公开(公告)号：CN1655337A

公开(公告)日：2005-08-17

申请号：CN200410082279.9

申请日：2004-12-01

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 宫成淳 ,  土井宏介 ,  宫城贤 ,  稻尾吉浩 ,  三隅浩一

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/304 ,  B24B37/04

CPC classification number: H01L21/6835 ,  H01L21/6836 ,  H01L21/78 ,  H01L2221/68318 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  Y10T428/28

Abstract: 本发明的课题在于提供：在对半导体晶片等基板薄板化时，难以产生基板的裂纹或缺口的基板粘附方法。解决课题的方法为：在半导体晶片W的电路(元件)形成面涂敷粘合剂液，预干燥该粘合剂液以降低流动性，可以维持粘合剂层1的形状。使用烤箱预干燥例如在80℃下加热5分钟。粘合剂层1的厚度由在半导体晶片W的表面形成的电路的凹凸来决定。然后，在形成规定厚度的粘合剂层1的半导体晶片W上粘附支承板2。

公开(公告)号：CN1612273A

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：CN200410089821.3

申请日：2004-11-01

Applicant: 学校法人早稻田大学 ,  冲电气工业株式会社 ,  东京応化工业株式会社

Inventor： 逢坂哲弥 ,  小岩一郎 ,  桥本晃 ,  佐藤善美

IPC: H01G4/33 ,  H01G4/06 ,  H01L21/822 ,  H01L27/04

CPC classification number: H01G4/33 ,  H01G4/008 ,  H01G4/1227 ,  H01G13/006 ,  H05K1/162 ,  H05K3/388 ,  H05K2201/0175 ,  H05K2201/0179 ,  H05K2203/016 ,  Y10T29/42 ,  Y10T29/43 ,  Y10T29/435 ,  Y10T29/49147 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T29/49165 ,  Y10T29/49169

Abstract: 本发明提供不损害高密度组装衬底的电特性和尺寸特性，可内置在衬底内、并且具有充分的电容的薄膜电容器、薄膜电容器内置型高密度组装衬底、以及薄膜电容器的制造方法。制造下述结构的薄膜电容器，作为半导体布线板的内置用无源部件使用：至少具有高介电层和从上下夹住它的上部电极层和下部电极层而构成，上述上部和下部电极层的触点部引出到上述上部电极之上，上述高介电层的膜厚为200nm－50nm。

公开(公告)号：CN1603953A

公开(公告)日：2005-04-06

申请号：CN200410095130.4

申请日：2004-09-30

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 谷津克也

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供作为适用于形成液晶显示元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子部件的保护膜和层间绝缘膜的感光性树脂组合物所希望的所谓“由于能形成透明性、耐热性、平整性优异的保护膜或层间绝缘膜，且涂布性、显影性优异，即使在大型衬底上也可容易形成均匀被膜，并且贮存稳定性良好”的特性得到更进一步提高的感光性树脂组合物以及使用其的图案形成的方法。本发明使构成组分至少为(a)不饱和羧酸或不饱和羧酸酐与含环氧基的聚合性不饱和化合物的共聚物、(b)必须具有苯乙烯和/或苯乙烯衍生物单体单元和不饱和有机酸单体单元的聚合物、(c)含有醌二叠氮基的化合物和(d)有机溶剂，并使与上述(b)聚合物的组成比平均值偏离超过3％的组成比的聚合物，相对于该(b)聚合物的含有比例为20质量％以下。

公开(公告)号：CN1183423C

公开(公告)日：2005-01-05

申请号：CN98123405.4

申请日：1998-10-14

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 水泽龙马 ,  中里俊二 ,  带谷洋之

IPC: G03F7/035

CPC classification number: G03F7/0325 ,  B24C1/04 ,  G03F7/34 ,  H05K3/0076 ,  H05K3/04 ,  Y10S430/112

Abstract: 公开了一种砂磨用的光敏组合物和具有包括该组合物的光敏层的光敏膜。所述光敏组合物包括至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，光致聚合引发剂，和选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素的至少一种纤维素衍生物。该组合物显示出优良的与基片粘性、高感光度和高耐砂磨性。

公开(公告)号：CN1428658A

公开(公告)日：2003-07-09

申请号：CN02160473.8

申请日：2002-12-27

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 中村彰彦 ,  宫成淳

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027

Abstract: 一种可缩短厚膜抗蚀剂的显影时间，而且可对大型被处理物进行显影的紧凑的显影装置及显影方法。本发明的显影装置是通过热交换器一边对从显影液供给罐供给的显影液进行温度调节、一边将其供给到显影槽的显影装置，将被处理物纵向保持在上述显影槽内，进行单张处理，并且，边使经过温度调节的显影液在显影装置内循环、边进行显影处理。

公开(公告)号：CN1736923B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200510088568.4

申请日：2005-08-04

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 石桥知淳 ,  楫间淳生 ,  吉泽健司

IPC: C03C17/00

Abstract: 本发明提供一种即使连续地进行多次的喷射(涂敷)、也能够使每次喷射的涂敷液的排出量为一定的涂敷装置及涂敷方法。在第一次的喷射结束后，关闭开闭阀(14、21)，将开闭阀(11)打开，并且使注射泵(9)返回到原来的位置，经由脱气模块(8)再次向涂敷液储存空间(S)内送入涂敷液。此时的涂敷液储存空间(S)内因用于防止来自外部的气体的卷入的剩余压力而成为正压。之后，关闭开闭阀(11)，同时将分支配管(15)的开闭阀(17)打开。这样一来，与上述同样地，涂敷液储存空间(S)内的剩余压力被除去而降低到接近于大气压的压力。这样，通过在每次喷射前除去涂敷液储存空间(S)内的剩余压力，能够将每次喷射的排出前状态始终保持在一定的状态。

公开(公告)号：CN100505204C

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200510137331.0

申请日：2005-11-29

Applicant: 东京応化工业株式会社 ,  龙云株式会社

Inventor： 谷本恒夫 ,  楫间淳生 ,  高濑真治 ,  山口和伸

IPC: H01L21/68

Abstract: 提供一种即使基板大型化也不损伤基板的、能够正确定位的定位装置。在使滑动部件(6)后退的状态下，通过使压力缸单元(2)工作，使支持部件(3)上升，在浮起部件(8)的接受部分(11)的上面接受基板(W)，然后，通过使压力缸单元(2)工作以使支持部件(3)下降，基板(W)和对准部件(5)的滑动部件(6)处于同一水平，通过切换阀，浮起部件(8)的配管(12)与压缩空气源连接，从浮起部件(8)的接受部分(11)上面的槽(16、17)喷出空气，基板(W)从接受部分(11)的上面浮起，使对准部件(5)的滑动部件(6)前进，推杆(7)与基板(W)的边缘接触以进行定位。

公开(公告)号：CN100496766C

公开(公告)日：2009-06-10

申请号：CN200510081770.4

申请日：2005-06-14

Applicant: 东京応化工业株式会社 ,  龙云株式会社

Inventor： 山口和伸 ,  高濑真治 ,  楫间淳生 ,  宇野宏 ,  山本夕记

IPC: B05C11/08 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明提供即使内杯大直径化也能简单地调整旋转平衡的旋转涂敷装置。在内杯用盖体(14)的上表面上用小螺丝(18)固定有爪部件(17)。另一方面，在内杯(13)的外周面上，在对应上述爪部件(17)的位置上安装有爪承接部件(20)。爪承接部件(20)由卡合部(21)和平衡重插装部(22)构成，在卡合部(21)上形成有嵌入凹锥状的凹部(19)的凸锥状的凸部(23)，在平衡重插装部(22)上形成有插入平衡重(24)的孔(25)。

公开(公告)号：CN100481371C

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200510124975.6

申请日：2005-10-04

Applicant: 东京応化工业株式会社 ,  龙云株式会社

Inventor： 楫间淳生 ,  高濑真治 ,  山口和伸 ,  山本夕记

IPC: H01L21/687 ,  G02F1/13 ,  G03F7/26

Abstract: 提供一种支持将多个基板截取为多个的大型基板时、使销与裁断预定线重叠的基板承载台。在支持板(2)上安装多个固定销(3)。在该固定销(3)的俯视位置，配置在与承载在该基板承载台上的大型基板W的有效区域外的外周缘L1相重叠的位置上，另外还配置在大型基板截取为2个时的裁断预定线L2相重叠的位置上。另一方面，在上述支持板(2)中形成的通孔(4)中插入可动销(5)，各个可动销(5)配置在与大型基板进行进一步截取的裁断预定线L3、L4相重叠的位置上。然后将横方向的可动销(5)共同地安装在支持板(2)下方的连结板(6)上，通过驱动压力缸组件(8)使横方向的可动销(5)同时升降。

公开(公告)号：CN100450643C

公开(公告)日：2009-01-14

申请号：CN200510067722.X

申请日：2005-03-24

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 岛井太 ,  河田茂

IPC: B05C11/10 ,  B05C11/00 ,  B05C5/02

Abstract: 本发明的目的是提供一种狭缝喷嘴调整装置和使用所述调整装置的狭缝喷嘴调整方法，不发生狭缝喷嘴清洗不均匀，而且能够节约清洗液，结构紧凑。开有所定宽度的涂敷液喷出口的狭缝喷嘴前端的调整装置由清洗狭缝喷嘴的浸渍式清洗部、干燥清洗后的喷嘴的干燥部及调整狭缝喷嘴的喷出口的预混合部构成？，而且设置在同一装置上。浸渍式清洗部在超过一定时间不使用狭缝喷嘴时兼作干燥防止部，保持浸渍狭缝喷嘴的前端。