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公开(公告)号：CN102597878B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201080045526.1
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/22
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102498439A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080041184.6
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]——A——R1(x)。
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公开(公告)号：CN102109760B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201110008725.1
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含氟聚合物作为光致抗蚀剂用添加剂的感放射线性树脂组合物形成光致抗蚀剂被膜的步骤，其中，所述含氟聚合物采用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为1000～50000，在形成上述光致抗蚀剂被膜时与水的后退接触角为70度以上；将波长193nm处的折射率比空气的折射率大的液浸曝光用液体介于透镜与光致抗蚀剂被膜之间并对其进行放射线照射的步骤；以及现影上述曝光的光致抗蚀剂被膜的步骤。
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公开(公告)号：CN101395189B
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN200780007265.2
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F20/22 , G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：新型的含氟聚合物、以及液浸曝光用的感放射线性树脂组合物、以及含氟聚合物的精制方法，其中所说的液浸曝光用的感放射线性树脂组合物含有该聚合物，得到的图案形状良好，焦深优良，且在液浸曝光时在所接触的水中的溶出物的量少，抗蚀剂被膜与水的后退接触角大。本发明的树脂组合物中含有：由下述通式(1)和(2)表示的重复单元、且Mw为1000～50000的新型含氟聚合物(A)；含有酸不稳定基团的树脂(B)；感放射线性酸发生剂(C)；含氮化合物(D)以及溶剂(E)。
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公开(公告)号：CN102109760A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN201110008725.1
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含氟聚合物作为光致抗蚀剂用添加剂的感放射线性树脂组合物形成光致抗蚀剂被膜的步骤，其中，所述含氟聚合物采用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为1000～50000，在形成上述光致抗蚀剂被膜时与水的后退接触角为70度以上；将波长193nm处的折射率比空气的折射率大的液浸曝光用液体介于透镜与光致抗蚀剂被膜之间并对其进行放射线照射的步骤；以及现影上述曝光的光致抗蚀剂被膜的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104391429B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201410593866.8
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/20
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1‑1)和(1‑2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102498439B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201080041184.6
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]。——A——R1(x)。
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公开(公告)号：CN103472674A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310320010.9
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]
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公开(公告)号：CN104391429A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201410593866.8
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/20
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102597878A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080045526.1
申请日：2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/22
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。
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