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公开(公告)号：CN102077144A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200980125353.1
申请日：2009-07-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0035 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , H01L21/0273
Abstract: 本发明提供一种抗蚀图不溶化树脂组合物，其是在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用的抗蚀图不溶化树脂组合物，其包含具有规定的重复单元的树脂和溶剂，所述工序为：工序(1)利用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀图；工序(2)在第一层抗蚀图上形成不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)利用第二正型放射线敏感性树脂组合物形成第二抗蚀剂层，并介由掩模进行曝光；工序(4)显影而形成第二抗蚀图。
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公开(公告)号：CN101772735A
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200880101869.8
申请日：2008-07-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , H01L21/027
CPC classification number: C08F220/12 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供作为抗蚀剂的基本物性优异、并且形成接触孔图案时的圆形性和CD均匀性优异的放射线敏感性树脂组合物。本放射线敏感性树脂组合物是含有在酸的作用下成为碱可溶性的含有酸解离性基团的树脂(A)、酸发生剂(B)和溶剂(C)的放射线敏感性树脂组合物，上述树脂(A)含有下述通式(1)和(2)表示的各重复单元。[R1和R2各自表示氢原子或碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，R3表示碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，X表示氢原子、羟基或酰基，m为1～18的整数，n为4～8的整数。]。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102099749A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200980127664.1
申请日：2009-07-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/34 , C08F220/36 , G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/40 , C08F220/22
Abstract: 本发明提供正型放射线敏感性组合物，其可用于包含进行二次曝光作为规定工序的抗蚀图案形成方法，所述正型放射线敏感性组合物含有(B)具有酸不稳定基团和交联基团的聚合物、(C)放射线敏感性酸产生剂和(D)溶剂。
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公开(公告)号：CN102077144B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200980125353.1
申请日：2009-07-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0035 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , H01L21/0273
Abstract: 本发明提供一种抗蚀图不溶化树脂组合物，其是在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用的抗蚀图不溶化树脂组合物，其包含具有规定的重复单元的树脂和溶剂，所述工序为：工序(1)利用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀图；工序(2)在第一层抗蚀图上形成不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)利用第二正型放射线敏感性树脂组合物形成第二抗蚀剂层，并介由掩模进行曝光；工序(4)显影而形成第二抗蚀图。
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公开(公告)号：CN103019030A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210352806.8
申请日：2012-09-20
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种微透镜的形成方法、微透镜及负型感光性组成物，所述微透镜的形成方法的特征在于包含：步骤1：于基板上形成负型感光性组成物的覆膜的步骤，所述负型感光性组成物含有聚硅氧烷（A）、光产酸剂（B）及具有保护基的胺（C）；步骤2：对所述覆膜进行选择性曝光，对所曝光的覆膜进行显影的步骤；及步骤3：对显影后的覆膜进行加热的步骤。利用本发明的微透镜的形成方法，可形成耐热性优异的微透镜。本发明的负型感光性组成物可使用所述微透镜的形成方法，从而形成耐热性优异的微透镜。
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公开(公告)号：CN101772735B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200880101869.8
申请日：2008-07-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , H01L21/027
CPC classification number: C08F220/12 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供作为抗蚀剂的基本物性优异、并且形成接触孔图案时的圆形性和CD均匀性优异的放射线敏感性树脂组合物。本放射线敏感性树脂组合物是含有在酸的作用下成为碱可溶性的含有酸解离性基团的树脂(A)、酸发生剂(B)和溶剂(C)的放射线敏感性树脂组合物，上述树脂(A)含有下述通式(1)和(2)表示的各重复单元。。R1和R2各自表示氢原子或碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，R3表示碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，X表示氢原子、羟基或酰基，m为1～18的整数，n为4～8的整数。
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公开(公告)号：CN103019030B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201210352806.8
申请日：2012-09-20
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种微透镜的形成方法、微透镜及负型感光性组成物，所述微透镜的形成方法的特征在于包含：步骤1：于基板上形成负型感光性组成物的覆膜的步骤，所述负型感光性组成物含有聚硅氧烷（A）、光产酸剂（B）及具有保护基的胺（C）；步骤2：对所述覆膜进行选择性曝光，对所曝光的覆膜进行显影的步骤；及步骤3：对显影后的覆膜进行加热的步骤。利用本发明的微透镜的形成方法，可形成耐热性优异的微透镜。本发明的负型感光性组成物可使用所述微透镜的形成方法，从而形成耐热性优异的微透镜。
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