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公开(公告)号：CN1916760A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610126701.5
申请日：2002-06-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D207/40 , C07D209/70 , C07D211/88 , C07D221/14 , C07D491/18
CPC classification number: C07C309/23 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/114 , Y10S430/115
Abstract: 提供了一种含有下式(2)、(2－A)或(2－B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。
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公开(公告)号：CN1505651A
公开(公告)日：2004-06-16
申请号：CN02809212.0
申请日：2002-04-30
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , C08G77/08 , C08G77/24 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0757
Abstract: 一种甚至在193nm(特别是157nm)或更短波长下也表现出高透光度和极佳抗干蚀性的聚硅氧烷树脂，其包含通式(I)和/或通式(II)所示单元而且有酸解离基团：(I)(II)(其中R1为氟化或氟烷基化的一价芳基或氟化或氟烷基化的一价脂环基；R2为上述一价芳基、上述一价脂环基、氢、卤素、一价烃基、卤烷基、或氨基)。一种灵敏度和分辨率极佳的辐射敏感树脂组合物，包括(A)上述树脂和(B)光致产酸剂。
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公开(公告)号：CN101921202A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010198933.8
申请日：2010-06-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07C217/84 , C07C213/08 , C07J41/00 , C07C219/34 , C07D207/404 , C07D303/23 , C07C215/80 , C07C213/02
Abstract: 本发明涉及一种1位取代的3，5-二氨基苯的制造方法。本发明的课题是提供简单且安全地制造1位取代的3，5-二氨基苯的方法。上述课题通过使用下式(1)所示的化合物制造1位取代的3，5-二氨基苯来实现，式(1)中，R是氢原子、碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为6～20的芳基或碳原子数为7～20的芳烷基，其中，基团-N(CH2CH＝CHR)2所具有的氢原子可以被碳原子数为1～20的烷基取代。
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公开(公告)号：CN1916760B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200610126701.5
申请日：2002-06-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D207/40 , C07D209/70 , C07D211/88 , C07D221/14 , C07D491/18
CPC classification number: C07C309/23 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/114 , Y10S430/115
Abstract: 提供了一种含有下式(2)、(2-A)或(2-B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。
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公开(公告)号：CN1579012A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN03801435.1
申请日：2003-08-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/208
CPC classification number: C23C24/10 , C23C26/02 , C30B7/005 , H01L21/02422 , H01L21/02532 , H01L21/02601 , H01L21/02628 , H01L21/02667 , H01L21/02686
Abstract: 本发明提供含有硅粒子和分散介质的硅膜形成用组合物以及在基体上形成上述硅膜形成用组合物的涂膜，接着进行瞬间熔融、热处理或者光处理的硅膜的形成方法。采用该组合物和方法，能够高效率并且简便地形成用作为太阳能电池的硅膜那样的具有所要求的膜厚的多晶硅膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105001880B
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201510160502.5
申请日：2015-04-07
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种液晶取向剂及液晶显示元件。所述液晶取向剂含有聚亚芳基。所述聚亚芳基优选具有由下述式(P)所表示的重复单元的聚合物。本发明的液晶取向剂可形成在长时间内电压保持率的下降少、即便在严酷的使用条件下也不会产生残像、且可靠性优异的液晶取向膜、且涂布性(印刷性)优异。
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公开(公告)号：CN102482240B
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201080038065.5
申请日：2010-07-02
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07D295/10 , G03F7/031 , H01L21/027
CPC classification number: C07D295/10 , G03F7/031
Abstract: 一种化合物，其具有相同或不同的下述式(1’)所表示的多个基团。(式(1’)中，R1和R2各自独立地为碳原子数为1～6的烷基，n为1～6的整数)。
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公开(公告)号：CN102482240A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080038065.5
申请日：2010-07-02
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07D295/10 , G03F7/031 , H01L21/027
CPC classification number: C07D295/10 , G03F7/031
Abstract: 一种化合物，其具有相同或不同的下述式(1’)所表示的多个基团。，式(1’)中，R1和R2各自独立地为碳原子数为1～6的烷基，n为1～6的整数。
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公开(公告)号：CN102161638B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201110030385.2
申请日：2011-01-19
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种新型化合物以及含有该化合物的放射线敏感性组合物。本发明的目的在于提供一种新化合物，该化合物的升华性低，作为光聚合引发剂使用时，具有高的放射线灵敏度，而且溶解性优异；以及提供可以形成具有高的表面硬度和透明性的固化膜的放射线敏感性组合物。本发明的第一方案是下述式(1)所示的化合物。本发明的第二方案是一种放射线敏感性组合物，该放射线敏感性组合物包含[A]作为光聚合引发剂的上述化合物，以及[B]具有乙烯基不饱和双键的聚合性化合物。上述放射线敏感性组合物优选进一步含有[C]碱可溶性树脂。
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公开(公告)号：CN101921202B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201010198933.8
申请日：2010-06-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07C217/84 , C07C213/08 , C07J41/00 , C07C219/34 , C07D207/404 , C07D303/23 , C07C215/80 , C07C213/02
Abstract: 本发明涉及一种1位取代的3，5-二氨基苯的制造方法。本发明的课题是提供简单且安全地制造1位取代的3，5-二氨基苯的方法。上述课题通过使用下式(1)所示的化合物制造1位取代的3，5-二氨基苯来实现，式(1)中，R是氢原子、碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为6～20的芳基或碳原子数为7～20的芳烷基，其中，基团-N(CH2CH＝CHR)2所具有的氢原子可以被碳原子数为1～20的烷基取代。
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