公开(公告)号：US08760827B2

公开(公告)日：2014-06-24

申请号：US12424169

申请日：2009-04-15

申请人： John B. Campi, Jr. ,  Shunhua T. Chang ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Junjun Li ,  Mujahid Muhammad

发明人： John B. Campi, Jr. ,  Shunhua T. Chang ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Junjun Li ,  Mujahid Muhammad

IPC分类号： H02H3/22

CPC分类号： H01L27/0274 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A robust ESD protection circuit, method and design structure for tolerant and failsafe designs are disclosed. A circuit includes a middle junction control circuit that turns off a top NFET of a stacked NFET electrostatic discharge (ESD) protection circuit during an ESD event.

摘要翻译： 公开了用于容错和故障安全设计的强大的ESD保护电路，方法和设计结构。 电路包括在ESD事件期间关闭层叠的NFET静电放电（ESD）保护电路的顶部NFET的中间接点控制电路。

公开(公告)号：US08692290B2

公开(公告)日：2014-04-08

申请号：US13226838

申请日：2011-09-07

申请人： Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Junjun Li ,  Alain Loiseau

发明人： Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Junjun Li ,  Alain Loiseau

IPC分类号： H01L29/73 ,  H01L21/331 ,  G06F17/50

CPC分类号： H01L29/66363 ,  G06F17/50 ,  H01L27/0262 ,  H01L29/74 ,  H01L29/7436 ,  H02H9/04

摘要： Device structures and design structures for a silicon controlled rectifier, as well as methods for fabricating a silicon controlled rectifier. The device structure includes first and second layers of different materials disposed on a top surface of a device region containing first and second p-n junctions of the silicon controlled rectifier. The first layer is laterally positioned on the top surface in vertical alignment with the first p-n junction. The second layer is laterally positioned on the top surface of the device region in vertical alignment with the second p-n junction. The material comprising the second layer has a higher electrical resistivity than the material comprising the first layer.

摘要翻译： 可控硅整流器的器件结构和设计结构，以及制造可控硅整流器的方法。 器件结构包括设置在包含可控硅整流器的第一和第二p-n结的器件区域的顶表面上的不同材料的第一和第二层。 第一层横向定位在与第一p-n结垂直对准的顶表面上。 第二层横向定位在与第二p-n结垂直对准的器件区域的顶表面上。 包括第二层的材料具有比包含第一层的材料更高的电阻率。

公开(公告)号：US20130009207A1

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：US13614072

申请日：2012-09-13

申请人： John B. Campi, JR. ,  Shunhua T. Chang ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, JR. ,  Junjun Li ,  Rahul Mishra ,  Mujahid Muhammad

发明人： John B. Campi, JR. ,  Shunhua T. Chang ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, JR. ,  Junjun Li ,  Rahul Mishra ,  Mujahid Muhammad

IPC分类号： H01L29/74

CPC分类号： H01L29/74 ,  H01L21/823892 ,  H01L27/0262 ,  H01L27/0928 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A vertical NPNP structure fabricated using a triple well CMOS process, as well as methods of making the vertical NPNP structure, methods of providing electrostatic discharge (ESD) protection, and design structures for a BiCMOS integrated circuit. The vertical NPNP structure may be used to provide on-chip protection to an input/output (I/O) pad from negative-voltage ESD events. A vertical PNPN structure may be also used to protect the same I/O pad from positive-voltage ESD events.

摘要翻译： 使用三阱CMOS工艺制造的垂直NPNP结构，以及制造垂直NPNP结构的方法，提供静电放电（ESD）保护的方法和BiCMOS集成电路的设计结构。 垂直NPNP结构可用于从负电压ESD事件向输入/输出（I / O）焊盘提供片上保护。 也可以使用垂直PNPN结构来保护相同的I / O焊盘免受正电压ESD事件的影响。

公开(公告)号：US07977201B2

公开(公告)日：2011-07-12

申请号：US12191633

申请日：2008-08-14

申请人： Wagdi W. Abadeer ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Jed H. Rankin ,  Robert Robison ,  Yun Shi ,  William R. Tonti

发明人： Wagdi W. Abadeer ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Jed H. Rankin ,  Robert Robison ,  Yun Shi ,  William R. Tonti

IPC分类号： H01L21/20

CPC分类号： H01L23/5228 ,  H01L21/76816 ,  H01L23/5226 ,  H01L28/20 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： In one embodiment, a second metal line embedded in a second dielectric layer overlies a first metal line embedded in a first dielectric layer. A portion of the second dielectric layer overlying the first metal line is recessed employing a photoresist and the second metal line as an etch mask. A doped semiconductor spacer is formed within the recess to provide a resistive link between the first metal line and the second metal line. In another embodiment, a first metal line and a second metal line are embedded in a dielectric layer. An area of the dielectric layer laterally abutting the first and second metal lines is recessed employing a photoresist and the first and second metal lines as an etch mask. A doped semiconductor spacer is formed on sidewalls of the first and second metal lines, providing a resistive link between the first and second metal lines.

摘要翻译： 在一个实施例中，嵌入在第二介电层中的第二金属线覆盖在嵌入第一介电层中的第一金属线上。 覆盖第一金属线的第二电介质层的一部分是使用光致抗蚀剂凹陷的，而第二金属线作为蚀刻掩模。 在凹槽内形成掺杂半导体衬垫，以在第一金属线和第二金属线之间提供电阻连接。 在另一个实施例中，第一金属线和第二金属线嵌入在电介质层中。 使用光致抗蚀剂和第一和第二金属线作为蚀刻掩模来凹入与第一和第二金属线横向邻接的电介质层的区域。 掺杂半导体衬垫形成在第一和第二金属线的侧壁上，提供第一和第二金属线之间的电阻连接。

公开(公告)号：US20100265622A1

公开(公告)日：2010-10-21

申请号：US12424169

申请日：2009-04-15

申请人： John B. CAMPI, JR. ,  Shunhua T. CHANG ,  Kiran V. CHATTY ,  Robert J. GAUTHIER, JR. ,  Junjun LI ,  Mujahid MUHAMMAD

发明人： John B. CAMPI, JR. ,  Shunhua T. CHANG ,  Kiran V. CHATTY ,  Robert J. GAUTHIER, JR. ,  Junjun LI ,  Mujahid MUHAMMAD

IPC分类号： H02H9/04 ,  H01L27/06

CPC分类号： H01L27/0274 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A robust ESD protection circuit, method and design structure for tolerant and failsafe designs are disclosed. A circuit includes a middle junction control circuit that turns off a top NFET of a stacked NFET electrostatic discharge (ESD) protection circuit during an ESD event.

摘要翻译： 公开了用于容错和故障安全设计的强大的ESD保护电路，方法和设计结构。 电路包括在ESD事件期间关闭层叠的NFET静电放电（ESD）保护电路的顶部NFET的中间接点控制电路。

公开(公告)号：US07804124B2

公开(公告)日：2010-09-28

申请号：US12118241

申请日：2008-05-09

申请人： Wagdi W. Abadeer ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Jed H. Rankin ,  Yun Shi ,  William R. Tonti

发明人： Wagdi W. Abadeer ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Jed H. Rankin ,  Yun Shi ,  William R. Tonti

IPC分类号： H01L29/788

CPC分类号： H01L29/7881 ,  H01L21/28273 ,  H01L29/42324

摘要： Device and design structures for memory cells in a non-volatile random access memory (NVRAM). The device structure includes a semiconductor body in direct contact with the insulating layer, a control gate electrode, and a floating gate electrode in direct contact with the insulating layer. The semiconductor body includes a source, a drain, and a channel between the source and the drain. The floating gate electrode is juxtaposed with the channel of the semiconductor body and is disposed between the control gate electrode and the insulating layer. A first dielectric layer is disposed between the channel of the semiconductor body and the floating gate electrode. A second dielectric layer is disposed between the control gate electrode and the floating gate electrode.

摘要翻译： 非易失性随机存取存储器（NVRAM）中存储单元的器件和设计结构。 器件结构包括与绝缘层直接接触的半导体本体，控制栅电极和与绝缘层直接接触的浮栅电极。 半导体本体包括源极，漏极以及源极和漏极之间的沟道。 浮置栅电极与半导体本体的沟道并置并且设置在控制栅电极和绝缘层之间。 第一电介质层设置在半导体本体的沟道和浮栅之间。 第二介电层设置在控制栅电极和浮栅电极之间。

公开(公告)号：US20100230732A1

公开(公告)日：2010-09-16

申请号：US12547529

申请日：2009-08-26

申请人： Wagdi W. Abadeer ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, JR. ,  Jed H. Rankin ,  WiIliam R. Tonti ,  Yun Shi

发明人： Wagdi W. Abadeer ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, JR. ,  Jed H. Rankin ,  WiIliam R. Tonti ,  Yun Shi

IPC分类号： H01L29/772 ,  H01L21/336 ,  H01L21/30

CPC分类号： H01L29/66795 ,  H01L29/785

摘要： A field effect transistor (FET) that includes a drain formed in a first plane, a source formed in the first plane, a channel formed in the first plane and between the drain and the source and a gate formed in the first plane. The gate is separated from at least a portion of the body by an air gap. The air gap is also in the first plane.

摘要翻译： 一种场效应晶体管（FET），包括形成在第一平面中的漏极，形成在第一平面中的源极，形成在第一平面中，在漏极和源极之间的沟道以及形成在第一平面中的栅极。 门通过气隙与身体的至少一部分分离。 气隙也在第一平面。

公开(公告)号：US07737498B2

公开(公告)日：2010-06-15

申请号：US12116237

申请日：2008-05-07

申请人： Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Jed Hickory Rankin ,  Robert R. Robison ,  William Robert Tonti

发明人： Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, Jr. ,  Jed Hickory Rankin ,  Robert R. Robison ,  William Robert Tonti

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/338

CPC分类号： H01L29/78654 ,  H01L29/165 ,  H01L29/665 ,  H01L29/6653 ,  H01L29/66636 ,  H01L29/66772 ,  H01L29/7833 ,  H01L29/7848 ,  H01L29/7849 ,  H01L29/78603

摘要： Field effect transistor and methods of fabricating field effect transistors. The field effect transistors includes: a semiconductor substrate; a silicon oxide layer on the substrate; a stiffening layer on the silicon oxide layer; a single crystal silicon layer on the stiffening layer; a source and a drain on opposite sides of a channel region of the silicon layer; a gate electrode over the channel region and a gate dielectric between the gate electrode and the channel region.

摘要翻译： 场效应晶体管和制造场效应晶体管的方法。 场效应晶体管包括：半导体衬底; 衬底上的氧化硅层; 氧化硅层上的加强层; 加强层上的单晶硅层; 在硅层的沟道区的相对侧上的源极和漏极; 沟道区上的栅极电极和栅电极和沟道区之间的栅极电介质。

公开(公告)号：US20100096536A1

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：US12646292

申请日：2009-12-23

申请人： Wagdi W. Abadeer ,  James W. Adkisson ,  Jeffrey S. Brown ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, JR. ,  Michael J. Hauser ,  Jed H. Rankin ,  William R. Tonti

发明人： Wagdi W. Abadeer ,  James W. Adkisson ,  Jeffrey S. Brown ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, JR. ,  Michael J. Hauser ,  Jed H. Rankin ,  William R. Tonti

IPC分类号： G01J1/44

CPC分类号： H01L23/5256 ,  H01L23/525 ,  H01L27/14609 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a method of executing an electrical function, such as a fusing operation, by activation through a chip embedded photodiode through spectrally selected external light activation, and corresponding structure and circuit. The present invention is based on having incident light with specific intensity/wave length characteristics, in conjunction with additional circuit elements to an integrated circuit, perform the implementation of repairs, i.e., replacing failing circuit elements with redundant ones for yield and/or reliability. Also to perform disconnection of ESD protection device from input pad one the packaged chip is placed in system. No additional pins on the package are necessary.

摘要翻译： 公开了通过光谱选择的外部光激活通过芯片嵌入式光电二极管的激活以及相应的结构和电路来执行诸如定影操作之类的电功能的方法。 本发明基于将具有特定强度/波长特性的入射光结合到集成电路的附加电路元件，执行维修的实现，即用冗余电路替换故障电路元件以获得和/或可靠性。 此外，为了将ESD保护装置与输入板断开，将封装的芯片放置在系统中。 不需要额外的引脚。

公开(公告)号：US20090267178A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：US12108924

申请日：2008-04-24

申请人： Wagdi W. Abadeer ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, JR. ,  Jed H. Rankin ,  Robert R. Robison ,  William R. Tonti

发明人： Wagdi W. Abadeer ,  Kiran V. Chatty ,  Robert J. Gauthier, JR. ,  Jed H. Rankin ,  Robert R. Robison ,  William R. Tonti

IPC分类号： H01L29/06

CPC分类号： H01L29/7436 ,  H01L21/76229 ,  H01L29/0649 ,  H01L29/6625 ,  H01L29/66265 ,  H01L29/7317 ,  H01L29/735

摘要： Device structure for active devices fabricated in a semiconductor-on-insulator (SOI) substrate and design structures for a radiofrequency integrated circuit. The device structure includes a first isolation region in the semiconductor layer that extends from a top surface of a semiconductor layer to a first depth, a second isolation region in the semiconductor layer that extends from the top surface of the semiconductor layer to a second depth greater than the first depth, and a first doped region in the semiconductor layer. The first doped region is disposed vertically between the first isolation region and an insulating layer disposed between the semiconductor layer and a handle wafer of the SOI substrate. The device structure may be included in a design structure embodied in a machine readable medium for designing, manufacturing, or testing an integrated circuit.

摘要翻译： 用于在绝缘体上半导体（SOI）衬底中制造的有源器件的器件结构和用于射频集成电路的设计结构。 器件结构包括半导体层中从半导体层的顶表面延伸到第一深度的第一隔离区域，半导体层中的从半导体层的顶表面延伸到第二深度更大的第二隔离区域 比第一深度，以及半导体层中的第一掺杂区域。 第一掺杂区域垂直地设置在第一隔离区域和设置在SOI衬底的半导体层和处理晶片之间的绝缘层之间。 装置结构可以包括在体现在用于设计，制造或测试集成电路的机器可读介质中的设计结构中。