公开(公告)号：CN108028193A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201680056032.0

申请日：2016-09-29

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 江头浩司 ,  山下刚秀 ,  本田儀幸 ,  吉田祐希 ,  川渕洋介

IPC分类号： H01L21/304

CPC分类号： H01L21/67034 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/335 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/304

摘要： 在比由处理室(81、201)内的基板保持部(89、204)保持着的基板(W)的端缘靠外侧的位置设置有喷射气体的气体喷射口(74、205)。从气体喷射口(74、205)喷射来的气体形成在沿着由基板保持部保持着的基板的第1面(表面)的方向上流动的气体的流动。随着气体的流动，升华了的升华性物质的气体和气体所含有的异物被从基板的附近去除。气体也作为从加热部(88、203)向基板的传热介质起作用。

公开(公告)号：CN107887248A

公开(公告)日：2018-04-06

申请号：CN201710893730.2

申请日：2017-09-27

申请人： 松下知识产权经营株式会社

发明人： 岩井哲博 ,  原基子

IPC分类号： H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32495 ,  B08B7/0035 ,  H01J37/32183 ,  H01J37/32513 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/334 ,  H01J37/32431 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/32532 ,  H01J2237/335

摘要： 提供一种等离子体处理装置以及等离子体处理方法，在等离子体处理时使覆盖件与盖一同下降而对运输载体进行保护。等离子体处理装置具备：基座，具有电极体以及对电极体进行支承的基体，电极体具有对保持在运输载体的基板进行载置的载置面；以及盖，能够相对于基座进行升降，在通过盖下降并与基体密接而形成的密闭空间产生等离子体，进行载置在载置面的基板的等离子体处理，运输载体具备保持片以及配置在保持片的外周部的框架，基板保持在保持片，并且经由保持片载置在载置面，等离子体处理装置还具备：引导件，沿着电极体的周围配置，并对框架进行定位；以及覆盖件，与盖一体设置，在形成有密闭空间时，至少覆盖运输载体的框架。

公开(公告)号：CN104938038B

公开(公告)日：2017-06-16

申请号：CN201480005750.6

申请日：2014-01-09

申请人： 株式会社创意科技

发明人： 小山里美 ,  罗莉 ,  辰巳良昭

IPC分类号： H05H1/46 ,  H05H1/24

CPC分类号： H01J37/32348 ,  H01J2237/335 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2418 ,  H05H2245/1225

摘要： 本发明提供一种等离子体产生装置，可制作大规模且对应各种面形状的装置，并且可使装置寿命长寿命化及节省能源化。等离子体产生装置(1‑1)具备电介质层(3)、形成于电介质层(3)内的第1及第2电极(4),(5)、交流电源(6)、第1金属层(7)。电介质层(3)是由聚酰亚胺树脂的高分子树脂层(31),(32)而成。电极(4),(5)为横向并列配置于电介质层(3)内。第1金属层(7)是由具有杀菌作用的金属所形成，且其表面具有多个孔(71)。第1金属层(7)为架设于高分子树脂层(32)的支撑部(33),(34)上，与电极(4),(5)整体面对面，并且于与高分子树脂层(32)之间分隔出间隙S。

公开(公告)号：CN106604953A

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201580047242.9

申请日：2015-09-02

申请人： 耐克创新有限合伙公司

发明人： 林仁诠 ,  黄春伟 ,  张卜元 ,  高淑文 ,  王国昌

IPC分类号： C08J7/12 ,  C09J5/02 ,  A43B9/12 ,  A43B13/32 ,  A43D11/00 ,  A43D25/00 ,  B32B37/12 ,  B32B38/00 ,  H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32366 ,  A43B9/12 ,  A43B13/12 ,  A43B13/32 ,  A43D11/00 ,  A43D25/00 ,  B05D3/144 ,  B29C65/48 ,  B29C66/026 ,  B29C66/45 ,  B29C66/95 ,  B29K2623/083 ,  B29L2031/504 ,  B32B37/1284 ,  B32B38/0008 ,  B32B2319/00 ,  B32B2437/02 ,  C08J7/123 ,  C09J5/02 ,  H01J37/317 ,  H01J37/32733 ,  H01J2237/335 ,  H05H2245/123

摘要： 用等离子体施加处理弹性部件，如鞋外底，以清洁和活化弹性部件。等离子体的施加被控制以实现足够的表面组成改变以增强粘附特性，同时不会不利地使弹性部件物理地变形。等离子体处理用于使弹性部件的改变区域内的羰基官能团浓度增加至碳原子百分比组成的至少2％至15％的范围内。部分地通过由所生成的工具路径确保在弹性部件和等离子体源之间保持限定的高度偏移范围来控制清洁和活化。然后可以用粘合剂将弹性部件粘附到另一个部件。

公开(公告)号：CN106548914A

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：CN201510592306.5

申请日：2015-09-17

申请人： 中微半导体设备(上海)有限公司

发明人： 杨平 ,  叶如彬 ,  梁洁

IPC分类号： H01J37/32 ,  H01J37/34 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01J37/32394 ,  H01J37/3438 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/334 ,  H01J2237/335 ,  H01L21/02082 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67011

摘要： 本发明涉及一种等离子体处理设备及其清洗系统和方法，在反应腔室的腔壁内侧布置移动环，并在所述移动环内设置电极；所述电极通过切换开关与射频电源连通，从而在由移动环限定的等离子体扩散范围的边缘区域形成边缘等离子体；或者，所述电极通过切换开关与接地电路连通，从而对反应腔室的腔壁屏蔽形成在反应腔室内的射频电场。本发明能够增强腔室边缘部件的清洗效果，或者实现对腔壁的射频屏蔽以改善刻蚀偏心的效果。

公开(公告)号：CN104968826A

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201480007860.6

申请日：2014-01-09

申请人： 株式会社神户制钢所

发明人： 广田悟史 ,  野村誉

IPC分类号： C23C14/02

CPC分类号： C23C16/0245 ,  C23C14/022 ,  C23C16/0227 ,  C23C16/44 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/486 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/3266 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/335

摘要： 本发明提供一种用于对基材的表面稳定地进行清洁的离子轰击装置（1）。该装置具备：真空腔（2）、被设置在其内壁面并且放出电子的至少一个电极（3）、接受来自所述电极（3）的电子的多个正极（4）即被配置为以隔着所述基材与所述电极相向的方式相向的多个正极、以及与各正极（4）对应的多个放电电源（5）。各放电电源（5）与所述真空腔（2）绝缘，对与该放电电源（5）对应的正极（4）供给能够彼此独立地设定的电流或电压，由此，在该正极（4）与所述电极（3）之间产生辉光放电。

公开(公告)号：CN101014222B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200710085733.X

申请日：2003-02-19

申请人： 于西纳公司

发明人： 丹尼尔·沙莱 ,  帕特里克·肖凯 ,  杰拉德·巴拉维恩 ,  伯纳德·拉库尔 ,  文森特·皮埃什

IPC分类号： H05H1/24 ,  B08B7/00 ,  C23G5/00

CPC分类号： H01J37/32009 ,  B08B7/0035 ,  C23G5/00 ,  H01J37/32348 ,  H01J2237/335 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

摘要： 本发明涉及可用于实施对涂敷有有机物质的材料(2)表面连续清洁的方法的发生器(4)。本发明的方法包括以下步骤：引导材料(2)进入提供有含氧的气流的处理区中；使材料(2)接地，并通过在材料(2)的表面和至少一个覆盖介质的电极(3)之间施加电场而产生等离子体，所述电场是脉冲形式的并包括相对于材料(2)的连续正和负电压脉冲。并且，正脉冲的最大值电压U+大于电弧放电电压Ua，负脉冲的最大绝对值电压U-小于放电电压Ua。该发生器(4)包括供给1至200kHz频率的低压脉冲的低压电源，并且包括用于将所述低压脉冲转换成高压脉冲的器件。

公开(公告)号：CN1910059A

公开(公告)日：2007-02-07

申请号：CN200480033742.9

申请日：2004-09-16

申请人： 朗姆研究公司

发明人： 洪·希赫 ,  安东尼·L·郑 ,  索克·基奥夫·塔恩 ,  斯蒂芬·黄 ,  约翰·多尔蒂 ,  布鲁诺·莫雷尔

IPC分类号： B44C1/22 ,  B08B6/00 ,  B08B9/00 ,  B08B3/00 ,  C23G1/00 ,  C23G1/02

CPC分类号： H01J37/32431 ,  H01J2237/335

摘要： 本发明公开了一种从包括钇氧化物的一组结构中去除一组粒子的方法。该方法包括将一组结构暴露于包括氧化剂的第一溶液经过第一时段。该方法还包括将该组结构从第一溶液中去除，以及将该组结构暴露于包括酮试剂的第二溶液经过第二时段。该方法还包括将该组结构从第二溶液中去除，以及使用包括第一组酸的第三溶液机械地摩擦该组结构经过第三时段。

公开(公告)号：CN109599318A

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201811030063.6

申请日：2018-09-05

申请人： 朗姆研究公司

发明人： 阿列克谢·马拉霍塔诺夫 ,  赵琳 ,  菲力克斯·科扎克维奇 ,  肯尼思·卢凯西 ,  陈志刚 ,  约翰·帕特里克·霍兰德

IPC分类号： H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32183 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/3255 ,  H01J2237/334 ,  H01J2237/335

摘要： 本发明涉及多态等离子体晶片处理以增强离子的方向性。描述了用于提供离子方向性的多态等离子体晶片处理的系统和方法。该系统和方法有三种状态。在第一状态期间，执行蚀刻操作。在第二状态期间，千赫射频信号的功率电平大于零，以增强入射在堆叠层的底表面上的离子的方向性。在第三状态期间，堆叠层顶部的掩模损耗减少并且可以进行沉积。

公开(公告)号：CN107847858A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680042943.8

申请日：2016-06-15

申请人： 爱德华兹有限公司

发明人： C.M.贝利 ,  C.M.L.滕纳 ,  J.R.塔特索尔 ,  I.S.格雷厄姆 ,  M.R.切尔尼亚克 ,  G.P.奈特 ,  D.门尼 ,  D.M.普赖斯 ,  D.M.巴克 ,  A.J.西利

IPC分类号： B01D53/68 ,  B01D53/75 ,  C23C16/44 ,  F04C19/00

CPC分类号： B01D53/75 ,  A62C4/00 ,  B01D53/68 ,  B01D53/78 ,  B01D2252/103 ,  B01D2257/204 ,  B01D2257/206 ,  B01D2258/0216 ,  C23C16/24 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/4412 ,  F04C19/001 ,  F04C19/005 ,  F04C23/006 ,  F04C29/0092 ,  F23G7/06 ,  H01J37/32807 ,  H01J37/32862 ,  H01J2237/335 ,  Y02C20/30

摘要： 使用干式泵来泵送来自半导体行业的多种气体混合物。本发明提供一种液环泵，其定位在所述干式泵与减排设备之间以在废气进入所述减排设备之前去除可溶性腐蚀性物质，从所述液环泵排出的工作流体在进入所述减排设备之前与所述气体分离。