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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN102150083B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN200980135701.3
申请日：2009-09-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种放射线敏感性树脂组合物及使用有该树脂组合物的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述放射线敏感性树脂组合物得到的图案形状良好，灵敏度、析像度、LWR、显影缺陷、图案抗坍塌性等抗蚀剂基本性能优异，且在液浸曝光时显现出可以抑制水纹缺陷及气泡缺陷的充分的抗蚀剂膜表面的防水性。本发明的树脂组合物含有：包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且不包含含有氟原子的重复单元的树脂(A)、放射线敏感性产酸剂(B)、包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元及含有氟原子的重复单元的含氟树脂(C)、内酯化合物(D)，在将树脂(A)设定为100质量份的情况下，内酯化合物(D)的含量为31～200质量份。
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公开(公告)号：CN102150083A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200980135701.3
申请日：2009-09-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种放射线敏感性树脂组合物及使用有该树脂组合物的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述放射线敏感性树脂组合物得到的图案形状良好，灵敏度、析像度、LWR、显影缺陷、图案抗坍塌性等抗蚀剂基本性能优异，且在液浸曝光时显现出可以抑制水纹缺陷及气泡缺陷的充分的抗蚀剂膜表面的防水性。本发明的树脂组合物含有：包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且不包含含有氟原子的重复单元的树脂(A)、放射线敏感性产酸剂(B)、包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元及含有氟原子的重复单元的含氟树脂(C)、内酯化合物(D)，在将树脂(A)设定为100质量份的情况下，内酯化合物(D)的含量为31～200质量份。
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公开(公告)号：CN115704995A
公开(公告)日：2023-02-17
申请号：CN202210928426.8
申请日：2022-08-03
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种可制造介电常数低且硬化性良好的膜的硬化性组合物、硬化膜及其应用、有机电致发光元件、液晶显示元件、半导体元件、印刷基板、硬化膜的制造方法、以及聚合物。硬化性组合物，含有(A)成分：具有下述式(1)所表示的基的化合物；及(B)成分：溶剂。式(1)中，R1为氢原子或酸解离性基。“*”表示键结键。
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公开(公告)号：CN110120180B
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN201910097652.4
申请日：2019-01-31
Applicant: JSR株式会社(JP)
Abstract: 本发明提供一种弯曲特性优异且能够进行窄间距下的配线形成的配线构件。本发明的配线构件包括基板及配置于所述基板的上层的硬化膜，且在使配线构件的与硬化膜相反的一侧的基板面沿外径0.5mm的芯棒屈曲180°时，不产生硬化膜的破裂或剥离。
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