公开(公告)号：CN104737274A

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201380050065.0

申请日：2013-10-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： N·拉贾戈帕兰 ,  X·韩 ,  M·齐昂 ,  M·奥加塔 ,  Z·蒋 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 ,  T·诺瓦克 ,  J·周 ,  R·萨卡拉克利施纳 ,  G·巴拉苏布拉马尼恩 ,  A·班塞尔 ,  J·李 ,  T·伊根 ,  E·布迪亚托 ,  D·帕纳修克 ,  T·Y·李 ,  J·陈 ,  M·阿优伯 ,  H·L·朴 ,  P·赖利 ,  S·沙克 ,  金秉宪 ,  S·斯塔里克

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/52 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C16/50 ,  C23C16/505 ,  C23C16/509 ,  C23C16/5096 ,  G01B11/0625 ,  G01B11/0683 ,  G01N21/55 ,  G01N21/658 ,  G01N2201/1222 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/687

Abstract: 兹描述根据PECVD工艺来处理基板的设备和方法。调整基板的温度分布，以改变基板各处的沉积速率分布。调整等离子体密度分布，以改变基板各处的沉积速率分布。加热暴露于等离子体的腔室表面，以改善等离子体密度均匀性及减少腔室表面处低品质沉积物的形成。原位量测技术可用于监测沉积工艺的进行，及触发涉及基板温度分布、等离子体密度分布、压力、温度与反应物流量的控制动作。

公开(公告)号：CN1643370A

公开(公告)日：2005-07-20

申请号：CN03805920.7

申请日：2003-03-12

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 河村达朗 ,  龟井明仁

IPC: G01N21/75

CPC classification number: G01N21/272 ,  B01F5/0206 ,  G01N21/51 ,  G01N21/532 ,  G01N21/59 ,  G01N21/82 ,  G01N2021/0325 ,  G01N2021/513 ,  G01N2021/755 ,  G01N2021/7783 ,  G01N2201/1222

Abstract: 本发明的目的在于提供使测定时间只为充分且必要，可快速测定的均化·反应完成的判定方法以及使用该方法的溶液浓度测定方法。在均化·反应完成的判定方法以及使用该方法的溶液浓度测定方法中，根据被测液与试剂液的混合液的光学特性来判定均化和反应完成。