公开(公告)号：CN1162752C

公开(公告)日：2004-08-18

申请号：CN99125858.4

申请日：1999-11-26

申请人： 现代电子产业株式会社

发明人： 郑载吕 ,  孙根圭 ,  金明洙 ,  金亨基 ,  金炯秀 ,  白基镐

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： C07D407/12 ,  C07D317/12 ,  C07D319/06

摘要： 本发明涉及用于光致抗蚀剂的交联剂，该光致抗蚀剂适用于使用KrF(248nm)，ArF(193nm)，电子束，离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明，优选的交联剂含有一种具有来源于(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸，甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的重复单元的共聚物。

公开(公告)号：CN1255653A

公开(公告)日：2000-06-07

申请号：CN99125858.4

申请日：1999-11-26

申请人： 现代电子产业株式会社

发明人： 郑载吕 ,  孙根圭 ,  金明洙 ,  金亨基 ,  金炯秀 ,  白基镐

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： C07D407/12 ,  C07D317/12 ,  C07D319/06

摘要： 本发明涉及用于光致抗蚀剂的交联剂,该光致抗蚀剂适用于使用KrF(248nm),ArF(193nm),电子束,离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明,优选的交联剂含有一种具有来源于(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸,甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的重复单元的共聚物。

公开(公告)号：CN1163796C

公开(公告)日：2004-08-25

申请号：CN99125856.8

申请日：1999-11-26

申请人： 现代电子产业株式会社

发明人： 郑载吕 ,  孙根圭 ,  金明洙 ,  金亨基 ,  金炯秀 ,  白基镐 ,  金珍秀

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： C08F216/38 ,  C07C43/303 ,  C08F220/06 ,  G03F7/0382

摘要： 本发明涉及用于光致抗蚀剂组合物的交联剂，该光致抗蚀剂组合物适用于使用KrF(248nm)，ArF(193nm)，电子束，离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明，优选的交联剂含有(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸，甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的一种共聚物。

公开(公告)号：CN1255652A

公开(公告)日：2000-06-07

申请号：CN99125856.8

申请日：1999-11-26

申请人： 现代电子产业株式会社

发明人： 郑载吕 ,  孙根圭 ,  金明洙 ,  金亨基 ,  金炯秀 ,  白基镐 ,  金珍秀

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： C08F216/38 ,  C07C43/303 ,  C08F220/06 ,  G03F7/0382

摘要： 本发明涉及用于光致抗蚀剂组合物的交联剂,该光致抗蚀剂组合物适用于使用KrF(248nm),ArF(193nm),电子束,离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明,优选的交联剂含有(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸,甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的一种共聚物。