具有单峰孔径分布和低纤维体积分数的陶瓷基质复合物

    公开(公告)号:CN107226706A

    公开(公告)日:2017-10-03

    申请号:CN201710180235.7

    申请日:2017-03-23

    Abstract: 本发明公开了陶瓷基质复合物制品(10),包括例如在具有单峰孔径分布的基质(30)中的纤维丝束(20)的多个单向阵列,以及约15百分比至约35百分比的纤维体积分数。制品可通过方法(100)形成,例如,其包括提供成形预制件(110),该成形预制件包括纤维丝束的单向阵列的预浸料带叠层、基质前体和成孔剂,固化成形预制件(120)以热解基质前体并烧尽成孔剂,使得成形预制件包括纤维丝束的单向阵列和具有单峰孔径分布的多孔基质,并且使固化的成形预制件经历化学气相渗透(130)以使多孔基质致密化,使得陶瓷基质复合物制品具有约15百分比至约35百分比的纤维体积分数。

    处理陶瓷纤维的方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106938937B

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN201611052691.5

    申请日:2016-11-25

    Abstract: 本申请提供了用于处理陶瓷纤维用于制造陶瓷基质复合物(CMC)的方法及设备。一种方法可包括提供至少一个框架,其包括延伸横跨其空腔的单向陶瓷纤维的平面阵列。该方法还可包括以下中的至少一个:经由化学气相沉积(CVD)过程将涂层沉积在至少一个框架的陶瓷纤维上;以及以包括陶瓷基质前体成分的浆料浸渍陶瓷纤维来形成至少一个CMC预浸料坯。在一些实施例中,平面阵列的陶瓷纤维可包括涂层,并且该方法可包括以包括陶瓷基质前体成分的浆料浸渍涂覆的陶瓷纤维来形成至少一个CMC预浸料坯。

    用于处理陶瓷纤维的设备及方法

    公开(公告)号:CN106957178B

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN201611054124.3

    申请日:2016-11-25

    Abstract: 本申请提供了用于处理陶瓷纤维用于制造陶瓷基质复合物(CMC)的方法及设备。一种方法可包括提供至少一个框架,其包括延伸横跨其空腔的单向陶瓷纤维的平面阵列。该方法还可包括经由化学气相沉积(CVD)过程将涂层沉积在至少一个框架的陶瓷纤维上。该方法还可包括以包括陶瓷基质前体成分的浆料浸渍涂覆的陶瓷纤维来形成至少一个CMC预浸料坯,如,预浸料坯带。例如,陶瓷纤维可大致为SiC纤维。

    具有单峰孔径分布和低纤维体积分数的陶瓷基质复合物

    公开(公告)号:CN112694341A

    公开(公告)日:2021-04-23

    申请号:CN202110061423.4

    申请日:2017-03-23

    Abstract: 本发明公开了陶瓷基质复合物制品(10),包括例如在具有单峰孔径分布的基质(30)中的纤维丝束(20)的多个单向阵列,以及约15百分比至约35百分比的纤维体积分数。制品可通过方法(100)形成,例如,其包括提供成形预制件(110),该成形预制件包括纤维丝束的单向阵列的预浸料带叠层、基质前体和成孔剂,固化成形预制件(120)以热解基质前体并烧尽成孔剂,使得成形预制件包括纤维丝束的单向阵列和具有单峰孔径分布的多孔基质,并且使固化的成形预制件经历化学气相渗透(130)以使多孔基质致密化,使得陶瓷基质复合物制品具有约15百分比至约35百分比的纤维体积分数。

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