半导体器件及制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN107425028B

    公开(公告)日:2020-08-18

    申请号:CN201710300184.7

    申请日:2012-03-02

    Applicant: 索尼公司

    Inventor: 长田昌也

    Abstract: 本公开涉及半导体器件及制造半导体器件的方法。所述半导体器件包括:半导体基板,包括半导体;电极层,形成在所述半导体基板的第一表面侧上;导体层,形成在所述半导体基板的所述第一表面上;孔,形成为从所述半导体基板的第二表面穿过所述半导体基板和所述电极层至所述导体层;以及配线层,其形成于所述孔中,通过所述导体层在所述半导体基板的所述第一表面上方的一个位置电连接至所述电极层,并且延伸至所述半导体基板的所述第二表面,所述配线层通过设置在所述配线层和所述电极层之间的绝缘层从所述电极层物理分离。

    半导体器件及制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN107658265B

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN201710976438.7

    申请日:2012-03-02

    Applicant: 索尼公司

    Inventor: 长田昌也

    Abstract: 本公开涉及半导体器件及制造半导体器件的方法。所述半导体器件包括:半导体基板,包括半导体;玻璃基板,在所述半导体基板的上方;电极层,形成在所述半导体基板的第一表面侧上;导体层,形成在至少所述半导体基板的所述第一表面上;孔,形成为从所述半导体基板的第二表面穿过所述半导体基板和所述电极层至所述导体层;以及配线层,其形成于所述孔中,通过在所述半导体基板的所述第一表面上的所述导体层电连接至所述电极层,所述配线层通过设置在所述配线层和所述电极层之间的绝缘层从所述电极层物理分离。

    半导体装置和半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN107256849A

    公开(公告)日:2017-10-17

    申请号:CN201710161464.4

    申请日:2012-05-17

    Applicant: 索尼公司

    Inventor: 长田昌也

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置,包括:基底材料部分,包括半导体基板和形成在该半导体基板的一个面上的绝缘膜,而且沿着半导体基板的厚度方向于该基底材料部分形成竖直孔;竖直孔配线部分,包括形成在该基底材料部分的形成该竖直孔的侧壁上的竖直孔电极;金属膜,形成在该绝缘膜内,并且电连接到竖直孔配线部分;以及导电保护膜,形成为与该绝缘膜内的该金属膜接触,并且形成在包括探针测试期间的探针接触区域的区域中,该探针测试于制造过程中在该金属膜的膜表面上进行。

    半导体器件及其制造工艺以及电子装置

    公开(公告)号:CN102683323A

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201210052600.3

    申请日:2012-03-02

    Applicant: 索尼公司

    Inventor: 长田昌也

    Abstract: 本公开涉及半导体器件及其制造工艺以及电子装置。所述半导体器件包括:包括半导体的半导体基板;形成在所述半导体基板内的第一表面侧上的电极层;层叠在所述半导体基板的第一表面上的框体层;导体层,形成在通过使所述电极层在所述半导体基板的第一表面上暴露出来的方式加工所述半导体基板和所述框体层而形成的开口部分中;纵孔,形成为从所述半导体基板的第二表面穿透所述半导体基板直到所述导体层;和配线层,在所述纵孔的端部处经由所述导体层电气地连接至所述电极层,并延伸至所述半导体基板的第二表面。

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