Invention Publication
CN1289069A 含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物
失效 - 权利终止
- Patent Title: 含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物
- Patent Title (English): Photo-resist composition containing photo-alkali-generator and photo-acid-generator
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Application No.: CN00124850.2Application Date: 2000-09-19
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Publication No.: CN1289069APublication Date: 2001-03-28
- Inventor: 郑载昌 , 金珍秀 , 孔根圭 , 白基镐
- Applicant: 现代电子产业株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 现代电子产业株式会社
- Current Assignee: 现代电子产业株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- Agent 王维玉; 丁业平
- Priority: 40534/1999 1999.09.21 KR
- Main IPC: G03F7/00
- IPC: G03F7/00
Abstract:
本发明涉及一种含有光碱产生剂(PBG)的光致抗蚀剂组合物,更具体地说,涉及一种光致抗蚀剂组合物,其包括(a)光致抗蚀剂树脂,(b)光酸产生剂,(c)有机溶剂,及(d)光碱产生剂。所述优选的光碱产生剂选自化学式1的苄氧羰基化合物或化学式2的氧－酰基肟化合物,其中,R′、R1至R6为根据说明书所定义。本发明的组合物可避免斜线图案生成与严重的I/D偏差发生。
Public/Granted literature
- CN1258119C 含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物 Public/Granted day:2006-05-31
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