铜箔的表面参数的测定方法、铜箔的筛选方法以及表面处理铜箔的制造方法

    公开(公告)号:CN117916553B

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202180101984.0

    申请日:2021-12-22

    Abstract: 提供一种表示与高频特性高度相关的铜箔的表面参数的测定方法。该铜箔的表面参数的测定方法包括以下工序:工序(a),获得未处理铜箔的至少一个表面的表面轮廓的工序;工序(b),基于表面轮廓设定L滤波器的截止值的工序;工序(c),获得源自未处理铜箔的表面处理铜箔的至少一个表面的表面轮廓的工序;工序(d),对表面处理铜箔的表面轮廓进行滤波处理的工序,其中包括使用上述截止值的L滤波器进行处理的步骤;和工序(e),基于滤波处理后的表面轮廓,计算表面处理铜箔的表面的、ISO25178所规定的表面参数中的至少1种的工序。

    铜箔的表面参数的测定方法、铜箔的筛选方法以及表面处理铜箔的制造方法

    公开(公告)号:CN117916553A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202180101984.0

    申请日:2021-12-22

    Abstract: 提供一种表示与高频特性高度相关的铜箔的表面参数的测定方法。该铜箔的表面参数的测定方法包括以下工序:工序(a),获得未处理铜箔的至少一个表面的表面轮廓的工序;工序(b),基于表面轮廓设定L滤波器的截止值的工序;工序(c),获得源自未处理铜箔的表面处理铜箔的至少一个表面的表面轮廓的工序;工序(d),对表面处理铜箔的表面轮廓进行滤波处理的工序,其中包括使用上述截止值的L滤波器进行处理的步骤;和工序(e),基于滤波处理后的表面轮廓,计算表面处理铜箔的表面的、ISO25178所规定的表面参数中的至少1种的工序。

    铜箔的表面参数的测定方法以及铜箔的筛选方法

    公开(公告)号:CN117881942B

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202280059044.4

    申请日:2022-12-14

    Abstract: 提供一种能够简便地获得表示与高频特性高度相关的铜箔的表面参数的测定方法。该方法包括以下工序:工序(a),获得作为参比的表面处理铜箔的表面轮廓的工序;工序(b),设定L滤波器的截止值的工序,其中,截止值以如下方式设定:(i)使用L滤波器处理后的算术平均高度Sa满足0.5μm以下,并且(ii)使用L滤波器处理前后的界面扩展面积比Sdr的变化率或α值的变化率满足80%以下;工序(c),获得作为测定对象的表面处理铜箔的表面轮廓的工序;工序(d),针对测定对象铜箔,对获得的表面轮廓进行滤波处理的工序;和工序(e),基于滤波处理后的表面轮廓,计算测定对象铜箔的、ISO25178所规定的表面参数中的至少1种的工序。

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