公开(公告)号：CN102089709B

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：CN200980127305.6

申请日：2009-07-13

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 下川努 ,  江畑琢磨 ,  酒井香织 ,  大泉芳史 ,  征矢野晃雅 ,  大塚昇

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物，其可形成分辨性能优异且纳米边缘粗糙度小的化学增幅型抗蚀剂。该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下述通式(1)所示的部分结构的放射线敏感性酸产生剂、和(B)树脂。通式(1)中，R1表示1价烃基等。

公开(公告)号：CN103472674B

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201310320010.9

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浅野裕介 ,  佐藤光央 ,  中岛浩光 ,  笠原一树 ,  大泉芳史 ,  堀雅史 ,  川上峰规 ,  松田恭彦 ,  中原一雄

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F20/22

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、‑CO‑O‑*或者‑SO2‑O‑*(“*”表示与R1结合的结合位点)]。

公开(公告)号：CN102498439B

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201080041184.6

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浅野裕介 ,  佐藤光央 ,  中岛浩光 ,  笠原一树 ,  大泉芳史 ,  堀雅史 ,  川上峰规 ,  松田恭彦 ,  中原一雄

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]。——A——R1(x)。

公开(公告)号：CN103472674A

公开(公告)日：2013-12-25

申请号：CN201310320010.9

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浅野裕介 ,  佐藤光央 ,  中岛浩光 ,  笠原一树 ,  大泉芳史 ,  堀雅史 ,  川上峰规 ,  松田恭彦 ,  中原一雄

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F20/22

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]

公开(公告)号：CN102498439A

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201080041184.6

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浅野裕介 ,  佐藤光央 ,  中岛浩光 ,  笠原一树 ,  大泉芳史 ,  堀雅史 ,  川上峰规 ,  松田恭彦 ,  中原一雄

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]——A——R1(x)。

公开(公告)号：CN102089709A

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200980127305.6

申请日：2009-07-13

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 下川努 ,  江畑琢磨 ,  酒井香织 ,  大泉芳史 ,  征矢野晃雅 ,  大塚昇

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物，其可形成分辨性能优异且纳米边缘粗糙度小的化学增幅型抗蚀剂。该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下述通式(1)所示的部分结构的放射线敏感性酸产生剂、和(B)树脂。通式(1)中，R1表示1价烃基等。