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公开(公告)号：CN102597878B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201080045526.1
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/22
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102498439A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080041184.6
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]——A——R1(x)。
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公开(公告)号：CN104391429A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201410593866.8
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/20
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102597878A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080045526.1
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/22
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN103472674B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201310320010.9
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、‑CO‑O‑*或者‑SO2‑O‑*(“*”表示与R1结合的结合位点)]。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101772735A
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200880101869.8
申请日：2008-07-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , H01L21/027
CPC classification number: C08F220/12 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供作为抗蚀剂的基本物性优异、并且形成接触孔图案时的圆形性和CD均匀性优异的放射线敏感性树脂组合物。本放射线敏感性树脂组合物是含有在酸的作用下成为碱可溶性的含有酸解离性基团的树脂(A)、酸发生剂(B)和溶剂(C)的放射线敏感性树脂组合物，上述树脂(A)含有下述通式(1)和(2)表示的各重复单元。[R1和R2各自表示氢原子或碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，R3表示碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，X表示氢原子、羟基或酰基，m为1～18的整数，n为4～8的整数。]。
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公开(公告)号：CN104391429B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201410593866.8
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/20
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1‑1)和(1‑2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102498439B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201080041184.6
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]。——A——R1(x)。
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公开(公告)号：CN103472674A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310320010.9
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]
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公开(公告)号：CN101772735B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200880101869.8
申请日：2008-07-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , H01L21/027
CPC classification number: C08F220/12 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供作为抗蚀剂的基本物性优异、并且形成接触孔图案时的圆形性和CD均匀性优异的放射线敏感性树脂组合物。本放射线敏感性树脂组合物是含有在酸的作用下成为碱可溶性的含有酸解离性基团的树脂(A)、酸发生剂(B)和溶剂(C)的放射线敏感性树脂组合物，上述树脂(A)含有下述通式(1)和(2)表示的各重复单元。。R1和R2各自表示氢原子或碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，R3表示碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，X表示氢原子、羟基或酰基，m为1～18的整数，n为4～8的整数。
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