公开(公告)号：CN104885185A

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201380063410.4

申请日：2013-10-11

申请人： 瓦里安半导体设备公司

发明人： 杰弗里·查尔斯·伯拉尼克 ,  威廉·T·维弗

IPC分类号： H01J27/04 ,  H01J27/08 ,  H01J37/08 ,  H01J37/317 ,  H01J27/02 ,  H01J37/302

CPC分类号： H01J27/024 ,  H01J27/08 ,  H01J37/08 ,  H01J37/302 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/30472 ,  H01J2237/3171

摘要： 离子源包括界定电弧室的电弧室外壳，电弧室外壳在固定位置上具有提取板，提取板界定多个提取孔。离子源还包括挡帘组件，挡帘组件安装于电弧室外侧的靠近提取板处。挡帘组件经配置以于一时间间隔期间阻挡所述多个提取孔中的一者的至少一部分。以自离子源提取的离子束处理工件，并结合离子源与所述待处理工件的相对移动，使得仅用一种离子源即能在工件上形成二维离子植入图案。

公开(公告)号：CN104885185B

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201380063410.4

申请日：2013-10-11

申请人： 瓦里安半导体设备公司

发明人： 杰弗里·查尔斯·伯拉尼克 ,  威廉·T·维弗

IPC分类号： H01J27/04 ,  H01J27/08 ,  H01J37/08 ,  H01J37/317 ,  H01J27/02 ,  H01J37/302

CPC分类号： H01J27/024 ,  H01J27/08 ,  H01J37/08 ,  H01J37/302 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/30472 ,  H01J2237/3171

摘要： 离子植入机及具有挡帘组件的离子源。离子源包括界定电弧室的电弧室外壳，电弧室外壳在固定位置上具有提取板，提取板界定多个提取孔。离子源还包括挡帘组件，挡帘组件安装于电弧室外侧的靠近提取板处。挡帘组件经配置以于一时间间隔期间阻挡所述多个提取孔中的一者的至少一部分。以自离子源提取的离子束处理工件，并结合离子源与所述待处理工件的相对移动，使得仅用一种离子源即能在工件上形成二维离子植入图案。