公开(公告)号：CN1332205A

公开(公告)日：2002-01-23

申请号：CN01124927.7

申请日：2001-06-15

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村幸生 ,  山原登 ,  山本将史 ,  梶田徹 ,  下川努 ,  伊藤洋

IPC: C08L101/08 ,  C08K5/10

CPC classification number: G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构,其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基,或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基,X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基,R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基,或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基、该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状,可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。

公开(公告)号：CN100374506C

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN01124927.7

申请日：2001-06-15

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村幸生 ,  山原登 ,  山本将史 ,  梶田徹 ,  下川努 ,  伊藤洋

IPC: C08L101/08 ,  C08K5/10

CPC classification number: G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构，其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1-6碳烷基，或不带有酸不稳定基的2-7碳烷羰基，X1表示带有1-4个碳原子的直链的或支化氟化烷基，R2表示氢原子、带有1-10个碳原子的直链的或支化烷基，或带有1-10个碳原子的直链的或支化氟化烷基。该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。

公开(公告)号：CN101215421A

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200810002129.0

申请日：2001-06-15

Applicant: JSR株式会社 ,  国际商业机器公司

Inventor： 西村幸生 ,  山原登 ,  山本将史 ,  梶田徹 ,  下川努 ,  伊藤洋

IPC: C08L101/06 ,  C08K5/16 ,  G03F7/004 ,  C08F232/08 ,  C08F222/06 ,  C08F220/12 ,  C08G61/08

Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构，其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基，或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基，X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基，R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基，或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基。该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。