公开(公告)号：CN1249126C

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN02809212.0

申请日：2002-04-30

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 岩泽晴生 ,  林明弘 ,  下川努 ,  山本将史

IPC: C08G77/24 ,  C08L83/08 ,  G03F7/075 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08G77/08 ,  C08G77/24 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0757

Abstract: 一种甚至在193nm(特别是157nm)或更短波长下也表现出高透光度和极佳抗干蚀性的聚硅氧烷树脂，其包含通式(I)和/或通式(II)所示单元而且有酸解离基团：(I)(II)(其中R1为氟化或氟烷基化的一价芳基或氟化或氟烷基化的一价脂环基；R2为上述一价芳基、上述一价脂环基、氢、卤素、一价烃基、卤烷基、或氨基)。一种灵敏度和分辨率极佳的辐射敏感树脂组合物，包括(A)上述树脂和(B)光致产酸剂。

公开(公告)号：CN1505651A

公开(公告)日：2004-06-16

申请号：CN02809212.0

申请日：2002-04-30

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 岩泽晴生 ,  林明弘 ,  下川努 ,  山本将史

IPC: C08G77/24 ,  C08L83/08 ,  G03F7/075 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08G77/08 ,  C08G77/24 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0757

Abstract: 一种甚至在193nm(特别是157nm)或更短波长下也表现出高透光度和极佳抗干蚀性的聚硅氧烷树脂，其包含通式(I)和/或通式(II)所示单元而且有酸解离基团：(I)(II)(其中R1为氟化或氟烷基化的一价芳基或氟化或氟烷基化的一价脂环基；R2为上述一价芳基、上述一价脂环基、氢、卤素、一价烃基、卤烷基、或氨基)。一种灵敏度和分辨率极佳的辐射敏感树脂组合物，包括(A)上述树脂和(B)光致产酸剂。

公开(公告)号：CN101165592A

公开(公告)日：2008-04-23

申请号：CN200710181198.8

申请日：2007-10-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 吉田伸 ,  石川真义 ,  林明弘 ,  饭田雅史

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种干膜、微透镜以及它们的制造方法。该干膜包含(I)具有三维十点平均粗糙度SRz为2.2μm以下、三维最大高度SRmax为4.0μm的表面且厚度是10～50μm的基膜、(II)在上述基膜(I)的表面上叠层的厚度2～200μm的放射线敏感性树脂组合物层以及(III)覆盖上述放射线敏感性树脂组合物层(II)的盖膜。