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公开(公告)号：CN107263303B
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201710206657.7
申请日：2017-03-31
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 矶川英立
IPC: B24B37/34 , H01L21/304
Abstract: 示教装置包括：臂侧位置传感器，该臂侧位置传感器安装于臂，并发送位置信号；虚设晶片，该虚设晶片载置于载物台上；虚设晶片侧位置传感器，该虚设晶片侧位置传感器安装于虚设晶片；以及信号接收部，该信号接收部接收到来自臂侧位置传感器的位置信号而求出臂侧位置传感器的位置坐标，并接收到来自虚设晶片侧位置传感器的位置信号而求出虚设晶片侧位置传感器的位置坐标。控制部根据虚设晶片侧位置传感器的位置坐标算出当臂对晶片进行把持时的臂侧位置传感器的位置坐标，并且，所述控制部以臂侧位置传感器朝算出的位置坐标移动的方式使臂移动。
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公开(公告)号：CN113474121A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202080002181.5
申请日：2020-03-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/00 , B24B37/013 , B24B53/017 , H01L21/304
Abstract: 基板处理装置具备研磨部和搬送部。研磨部具有第一研磨单元和第二研磨单元以及研磨部搬送机构。第一研磨单元具有第一研磨装置和第二研磨装置。第二研磨单元具有第三研磨装置和第四研磨装置。第一～第四研磨装置分别具有：研磨台，该研磨台安装有研磨垫；顶环；辅助单元，该辅助单元对研磨中的研磨垫进行处理。在研磨台的周围设置有一对辅助单元安装部，该一对辅助单元安装部用于将辅助单元安装为相对于连结顶环的摆动中心与研磨台的旋转中心的直线能够左右切换，该一对辅助单元安装部设置在相对于所述直线左右对称的位置。
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公开(公告)号：CN107263303A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710206657.7
申请日：2017-03-31
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 矶川英立
IPC: B24B37/34 , H01L21/304
CPC classification number: G05B19/402 , G05B2219/39548 , G05B2219/42129 , G05B2219/45031 , H01L21/67219 , H01L21/67259 , H01L21/67742 , H01L21/681 , B24B37/34 , B24B37/345 , H01L21/304
Abstract: 示教装置包括：臂侧位置传感器，该臂侧位置传感器安装于臂，并发送位置信号；虚设晶片，该虚设晶片载置于载物台上；虚设晶片侧位置传感器，该虚设晶片侧位置传感器安装于虚设晶片；以及信号接收部，该信号接收部接收到来自臂侧位置传感器的位置信号而求出臂侧位置传感器的位置坐标，并接收到来自虚设晶片侧位置传感器的位置信号而求出虚设晶片侧位置传感器的位置坐标。控制部根据虚设晶片侧位置传感器的位置坐标算出当臂对晶片进行把持时的臂侧位置传感器的位置坐标，并且，所述控制部以臂侧位置传感器朝算出的位置坐标移动的方式使臂移动。
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公开(公告)号：CN116487302A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310668331.1
申请日：2017-06-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , B24B37/34 , B24B37/04
Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。
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公开(公告)号：CN110651356A
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201880030306.8
申请日：2018-05-02
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明公开一种清洗装置。在一实施方式中，清洗装置具备：清洗构件、移动部、测定部、控制部，控制部在清洗前使清洗构件按压于基准构件，在测定部的测定值到达规定的重设用负载后，使清洗构件在从基准构件离开的方向移动，在测定部对清洗构件每单位移动量的测定值至少连续两次彼此相同的时间点，进行如下重设动作：设定该时间点的所述清洗构件的位置作为清洗时所述清洗构件的基准位置，并且设定所述时间点的所述测定部的测定值作为清洗时的按压基准值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110600397A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201910502824.1
申请日：2019-06-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明能够不受进行示教作业的作业人员的技能影响进行示教。提供用于基板输送系统的示教装置，基板输送系统具有构成为能对基板进行保持的基板输送装置及构成为能从基板输送装置接收基板的基板接收装置，示教装置具有：构成为保持于基板输送装置的示教基板；能被安装于示教基板的摄影机；及用于控制保持着示教基板的基板输送装置及/或基板接收装置的动作的控制装置，控制装置具有：接收由摄影机拍摄的图像的接收部；根据接收的图像计算基板输送装置与基板接收装置的相对的位置关系的解析部；及根据由解析部计算的基板输送装置与基板接收装置的相对的位置关系，确定基板输送装置及/或基板接收装置的停止位置的确定部。
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公开(公告)号：CN107546155A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710499862.7
申请日：2017-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/02096 , H01L21/0201 , H01L21/02046 , H01L21/02068 , H01L21/02076 , H01L21/02085 , H01L21/02087 , H01L21/67017 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/67219
Abstract: 本发明提供一种可减轻更换不同种类的清洗模块的作业所造成的负担的清洗装置及基板处理装置。本发明采用包含下述构件的结构：多种清洗模块(31(31A、31B))，进行清洗处理；第1收纳部，可收纳多种清洗模块(31)；及流体供给部(60)，经由配管(63)对收纳于第1收纳部的清洗模块(31)供给流体；多种清洗模块(31)分别具备与配管(63)的连接位置共用的配管连接部(70)。
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公开(公告)号：CN107546155B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201710499862.7
申请日：2017-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种可减轻更换不同种类的清洗模块的作业所造成的负担的清洗装置及基板处理装置。本发明采用包含下述构件的结构：多种清洗模块(31(31A、31B))，进行清洗处理；第1收纳部，可收纳多种清洗模块(31)；及流体供给部(60)，经由配管(63)对收纳于第1收纳部的清洗模块(31)供给流体；多种清洗模块(31)分别具备与配管(63)的连接位置共用的配管连接部(70)。
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公开(公告)号：CN113474121B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202080002181.5
申请日：2020-03-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/00 , B24B37/013 , B24B53/017 , H01L21/304
Abstract: 基板处理装置具备研磨部和搬送部。研磨部具有第一研磨单元和第二研磨单元以及研磨部搬送机构。第一研磨单元具有第一研磨装置和第二研磨装置。第二研磨单元具有第三研磨装置和第四研磨装置。第一～第四研磨装置分别具有：研磨台，该研磨台安装有研磨垫；顶环；辅助单元，该辅助单元对研磨中的研磨垫进行处理。在研磨台的周围设置有一对辅助单元安装部，该一对辅助单元安装部用于将辅助单元安装为相对于连结顶环的摆动中心与研磨台的旋转中心的直线能够左右切换，该一对辅助单元安装部设置在相对于所述直线左右对称的位置。
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公开(公告)号：CN107564835B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN201710520934.1
申请日：2017-06-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , B24B37/34 , B24B37/04
Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。
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