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公开(公告)号：CN104391429B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201410593866.8
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/20
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1‑1)和(1‑2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN101772735B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200880101869.8
申请日：2008-07-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , H01L21/027
CPC classification number: C08F220/12 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供作为抗蚀剂的基本物性优异、并且形成接触孔图案时的圆形性和CD均匀性优异的放射线敏感性树脂组合物。本放射线敏感性树脂组合物是含有在酸的作用下成为碱可溶性的含有酸解离性基团的树脂(A)、酸发生剂(B)和溶剂(C)的放射线敏感性树脂组合物，上述树脂(A)含有下述通式(1)和(2)表示的各重复单元。。R1和R2各自表示氢原子或碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，R3表示碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，X表示氢原子、羟基或酰基，m为1～18的整数，n为4～8的整数。
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公开(公告)号：CN1432873A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02160643.9
申请日：2002-06-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/038
CPC classification number: C07C309/23 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/114 , Y10S430/115
Abstract: 提供了一种含有下式(I)的结构的新的光致酸发生剂，其中R表示具有小于或等于50％的氟含量的一价有机基团、硝基、氰基或氢原子，Z1和Z2各自是氟原子或直链或支链有1－10个碳原子的全氟烷基。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。
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公开(公告)号：CN1332205A
公开(公告)日：2002-01-23
申请号：CN01124927.7
申请日：2001-06-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/08 , C08K5/10
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0233 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构,其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基,或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基,X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基,R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基,或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基、该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状,可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。
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公开(公告)号：CN104391429A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201410593866.8
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/20
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102597878A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080045526.1
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/22
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN101533224A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200910126173.7
申请日：2003-10-23
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物，该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由通式(I－1)表示的重复单元(1－1)、以及、由通式(I－2)表示的重复单元(1－2)或由通式(I－5)表示的重复单元(1－5)，为碱难溶性或不溶性的、通过酸的作用而变成碱易溶性的树脂、以及〔B〕感放射线性酸发生剂；其中，上述树脂中没有内酯环，在构成上述树脂的总重复单元的合计量为100摩尔％的情况下，上述重复单元(1－1)的含有比例为40～90摩尔％。
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公开(公告)号：CN100374506C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN01124927.7
申请日：2001-06-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/08 , C08K5/10
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0233 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构，其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1-6碳烷基，或不带有酸不稳定基的2-7碳烷羰基，X1表示带有1-4个碳原子的直链的或支化氟化烷基，R2表示氢原子、带有1-10个碳原子的直链的或支化烷基，或带有1-10个碳原子的直链的或支化氟化烷基。该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。
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公开(公告)号：CN1276303C
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN02160643.9
申请日：2002-06-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C07C309/23 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/114 , Y10S430/115
Abstract: 提供了一种含有下式(I)的结构的新的光致酸发生剂，其中R表示具有小于或等于50%的氟含量的一价有机基团、硝基、氰基或氢原子，Z1和Z2各自是氟原子或直链或支链有1-10个碳原子的全氟烷基。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。
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公开(公告)号：CN102109760B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201110008725.1
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含氟聚合物作为光致抗蚀剂用添加剂的感放射线性树脂组合物形成光致抗蚀剂被膜的步骤，其中，所述含氟聚合物采用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为1000～50000，在形成上述光致抗蚀剂被膜时与水的后退接触角为70度以上；将波长193nm处的折射率比空气的折射率大的液浸曝光用液体介于透镜与光致抗蚀剂被膜之间并对其进行放射线照射的步骤；以及现影上述曝光的光致抗蚀剂被膜的步骤。
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