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公开(公告)号：CN104914668B
公开(公告)日：2019-05-14
申请号：CN201510105235.1
申请日：2015-03-10
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 佐藤光央
Abstract: 本发明的目的在于提供一种硬化性树脂组合物、显示元件用硬化膜、显示元件用硬化膜的形成方法及显示元件。本发明是一种含有聚合物及溶剂的硬化性树脂组合物；所述聚合物具有下述式(1)所表示的结构单元、以及含羧基的结构单元。式(1)中，R1、R2及R3为氢原子或1价的烃基。R4为(a)(n+1)价的烃基、(b)在(a)烃基的碳‑碳间含有选自由氧原子、硫原子、‑SO‑及‑SO2‑组成的群组中的至少1种的基或(c)(a)烃基及(b)基所具有的氢原子的一部分或全部经选自由卤素原子、氰基、硝基、羧基、亚磺酸基、巯基及烷氧基组成的群组中的至少1种取代而成的基。R5为单键或‑COO‑*。
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公开(公告)号：CN103439861A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201310280934.0
申请日：2010-07-13
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C07D211/44 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供满足曝光宽容度和MEEF性能的放射线敏感性树脂组合物及适合用于该放射线敏感性树脂组合物的化合物，该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下式(1)表示的基团与氮原子结合的结构的化合物、(B)具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱可溶性增大的树脂和(C)放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102498439B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201080041184.6
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]。——A——R1(x)。
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公开(公告)号：CN102483574B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201080040708.X
申请日：2010-07-13
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C07D211/44 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C07D211/44 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供满足曝光宽容度和MEEF性能的放射线敏感性树脂组合物及适合用于该放射线敏感性树脂组合物的化合物，该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下式(1)表示的基团与氮原子结合的结构的化合物、(B)具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱可溶性增大的树脂和(C)放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN103472674A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310320010.9
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104914668A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201510105235.1
申请日：2015-03-10
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 佐藤光央
Abstract: 本发明的目的在于提供一种硬化性树脂组合物、显示元件用硬化膜、显示元件用硬化膜的形成方法及显示元件。本发明是一种含有聚合物及溶剂的硬化性树脂组合物；所述聚合物具有下述式(1)所表示的结构单元、以及含羧基的结构单元。式(1)中，R1、R2及R3为氢原子或1价的烃基。R4为(a)(n+1)价的烃基、(b)在(a)烃基的碳-碳间含有选自由氧原子、硫原子、-SO-及-SO2-组成的群组中的至少1种的基或(c)(a)烃基及(b)基所具有的氢原子的一部分或全部经选自由卤素原子、氰基、硝基、羧基、亚磺酸基、巯基及烷氧基组成的群组中的至少1种取代而成的基。R5为单键或-COO-*。
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公开(公告)号：CN102498439A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080041184.6
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]——A——R1(x)。
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公开(公告)号：CN102483574A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080040708.X
申请日：2010-07-13
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C07D211/44 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C07D211/44 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供满足曝光宽容度和MEEF性能的放射线敏感性树脂组合物及适合用于该放射线敏感性树脂组合物的化合物，该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下式(1)表示的基团与氮原子结合的结构的化合物、(B)具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱可溶性增大的树脂和(C)放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN107329366A
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201710273429.1
申请日：2017-04-24
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0007 , G02B5/20 , G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种即便进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色硬化膜的制造方法。一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于：包括下述的步骤(1)～步骤(4)，步骤(1)：将含有(A)着色剂、(B)聚合性化合物及(C)感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；步骤(2)：对所述步骤(1)中所获得的涂膜照射放射线(1)的步骤；步骤(3)：对所述步骤(2)中所获得的涂膜进行显影的步骤；步骤(4)：对所述步骤(3)中所获得的涂膜照射放射线(2)的步骤，其中，放射线(1)与放射线(2)可相同，也可以不同。
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公开(公告)号：CN103472674B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201310320010.9
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、‑CO‑O‑*或者‑SO2‑O‑*(“*”表示与R1结合的结合位点)]。
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