Invention Grant
CN1162752C 用于光致抗蚀剂的交联剂及含该交联剂的光致抗蚀剂组合物
失效 - 权利终止
- Patent Title: 用于光致抗蚀剂的交联剂及含该交联剂的光致抗蚀剂组合物
- Patent Title (English): Cross linking agent for photoresist, and photoresist combination containing the same
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Application No.: CN99125858.4Application Date: 1999-11-26
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Publication No.: CN1162752CPublication Date: 2004-08-18
- Inventor: 郑载吕 , 孙根圭 , 金明洙 , 金亨基 , 金炯秀 , 白基镐
- Applicant: 现代电子产业株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 现代电子产业株式会社
- Current Assignee: 现代电子产业株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- Agent 林潮; 王维玉
- Priority: 51356/1998 1998.11.27 KR; 5825/1999 1999.02.22 KR
- Main IPC: G03F7/00
- IPC: G03F7/00
Abstract:
本发明涉及用于光致抗蚀剂的交联剂，该光致抗蚀剂适用于使用KrF(248nm)，ArF(193nm)，电子束，离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明，优选的交联剂含有一种具有来源于(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸，甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的重复单元的共聚物。
Public/Granted literature
- CN1255653A 用于光致抗蚀剂的交联剂及含该交联剂的光致抗蚀剂组合物 Public/Granted day:2000-06-07
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