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公开(公告)号：CN110023533B
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN201780072343.0
申请日：2017-11-16
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: C23C14/48 , H01J37/317
Abstract: 本发明涉及用于碳离子注入的方法和系统，其包括利用三氟化磷(PF3)作为氧化碳气体的共伴气体，在某些实施方案中，这与镧钨合金离子源组件组合有利地尽量减少阴极(306)和阴极护罩(316)的氧化。此外，观察到电弧腔室(300)内部组件上可接受水平的积碳以及显著减少卤素循环，即减少形成WFx。
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公开(公告)号：CN113632197A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202080021940.2
申请日：2020-03-19
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Abstract: 离子源配置成形成离子束并且具有电弧室，电弧室围封电弧室环境。储集器装置可以配置为推斥极并且向电弧室环境提供液态金属。偏置电源相对于电弧室对储集器装置进行电偏置，以使液态金属在电弧室环境中蒸发形成等离子体。储集器装置具有杯体和封盖，杯体和封盖限定用于液态金属的储集器环境，储集器环境通过封盖中的孔与电弧室环境流体联接。部件从杯体延伸到储集器中并接触液态金属，以通过毛细作用将液态金属朝向电弧室环境馈送。结构、表面积、粗糙度和材料改变毛细作用。该部件可以是延伸到液态金属中的环形圈、杆或管。
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公开(公告)号：CN109983151B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN201780072376.5
申请日：2017-11-16
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: C23C14/48 , H01J37/317
Abstract: 本发明涉及用于碳离子注入的方法和系统，包括在离子源腔室(300)中利用磷化氢作为氧化碳气体的共伴气体。在一种或多种实施方案中，使用磷化氢共伴气体的碳注入与镧钨合金离子源组件组合，这会有利地尽量减少阴极(306)和阴极护罩(316)以及离子源腔室内其他组件的氧化。
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公开(公告)号：CN111542909A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201980007028.9
申请日：2019-01-22
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/08
Abstract: 本发明提供一种用于离子注入系统的终端，其中该终端具有用于支撑离子源(108)的终端壳体(154)，该离子源配置成形成离子束。该终端壳体内的气体箱(146)具有氢气发生器(144)，该氢气发生器配置成产生用于离子源的氢气。气体箱与终端壳体电隔离并进一步电耦合到离子源。离子源和气体箱通过多个电绝缘体与终端壳体电隔离。多个绝缘支座(156)使终端壳体与大地电隔离。终端电源使终端壳体相对于大地电偏置到终端电势。离子源电源使离子源相对于终端电势电偏置到离子源电势。导电管(148)使气体箱与离子源电耦合。
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公开(公告)号：CN112106167B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201980030883.1
申请日：2019-05-13
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317 , H01J37/32
Abstract: 用于离子注入系统的终端系统(102)具有离子源(108)，该离子源具有壳体和包括一个或多个孔板的提取电极组件。气体箱(152)电耦接至离子源。气体源(148)在气体箱内，以与离子源组件基本相同的电位提供气体。排气导管(154、172、174)将气体引入到位于离子源的壳体的内部和至少一个孔板的上游的区域。排气导管具有一个或多个贯穿离子源组件的主体延伸的馈通件，例如位于离子源的安装凸缘中的孔。安装凸缘可以是具有通道的管状部。排气导管可以进一步具有限定为气体分配环(174)的气体分配设备(172)。气体分配环通常可以环绕安装凸缘的管状部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109075000B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN201780025607.7
申请日：2017-05-15
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种离子注入系统，其具有一个或多个导电组件，所述导电组件由镧钨以及与预定百分比的稀土金属形成合金的耐熔金属中的一种或多种组成。所述导电组件可以是离子源的组件，诸如阴极、阴极护罩、推斥极、内衬、孔板、电弧腔室主体和撞击板中的一个或多个。所述孔板可以与引出孔径、抑制孔径和接地孔径中的一个或多个相关联。
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公开(公告)号：CN108140523B
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201680059372.9
申请日：2016-11-04
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J27/02 , H01J37/08 , H01J37/317
Abstract: 本发明公开一种离子源内衬(204)，包括具有暴露表面的衬板。所述衬板包括通孔以及环绕该通孔且自暴露表面向外延伸的唇缘(234)并且可选地包括凹部，该凹部具有自暴露表面凹陷且环绕通孔的第二表面。本发明进一步公开一种电弧腔室(202)，包括：所述离子源内衬以及具有轴部(218)和头部(250)的电极(208)，例如推斥极(248)，其中，该电极穿过所述通孔并界定衬板与轴部之间的环状间隙；以及离子源，该离子源包括电弧腔室，其中，该电弧腔室具有主体，该主体界定内部区域(212)，其中所述暴露表面暴露于所述电弧腔室内生成的电浆，以及其中，电极与主体电性隔离。唇缘(234)大体上防止微粒污染物(248’)进入环状间隙(206)。
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公开(公告)号：CN112106167A
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN201980030883.1
申请日：2019-05-13
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317 , H01J37/32
Abstract: 用于离子注入系统的终端系统(102)具有离子源(108)，该离子源具有壳体和包括一个或多个孔板的提取电极组件。气体箱(152)电耦接至离子源。气体源(148)在气体箱内，以与离子源组件基本相同的电位提供气体。排气导管(154、172、174)将气体引入到位于离子源的壳体的内部和至少一个孔板的上游的区域。排气导管具有一个或多个贯穿离子源组件的主体延伸的馈通件，例如位于离子源的安装凸缘中的孔。安装凸缘可以是具有通道的管状部。排气导管可以进一步具有限定为气体分配环(174)的气体分配设备(172)。气体分配环通常可以环绕安装凸缘的管状部。
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公开(公告)号：CN109983151A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201780072376.5
申请日：2017-11-16
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: C23C14/48 , H01J37/317
Abstract: 本发明涉及用于碳离子注入的方法和系统，包括在离子源腔室300中利用磷化氢作为氧化碳气体的共伴气体。在一种或多种实施方案中，使用磷化氢共伴气体的碳注入与镧钨合金离子源组件组合，这会有利地尽量减少阴极306和阴极护罩316以及离子源腔室内其他组件的氧化。
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公开(公告)号：CN109716479B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201780057110.3
申请日：2017-09-27
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种用于改善离子注入性能的离子源组件和方法。该离子源组件具有离子源腔室，并且源气体供应源向离子源腔室提供分子碳源气体。激发源激发分子碳源气体，形成碳离子和原子碳。引出电极从离子源腔室中引出碳离子，形成离子束。过氧化氢共伴气体供应源向离子源腔室提供过氧化氢共伴气体。过氧化氢共伴气体分解并与原子碳反应，在离子源腔室内形成碳氢化合物。进一步引入惰性气体并使其离子化，以抵消因过氧化氢分解所致的阴极氧化。真空泵除去碳氢化合物，其中减少原子碳的沉积并且延长离子源腔室的使用寿命。
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