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公开(公告)号：CN1258119C
公开(公告)日：2006-05-31
申请号：CN00124850.2
申请日：2000-09-19
Applicant: 现代电子产业株式会社
IPC: G03F7/00
CPC classification number: H01L21/02118 , G03F7/0045 , G03F7/039 , H01L21/02282 , H01L21/0274 , H01L21/312 , Y10S430/115 , Y10S430/12
Abstract: 本发明涉及一种含有光碱产生剂(PBG)的光致抗蚀剂组合物，更具体地说，涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包括(a)光致抗蚀剂树脂，(b)光酸产生剂，(c)有机溶剂，及(d)光碱产生剂。所述优选的光碱产生剂选自化学式1的苄氧羰基化合物或化学式2的氧-酰基肟化合物，其中，R′、R1至R6为根据说明书所定义。本发明的组合物可避免斜线图案生成及严重的I/D偏差发生。
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公开(公告)号：CN1318773A
公开(公告)日：2001-10-24
申请号：CN01115325.3
申请日：2001-04-19
Applicant: 现代电子产业株式会社
IPC: G03F7/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0045 , G03F7/039 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供的光致抗蚀剂组合物包括,其用于抗蚀剂流动工艺中。本发明还提供一种方法,采用所述组合物形成接触孔图形。特别地,本发明的光致抗蚀剂树脂包括两种以上聚合物的混合物。优选地,第一共聚物和第二共聚物的混合物交联,从而防止由于经常发生于常规抗蚀剂流动工艺中的过流引起的接触孔萎陷。此外,本发明的光致抗蚀剂组合物可形成均匀尺寸图形。
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公开(公告)号：CN1289069A
公开(公告)日：2001-03-28
申请号：CN00124850.2
申请日：2000-09-19
Applicant: 现代电子产业株式会社
IPC: G03F7/00
CPC classification number: H01L21/02118 , G03F7/0045 , G03F7/039 , H01L21/02282 , H01L21/0274 , H01L21/312 , Y10S430/115 , Y10S430/12
Abstract: 本发明涉及一种含有光碱产生剂(PBG)的光致抗蚀剂组合物,更具体地说,涉及一种光致抗蚀剂组合物,其包括(a)光致抗蚀剂树脂,(b)光酸产生剂,(c)有机溶剂,及(d)光碱产生剂。所述优选的光碱产生剂选自化学式1的苄氧羰基化合物或化学式2的氧－酰基肟化合物,其中,R′、R1至R6为根据说明书所定义。本发明的组合物可避免斜线图案生成与严重的I/D偏差发生。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1215375C
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN00109361.4
申请日：2000-05-30
Applicant: 现代电子产业株式会社
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0045
Abstract: 本发明涉及一种防止胺污染的顶部涂层组合物及一种使用所述组合物形成精细图案的方法。优选地，本发明的防止胺污染的顶部涂层组合物包括一种防止胺污染的化合物。本发明的防止胺污染的顶部涂层组合物减少或避免了由于曝光后延迟效应所引起的T形顶部涂层问题及与传统的平版印刷工艺有关的酸扩散所造成的难以形成低于100nm的精细图案的问题。
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公开(公告)号：CN1163796C
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：CN99125856.8
申请日：1999-11-26
Applicant: 现代电子产业株式会社
IPC: G03F7/00
CPC classification number: C08F216/38 , C07C43/303 , C08F220/06 , G03F7/0382
Abstract: 本发明涉及用于光致抗蚀剂组合物的交联剂，该光致抗蚀剂组合物适用于使用KrF(248nm)，ArF(193nm)，电子束，离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明，优选的交联剂含有(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸，甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的一种共聚物。
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公开(公告)号：CN1255652A
公开(公告)日：2000-06-07
申请号：CN99125856.8
申请日：1999-11-26
Applicant: 现代电子产业株式会社
IPC: G03F7/00
CPC classification number: C08F216/38 , C07C43/303 , C08F220/06 , G03F7/0382
Abstract: 本发明涉及用于光致抗蚀剂组合物的交联剂,该光致抗蚀剂组合物适用于使用KrF(248nm),ArF(193nm),电子束,离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明,优选的交联剂含有(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸,甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的一种共聚物。
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公开(公告)号：CN1249524C
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN01115325.3
申请日：2001-04-19
Applicant: 现代电子产业株式会社
IPC: G03F7/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0045 , G03F7/039 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供的光致抗蚀剂组合物包括，其用于抗蚀剂流动工艺中。本发明还提供一种方法，采用所述组合物形成接触孔图形。特别地，本发明的光致抗蚀剂树脂包括两种以上聚合物的混合物。优选地，第一共聚物和第二共聚物的混合物交联，从而防止由于经常发生于常规抗蚀剂流动工艺中的过流引起的接触孔萎陷。此外，本发明的光致抗蚀剂组合物可形成均匀尺寸图形。
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公开(公告)号：CN1276541A
公开(公告)日：2000-12-13
申请号：CN00109361.4
申请日：2000-05-30
Applicant: 现代电子产业株式会社
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0045
Abstract: 本发明涉及一种防止胺污染的顶部涂层组合物及一种使用所述组合物形成精细图案的方法。优选地,本发明的防止胺污染的顶部涂层组合物包括一种防止胺污染的化合物。本发明的防止胺污染的顶部涂层组合物减少或避免了由于曝光后延迟效应所引起的T形顶部涂层问题及与传统的平版印刷工艺有关的酸扩散所造成的难以形成低于100nm的精细图案的问题。
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