公开(公告)号：CN106066575A

公开(公告)日：2016-11-02

申请号：CN201610246881.4

申请日：2016-04-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村功 ,  星子贤二 ,  金子将寛

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/027 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种微流体装置的制造方法、微流体装置及微流体装置制造用感光性树脂组合物，制造方法包括：由感光性树脂组合物在支撑体上形成树脂层的工序，感光性树脂组合物含有具有至少两个自由基聚合性基的化合物、光自由基产生剂、具有至少两个阳离子反应性基的化合物、光阳离子产生剂以及选自具有保护基的胺、光降解性碱、具有酰亚胺结构的化合物、具有酰胺结构的化合物及具有脲结构的化合物中的至少一种化合物；对树脂层的一部分进行紫外线曝光及显影的工序；在显影后的树脂层上载置覆盖材料而获得层压体的工序；及对所得的层压体进行紫外线曝光的工序。由于光刻后的经图案化的树脂层具有充分的强度与粘性，从而使微流体装置具有良好的流路。

公开(公告)号：CN102150082A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135499.4

申请日：2009-09-10

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江畑琢磨 ,  中川大树 ,  松田恭彦 ,  笠原一树 ,  星子贤二 ,  中岛浩光 ,  池田宪彦 ,  酒井香织 ,  原田早纪

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有聚合物(A)、放射线敏感性的酸产生剂(B)、酸扩散抑制剂(C)和溶剂(D)，上述聚合物(A)是具有下述通式(a-1)表示的重复单元(a-1)的聚合物，上述酸扩散抑制剂(C)含有下述通式(C-1)表示的碱(C-1)和光分解性碱(C-2)中的至少一种碱。通式(a-1)中，R1相互独立地表示氢原子等，R为通式(a’)表示的1价基团，R19表示碳原子数为1～5的链状烃基等，A表示碳原子数为1～30的2价链状烃基等，m和n表示0～3的整数(其中m+n＝1～3)。通式(C-1)中，R2、R3相互独立地表示碳原子数为1～20的1价链状烃基等，2个R2也可以结合形成环结构。

公开(公告)号：CN102150082B

公开(公告)日：2013-08-07

申请号：CN200980135499.4

申请日：2009-09-10

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江畑琢磨 ,  中川大树 ,  松田恭彦 ,  笠原一树 ,  星子贤二 ,  中岛浩光 ,  池田宪彦 ,  酒井香织 ,  原田早纪

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有聚合物(A)、放射线敏感性的酸产生剂(B)、酸扩散抑制剂(C)和溶剂(D)，上述聚合物(A)是具有下述通式(a-1)表示的重复单元(a-1)的聚合物，上述酸扩散抑制剂(C)含有下述通式(C-1)表示的碱(C-1)和光分解性碱(C-2)中的至少一种碱。通式(a-1)中，R1相互独立地表示氢原子等，R为通式(a’)表示的1价基团，R19表示碳原子数为1～5的链状烃基等，A表示碳原子数为1～30的2价链状烃基等，m和n表示0～3的整数(其中m+n＝1～3)。通式(C-1)中，R2、R3相互独立地表示碳原子数为1～20的1价链状烃基等，2个R2也可以结合形成环结构。