金制品的方法,及用该制法得到的Mn附着量为100～600mg/m2、P附着量为200mg/m2以下、CH3COO－附着量为0.01～1000mg/m2的高耐腐蚀性表面处理镁合金制品。
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