片内电流测量方法和半导体集成电路

    公开(公告)号:CN101201388B

    公开(公告)日:2011-12-28

    申请号:CN200710199829.9

    申请日:2007-12-13

    Abstract: 本发明提供一种片内电流测量方法和半导体集成电路,用于测量芯片在正常工作状态下的电路块的电流。该半导体集成电路包括:具有预定功能的电路块(C1);能对上述电路块提供工作用电源的电源开关(PSW1);以及根据上述电源开关被接通状态下的电源开关的端子间电压和电源开关的导通电阻,算出流入上述电路块的电流的电流测量电路(100)。根据上述电源开关被接通状态下的上述电源开关的端子间电压和上述电源开关的导通电阻,算出流入上述电路块的电流,从而能够测量芯片在正常工作状态下的电路块的电流。

    半导体器件和半导体集成电路

    公开(公告)号:CN101546758B

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN200910005796.9

    申请日:2009-02-12

    Abstract: 本发明提供一种半导体器件和半导体集成电路。在具有被层叠且可相互进行无线电通信的一对半导体集成电路的半导体器件中,上述半导体集成电路包括:发送电路,其能够通过无线电发送用于规定发送定时的时钟信号和发送数据,并且调整基于无线电的发送定时;接收电路,其能够与通过无线电接收到的时钟信号同步接收数据,并调整基于无线电的接收定时;控制电路,其根据响应从上述发送电路发送来的数据而从其他半导体集成电路返回并由上述接收电路接收到的数据的正确与否,进行上述发送电路和接收电路的定时调整。能缩小用于调整进行了层叠的半导体集成电路间的近距离通信中的通信定时的电路的规模,能高精度地调整通信定时。

    半导体集成电路及其制造方法

    公开(公告)号:CN101206919B

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN200710186826.1

    申请日:2007-11-22

    CPC classification number: G11C11/417

    Abstract: 一种半导体集成电路及其制造方法,其可以实现较高的制造成品率,并且补偿CMOS型SRAM的MOS晶体管的阈值电压的标准离差。在SRAM的信息保存工作和写入工作和读出工作的任一有源模式下,对SRAM存储单元的MOS晶体管的衬底(阱)施加衬底偏压(Vbp、Vbn)。首先,测定SRAM的PMOS和NMOS的晶体管的阈值电压。根据测定结果,编程控制存储器(Cnt_MM1、2)的控制信息(Cnt_Sg1、2)。利用程序调整衬底偏压(Vbp、Vbn)的电平,CMOS型SRAM的MOS晶体管的阈值电压的标准离差被控制在规定的误差范围内。相对于施加给MOS晶体管的源极的工作电压,对MOS晶体管的衬底施加反偏置、或者极弱正偏置的衬底偏压。

    半导体器件
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101667452B

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN200910168293.3

    申请日:2009-08-24

    CPC classification number: G11C8/08 G11C11/412

    Abstract: 本发明提供一种半导体器件,能够自动补偿存储单元写入和读出余量的劣化。半导体器件比较用于确定字线选择期间的字线定时信号和基准信号,在响应上述比较结果为读出余量低的状态时施加扩大读出余量的基板偏压,反之在该比较结果表示处于低写入余量状态时施加扩大写入余量的基板偏压。基准信号根据补偿随字线选择期间(字线脉冲宽度)变动的工作余量的情况、或在补偿因工艺变动(阈值电压的偏差)而变动的工作余量的情况来选择。通过根据字线脉冲宽度控制基板偏压能够改善随字线脉冲宽度变动的工作余量,另外,能够改善随制造时的阈值电压的偏差而变动的工作余量。

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