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    用于增强型离子化的离子源
    3.
    发明公开
    用于增强型离子化的离子源 有权

    公开(公告)号：CN109417006A

    公开(公告)日：2019-03-01

    申请号：CN201780040167.2

    申请日：2017-05-23

    申请人： 瓦里安半导体设备公司

    发明人： 丹尼尔·R·泰格尔 ,  可劳斯·贝克 ,  丹尼尔·艾凡瑞朵

    IPC分类号： H01J27/02 ,  H01J27/08

    摘要： 本发明公开一种具有改善的寿命的离子源。在某些实施例中，所述离子源是间接加热式阴极离子源，所述间接加热式阴极离子源包括腔室，所述腔室具有多个导电壁，所述间接加热式阴极离子源具有阴极，所述阴极电连接到所述离子源的壁。在所述离子源的一个或多个壁上设置有电极。电极中的至少一个被相对于腔室的壁施加偏压。在某些实施例中，被吸引到阴极的正离子较少，从而减少阴极经历的溅射量。有利的是，使用这种技术会改善阴极的寿命。在另一实施例中，离子源包括伯纳斯离子源，所述伯纳斯离子源包括具有细丝的腔室，所述细丝的一个引线连接到离子源的壁。

    镧系元素离子源的产生方法
    5.
    发明授权
    镧系元素离子源的产生方法 有权

    公开(公告)号：CN106373845B

    公开(公告)日：2018-11-23

    申请号：CN201610350373.0

    申请日：2016-05-24

    申请人： 汉辰科技股份有限公司

    发明人： 苏科缙 ,  张国忠 ,  黄伟铨 ,  吴铭伟 ,  薛丞宏 ,  林明杰

    IPC分类号： H01J27/08 ,  H01J37/08 ,  H01J37/317

    摘要： 一种镧系元素离子源的产生方法，包括下列步骤：加热一种或多种非气态的镧系元素化合物，使得该一种或多种非气态的镧系元素化合物转变为气态；传送一种或多种气态镧系元素化合物传送至该电弧室；传送至少一种支持气体传送至该电弧室；提供能量予该电弧室，使含有镧系元素离子的电浆形成于该电弧室中；以及将镧系元素离子自含有镧系元素离子的该电浆中萃取出来形成镧系元素离子束。

    改进的离子源阴极护罩
    6.
    发明公开
    改进的离子源阴极护罩 有权

    公开(公告)号：CN108701573A

    公开(公告)日：2018-10-23

    申请号：CN201780004429.X

    申请日：2017-01-19

    申请人： 艾克塞利斯科技公司

    发明人： 尼尔·科尔文 ,  哲-简·谢 ,  保罗·西尔弗斯坦

    IPC分类号： H01J27/02 ,  H01J27/08

    摘要： 一种离子源具有电弧腔室主体的电弧腔室。电极延伸到电弧腔室主体的内部区域中，并且阴极护罩具有呈圆柱形且具有轴向通孔的主体。轴向通孔配置成使电极贯穿其中。主体的第一端和第二端具有相应的第一气体传导限制器和第二气体传导限制器。第一气体传导限制器自主体的外径延伸并且具有U形唇缘。第二气体传导限制器具有用于密封件的凹部，以保护密封件免受腐蚀性气体影响并保持密封件的完整性。气源将气体引入电弧腔室主体。内衬具有配置成使阴极护罩贯穿其中的开口，其中内衬具有凹部。

    注入装置的离子源和离子注入方法
    8.
    发明授权
    注入装置的离子源和离子注入方法 有权

    公开(公告)号：CN103887132B

    公开(公告)日：2016-12-28

    申请号：CN201210559934.X

    申请日：2012-12-20

    申请人： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

    发明人： 单易飞 ,  邬璐磊 ,  董春荣

    IPC分类号： H01J37/08 ,  H01J27/08 ,  H01J37/317

    CPC分类号： H01J27/08 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/082

    摘要： 一种注入装置的离子源和离子注入方法，其中所述离子源，包括：起弧腔，所述起弧腔用于容纳等离子体；灯丝，位于起弧腔的侧壁上，用于产生热电子，使通入起弧腔的离子源气体离子化为等离子体；反射极，位于起弧腔的与灯丝相对的侧壁上，用于反射灯丝产生的热电子；狭缝，位于起弧腔的顶部，作为等离子体的出口；源气体通入口，位于起弧腔的反射极和灯丝之间的侧壁上，用于通入离子源气体；清洁气体通入口，位于起弧腔的源气体通入口同侧的侧壁上，用于通入惰性清洁气体。提高了离子源的使用寿命。

    离子源电极的清洁装置
    9.
    发明授权
    离子源电极的清洁装置 有权

    公开(公告)号：CN103094028B

    公开(公告)日：2015-09-09

    申请号：CN201210236662.X

    申请日：2012-07-09

    申请人： 日新离子机器株式会社

    发明人： 松本武 ,  中尾和浩 ,  厚主诚

    IPC分类号： H01J27/02 ,  H01J27/08 ,  H01J37/08

    摘要： 本发明提供一种离子源电极的清洁装置，可以沿构成离子源的引出电极系统的电极的宽广区域高速去除沉积物。该清洁装置包括：清洁气体源（42）等构件，向引出电极系统（10）的相互面对的两个电极（11、12）之间提供清洁气体（48），使两个电极之间的气体压力保持在发生辉光放电的气体压力；辉光放电电源（60），向两个电极（11、12）之间施加直流电压，发生辉光放电（80）。该清洁装置还包括：异常放电测量器（84），测量在规定时间内电极（11、12）之间发生异常放电的次数（N）；电源控制器（86），使用测量到的发生异常放电的次数（N）进行控制，使辉光放电电源（60）的输出电流（Ig）增减规定幅度。