公开(公告)号：CN101395189A

公开(公告)日：2009-03-25

申请号：CN200780007265.2

申请日：2007-03-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川大树 ,  中岛浩光 ,  若松刚史 ,  原田健太郎 ,  西村幸生 ,  盐谷健夫

IPC: C08F20/22 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供：新型的含氟聚合物、以及液浸曝光用的感放射线性树脂组合物、以及含氟聚合物的精制方法，其中所说的液浸曝光用的感放射线性树脂组合物含有该聚合物，得到的图案形状良好，焦深优良，且在液浸曝光时在所接触的水中的溶出物的量少，抗蚀剂被膜与水的后退接触角大。本发明的树脂组合物中含有：由上述通式(1)和(2)表示的重复单元、且Mw为1000～50000的新型含氟聚合物(A)；含有酸不稳定基团的树脂(B)；感放射线性酸发生剂(C)；含氮化合物(D)以及溶剂(E)。

公开(公告)号：CN102109760B

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201110008725.1

申请日：2007-03-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川大树 ,  中岛浩光 ,  若松刚史 ,  原田健太郎 ,  西村幸生 ,  盐谷健夫

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供：抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含氟聚合物作为光致抗蚀剂用添加剂的感放射线性树脂组合物形成光致抗蚀剂被膜的步骤，其中，所述含氟聚合物采用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为1000～50000，在形成上述光致抗蚀剂被膜时与水的后退接触角为70度以上；将波长193nm处的折射率比空气的折射率大的液浸曝光用液体介于透镜与光致抗蚀剂被膜之间并对其进行放射线照射的步骤；以及现影上述曝光的光致抗蚀剂被膜的步骤。

公开(公告)号：CN101395189B

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN200780007265.2

申请日：2007-03-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川大树 ,  中岛浩光 ,  若松刚史 ,  原田健太郎 ,  西村幸生 ,  盐谷健夫

IPC: C08F20/22 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供：新型的含氟聚合物、以及液浸曝光用的感放射线性树脂组合物、以及含氟聚合物的精制方法，其中所说的液浸曝光用的感放射线性树脂组合物含有该聚合物，得到的图案形状良好，焦深优良，且在液浸曝光时在所接触的水中的溶出物的量少，抗蚀剂被膜与水的后退接触角大。本发明的树脂组合物中含有：由下述通式(1)和(2)表示的重复单元、且Mw为1000～50000的新型含氟聚合物(A)；含有酸不稳定基团的树脂(B)；感放射线性酸发生剂(C)；含氮化合物(D)以及溶剂(E)。

公开(公告)号：CN102109760A

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：CN201110008725.1

申请日：2007-03-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川大树 ,  中岛浩光 ,  若松刚史 ,  原田健太郎 ,  西村幸生 ,  盐谷健夫

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供：抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含氟聚合物作为光致抗蚀剂用添加剂的感放射线性树脂组合物形成光致抗蚀剂被膜的步骤，其中，所述含氟聚合物采用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为1000～50000，在形成上述光致抗蚀剂被膜时与水的后退接触角为70度以上；将波长193nm处的折射率比空气的折射率大的液浸曝光用液体介于透镜与光致抗蚀剂被膜之间并对其进行放射线照射的步骤；以及现影上述曝光的光致抗蚀剂被膜的步骤。