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公开(公告)号：CN114102426A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202110717360.3
申请日：2021-06-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明为基板处理装置、基板处理方法以及存储有程序的存储介质，课题在于提高对基板从研磨头飞出的检测精度。基板处理装置包括：研磨台(350)，该研磨台粘贴有用于研磨基板的研磨垫(352)；研磨头(302)，该研磨头用于保持基板并将该基板按压于研磨垫(352)；挡环部件，该挡环以包围研磨头(302)的方式配置；挡环部件加压室，该挡环部件加压室与挡环部件邻接配置；臂(360)，该臂用于保持研磨头(302)并使其回旋；以及滑出检测器(910)，该滑出检测器用于基于臂(360)的回旋转矩、或基于向挡环部件加压室供给的流体的流量检测基板从研磨头(302)飞出的情况。
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公开(公告)号：CN110223934B
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN201910129817.1
申请日：2019-02-21
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明公开了调度器、衬底处理装置及衬底输送方法。其技术问题在于，减少用于衬底输送调度的计算量及计算时间。为此，提供一种调度器，其内置于衬底处理装置的控制部内，并计算衬底输送调度，衬底处理装置具备进行衬底的处理的多个衬底处理部、输送上述衬底的输送部、以及控制上述输送部和上述衬底处理部的上述控制部。该调度器具有：建模部，其使用图网络理论将衬底处理装置的处理条件、处理时间及制约条件建模为节点及边，创建图网络，计算到节点的最长路径长；和计算部，其基于最长路径长计算衬底输送调度。
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公开(公告)号：CN104952769A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510121582.3
申请日：2015-03-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67057 , B25J11/0095 , H01L21/67034 , H01L21/67173 , H01L21/67276 , H01L21/68721 , H01L21/68742
Abstract: 本发明提供基板处理装置以及抗蚀剂剥离装置。本发明的课题在于抑制药液气氛向处理槽的周围扩散。本发明的基板处理装置具有：处理槽，其收纳保持在基板保持架的基板，并用于对上述基板进行处理；升降器，其支承基板保持架基板，将保持架收纳于处理槽或者从处理槽中取出保持架；以及护罩，其覆盖通过升降器从处理槽中取出的基板保持架的周围。
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公开(公告)号：CN112424924B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN201980046589.X
申请日：2019-07-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , B24B37/26 , B24B37/30 , B24B41/06 , B24B57/02 , B65G39/04 , H01L21/304
Abstract: 提供搬送四边形的基板的自动化装置。根据一实施方式，提供用于搬送四边形的基板的基板搬送装置，该基板搬送装置具有：多个搬送辊，被构成为支承基板的下表面；多个辊轴，安装有所述多个搬送辊；马达，用于使所述多个辊轴旋转；以及推动器，用于提升所述多个搬送辊上的基板，以使所述多个搬送辊上的基板远离所述多个搬送辊，所述推动器具有平台，能够在所述多个搬送辊之间的空隙通过。
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公开(公告)号：CN112424924A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201980046589.X
申请日：2019-07-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , B24B37/26 , B24B37/30 , B24B41/06 , B24B57/02 , B65G39/04 , H01L21/304
Abstract: 提供搬送四边形的基板的自动化装置。根据一实施方式，提供用于搬送四边形的基板的基板搬送装置，该基板搬送装置具有：多个搬送辊，被构成为支承基板的下表面；多个辊轴，安装有所述多个搬送辊；马达，用于使所述多个辊轴旋转；以及推动器，用于提升所述多个搬送辊上的基板，以使所述多个搬送辊上的基板远离所述多个搬送辊，所述推动器具有平台，能够在所述多个搬送辊之间的空隙通过。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1813340A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200480018290.7
申请日：2004-07-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , B24B37/04
Abstract: 一种抛光装置具有抛光部分(302)，其被构造成抛光基板，和测量部分(307)，其被构造成测量形成于所述基板上的膜的厚度。所述抛光装置还具有接口(310)，其被构造成输入形成于待抛光的基板上的膜的期望厚度，和存储装置(308a)，其被构造成将关于过去的至少一个基板的抛光速度的数据存储在其中。所述抛光装置包括运算单元(308b)，其可操作，以通过使用加权平均法、基于所述抛光速度数据和所述期望厚度来计算抛光速度和最佳抛光时间，其中所述加权平均法对关于最新抛光的基板的抛光速度数据进行加权处理。
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公开(公告)号：CN110093655A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201910082536.5
申请日：2019-01-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 三谷隆
Abstract: 一种能够将来自处理槽的处理液带出降低的基板处理装置，具备：对基板进行不同处理种类的处理的多个处理槽、输送基板的输送装置以及对由输送装置进行的基板的输送和多个处理槽内的基板处理进行控制的控制装置，控制装置构成为，能够按每个处理种类将从各处理槽拉出基板的拉出所需时间固定，以成为最大生产量的方式，创建在多个处理种类的多个处理槽之间输送基板并进行处理的输送调度，并且以如下方式对输送调度进行修正：基于向一处理种类的处理槽收纳基板后输送装置的等待时间和这一处理种类的处理槽内的基板处理后该处理槽的等待时间，将从基板的输送顺序中的前一处理种类的处理槽拉出基板的拉出所需时间延长。
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公开(公告)号：CN101612719A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200910139638.2
申请日：2004-07-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B29/02 , H01L21/304 , B24B49/02 , B24B49/12 , B24B55/00 , G01B11/06 , G01B11/30 , G01B7/06 , G01B7/34 , G01B15/02 , G01B15/08
Abstract: 公开了一种抛光装置，其包括：抛光部分，其被构造成用于抛光基板，其中所述基板具有包含上层和下层的多个层叠式膜；测量部分，其被构造成测量形成于所述基板上的膜的厚度；接口，其被构造成输入形成于待抛光的基板上的膜的期望厚度；和运算单元，其可操作，以基于所述期望厚度和用于所述上层与用于所述下层的抛光速度之比或者基于所述测量部分的信号来计算用于所述多个层叠式膜中的至少一个的抛光速度和最佳抛光时间。还公开了一种抛光方法。
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公开(公告)号：CN101494164A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200910009621.5
申请日：2009-01-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/00 , H01L21/304 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67751 , B24B37/345
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置的运转方法，当基板处理装置发生故障时，只要不是特别重大的故障，就不使装置整体停止，继续进行针对基板的一部分处理，清洗、回收基板，或容易地向外部排出装置内的基板等，从而能够降低无法处理基板的风险。具体为，是具有研磨部(3)、清洗部(4)及搬运机构(7、22)的基板处理装置的运转方法，在研磨部(3)、清洗部(4)及搬运机构(7、22)的任意一处检测到异常时，根据检测到异常的地点及基板在基板处理装置内的位置对基板进行分类，按分类后的基板改变并进行针对检测到所述异常后的基板的处理。
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公开(公告)号：CN108335997B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN201810040900.7
申请日：2018-01-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 一种调度器，内装于具备进行基板的处理的多个基板处理部、对所述基板进行搬运的搬运部、对所述搬运部与所述基板处理部进行控制的控制部的基板处理装置的所述控制部，并计算基板搬运行程表，该调度器具有：模型化部，该模型化部使用网络图理论而将基板处理装置的处理条件、处理时间以及制约条件模型化为点以及边，生成网络图并进行到各点的最长路径长度的计算；以及计算部，该计算部基于最长路径长度而计算所述基板搬运行程表。该调度器能够削减用于基板搬运行程表的计算量以及计算时间。
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