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公开(公告)号：CN102150083B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN200980135701.3
申请日：2009-09-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种放射线敏感性树脂组合物及使用有该树脂组合物的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述放射线敏感性树脂组合物得到的图案形状良好，灵敏度、析像度、LWR、显影缺陷、图案抗坍塌性等抗蚀剂基本性能优异，且在液浸曝光时显现出可以抑制水纹缺陷及气泡缺陷的充分的抗蚀剂膜表面的防水性。本发明的树脂组合物含有：包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且不包含含有氟原子的重复单元的树脂(A)、放射线敏感性产酸剂(B)、包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元及含有氟原子的重复单元的含氟树脂(C)、内酯化合物(D)，在将树脂(A)设定为100质量份的情况下，内酯化合物(D)的含量为31～200质量份。
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公开(公告)号：CN102150083A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200980135701.3
申请日：2009-09-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种放射线敏感性树脂组合物及使用有该树脂组合物的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述放射线敏感性树脂组合物得到的图案形状良好，灵敏度、析像度、LWR、显影缺陷、图案抗坍塌性等抗蚀剂基本性能优异，且在液浸曝光时显现出可以抑制水纹缺陷及气泡缺陷的充分的抗蚀剂膜表面的防水性。本发明的树脂组合物含有：包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且不包含含有氟原子的重复单元的树脂(A)、放射线敏感性产酸剂(B)、包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元及含有氟原子的重复单元的含氟树脂(C)、内酯化合物(D)，在将树脂(A)设定为100质量份的情况下，内酯化合物(D)的含量为31～200质量份。
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公开(公告)号：CN110383173B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN201880015884.4
申请日：2018-03-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G8/20 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够形成在平坦性优异的同时耐溶剂性、耐热性和耐蚀刻性优异的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明是一种含有具有下述式(1)表示的部分结构的化合物和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。下述式(1)中，X为下述式(i)、(ii)、(iii)或(iv)表示的基团。下述式(i)中，R1和R2各自独立地为氢原子、羟基、取代或非取代的碳原子数1～20的1价的脂肪族烃基或者取代或非取代的碳原子数7～20的芳烷基，或者表示R1和R2相互结合并与它们键合的碳原子一起构成的环元数3～20的环结构的一部分。其中，不包括R1和R2为氢原子、羟基或它们的组合的情况。
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公开(公告)号：CN102150082A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200980135499.4
申请日：2009-09-10
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C08F20/28 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有聚合物(A)、放射线敏感性的酸产生剂(B)、酸扩散抑制剂(C)和溶剂(D)，上述聚合物(A)是具有下述通式(a-1)表示的重复单元(a-1)的聚合物，上述酸扩散抑制剂(C)含有下述通式(C-1)表示的碱(C-1)和光分解性碱(C-2)中的至少一种碱。通式(a-1)中，R1相互独立地表示氢原子等，R为通式(a’)表示的1价基团，R19表示碳原子数为1～5的链状烃基等，A表示碳原子数为1～30的2价链状烃基等，m和n表示0～3的整数(其中m+n＝1～3)。通式(C-1)中，R2、R3相互独立地表示碳原子数为1～20的1价链状烃基等，2个R2也可以结合形成环结构。
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公开(公告)号：CN101031597B
公开(公告)日：2010-04-14
申请号：CN200580033001.5
申请日：2005-09-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/10 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/38 , C08F228/00 , G03F7/2041
Abstract: 本发明形成一种上层膜，其不与光致抗蚀剂膜引起互混，可在抗蚀剂上形成覆膜，不溶出于浸液曝光时的介质而能维持稳定覆膜，进而，在施实非浸液曝光的干式曝光时不造成图案形状劣化，且容易溶解于碱显影液。其特征为含有至少一种选自具有下述式(1)表示的基团的重复单元、具有下述式(2)表示的基团的重复单元、及具有羧基的重复单元中的重复单元(I)、与具有磺基的重复单元(II)，通过凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为2,000-100,000。式中，R1及R2的至少一方为碳数1-4的氟化烷基；式(2)中，R3为碳数1-20的氟化烷基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110383173A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880015884.4
申请日：2018-03-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G8/20 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够形成在平坦性优异的同时耐溶剂性、耐热性和耐蚀刻性优异的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明是一种含有具有下述式(1)表示的部分结构的化合物和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。下述式(1)中，X为下述式(i)、(ii)、(iii)或(iv)表示的基团。下述式(i)中，R1和R2各自独立地为氢原子、羟基、取代或非取代的碳原子数1～20的1价的脂肪族烃基或者取代或非取代的碳原子数7～20的芳烷基，或者表示R1和R2相互结合并与它们键合的碳原子一起构成的环元数3～20的环结构的一部分。其中，不包括R1和R2为氢原子、羟基或它们的组合的情况。
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公开(公告)号：CN102109760B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201110008725.1
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含氟聚合物作为光致抗蚀剂用添加剂的感放射线性树脂组合物形成光致抗蚀剂被膜的步骤，其中，所述含氟聚合物采用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为1000～50000，在形成上述光致抗蚀剂被膜时与水的后退接触角为70度以上；将波长193nm处的折射率比空气的折射率大的液浸曝光用液体介于透镜与光致抗蚀剂被膜之间并对其进行放射线照射的步骤；以及现影上述曝光的光致抗蚀剂被膜的步骤。
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公开(公告)号：CN101395189B
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN200780007265.2
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F20/22 , G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：新型的含氟聚合物、以及液浸曝光用的感放射线性树脂组合物、以及含氟聚合物的精制方法，其中所说的液浸曝光用的感放射线性树脂组合物含有该聚合物，得到的图案形状良好，焦深优良，且在液浸曝光时在所接触的水中的溶出物的量少，抗蚀剂被膜与水的后退接触角大。本发明的树脂组合物中含有：由下述通式(1)和(2)表示的重复单元、且Mw为1000～50000的新型含氟聚合物(A)；含有酸不稳定基团的树脂(B)；感放射线性酸发生剂(C)；含氮化合物(D)以及溶剂(E)。
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公开(公告)号：CN102109760A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN201110008725.1
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含氟聚合物作为光致抗蚀剂用添加剂的感放射线性树脂组合物形成光致抗蚀剂被膜的步骤，其中，所述含氟聚合物采用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为1000～50000，在形成上述光致抗蚀剂被膜时与水的后退接触角为70度以上；将波长193nm处的折射率比空气的折射率大的液浸曝光用液体介于透镜与光致抗蚀剂被膜之间并对其进行放射线照射的步骤；以及现影上述曝光的光致抗蚀剂被膜的步骤。
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公开(公告)号：CN102150082B
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN200980135499.4
申请日：2009-09-10
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C08F20/28 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有聚合物(A)、放射线敏感性的酸产生剂(B)、酸扩散抑制剂(C)和溶剂(D)，上述聚合物(A)是具有下述通式(a-1)表示的重复单元(a-1)的聚合物，上述酸扩散抑制剂(C)含有下述通式(C-1)表示的碱(C-1)和光分解性碱(C-2)中的至少一种碱。通式(a-1)中，R1相互独立地表示氢原子等，R为通式(a’)表示的1价基团，R19表示碳原子数为1～5的链状烃基等，A表示碳原子数为1～30的2价链状烃基等，m和n表示0～3的整数(其中m+n＝1～3)。通式(C-1)中，R2、R3相互独立地表示碳原子数为1～20的1价链状烃基等，2个R2也可以结合形成环结构。
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