基板处理装置
    2.
    发明公开
    基板处理装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117133705A

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN202310607005.X

    申请日:2023-05-26

    Abstract: 本发明提供可以使施加于加压对象物的载荷均匀的基板处理装置。基板处理装置(10)具有供作为加压对象物的基板(2)配置的下夹具板(46)、支承下夹具板(46)的多个柱状部件(50)、以及与下夹具板(46)直接或间接地抵接且散热性比多个柱状部件(50)高的散热用柱(53)。

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