知搜-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

12 records (took 0.024 seconds)

    研磨单元、基板处理装置及研磨方法
    1.
    发明公开
    研磨单元、基板处理装置及研磨方法 有权

    公开(公告)号：CN113021173A

    公开(公告)日：2021-06-25

    申请号：CN202011535044.6

    申请日：2020-12-23

    Applicant: 株式会社荏原制作所

    Inventor： 谷泽昭寻 ,  小林贤一 ,  真继阿沙葵

    IPC: B24B37/005 ,  B24B37/10 ,  B24B37/32 ,  B24B37/34 ,  B24B49/12

    Abstract: 本发明提供一种使检测基板从顶环跳出的精度提高的研磨单元、基板处理装置、及研磨方法。研磨单元(300)包含：贴合有用于研磨基板(WF)的研磨垫(352)的研磨台(350)；用于保持基板(WF)并将该基板按压于研磨垫(352)的顶环(302)；用于发射光至在研磨垫(352)上的检测区域(372)的光发射构件(371)；用于依据从检测区域(372)所反射的光来检测基板(WF)从顶环(302)跳出的情况的滑出检测器(370)；以及排除流入检测区域(372)的研磨液的排除机构(380)。

    基板处理装置、基板处理方法以及存储有程序的存储介质
    2.
    发明公开
    基板处理装置、基板处理方法以及存储有程序的存储介质 审中-实审

    公开(公告)号：CN114102426A

    公开(公告)日：2022-03-01

    申请号：CN202110717360.3

    申请日：2021-06-28

    Applicant: 株式会社荏原制作所

    Inventor： 三谷隆 ,  真继阿沙葵 ,  斋藤步

    IPC: B24B37/04 ,  B24B37/10 ,  B24B37/005 ,  B24B37/32 ,  B24B49/00 ,  B24B49/10 ,  B24B49/12 ,  H01L21/67

    Abstract: 本发明为基板处理装置、基板处理方法以及存储有程序的存储介质，课题在于提高对基板从研磨头飞出的检测精度。基板处理装置包括：研磨台(350)，该研磨台粘贴有用于研磨基板的研磨垫(352)；研磨头(302)，该研磨头用于保持基板并将该基板按压于研磨垫(352)；挡环部件，该挡环以包围研磨头(302)的方式配置；挡环部件加压室，该挡环部件加压室与挡环部件邻接配置；臂(360)，该臂用于保持研磨头(302)并使其回旋；以及滑出检测器(910)，该滑出检测器用于基于臂(360)的回旋转矩、或基于向挡环部件加压室供给的流体的流量检测基板从研磨头(302)飞出的情况。

    研磨装置用的夹具及装卸顶环的至少一部分的方法
    3.
    发明公开
    研磨装置用的夹具及装卸顶环的至少一部分的方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN110788746A

    公开(公告)日：2020-02-14

    申请号：CN201910707101.5

    申请日：2019-08-01

    Applicant: 株式会社荏原制作所

    Inventor： 小林贤一 ,  真继阿沙葵 ,  柏木诚 ,  保科真穗

    IPC: B24B37/34

    Abstract: 本发明提供一种用于辅助顶环的卸下、安装作业的夹具，将顶环的至少一部分卸下的方法以及将顶环的至少一部分安装于顶环主体的方法。根据一实施方式，提供一种用于进行顶环的至少一部分的装卸的夹具，该顶环用于保持基板，该夹具具有：可动板，该可动板用于支承已卸下的状态的顶环的至少一部分；多个支柱，该多个支柱用于将夹具相对于顶环而对准于规定位置，并构成为与顶环卡合；以及驱动机构，该驱动机构用于使所述可动板向接近于顶环的方向以及远离顶环的方向移动。

    用于保持基板的顶环以及基板处理装置
    4.
    发明授权
    用于保持基板的顶环以及基板处理装置 有权

    公开(公告)号：CN110788740B

    公开(公告)日：2022-12-13

    申请号：CN201910708221.7

    申请日：2019-08-01

    Applicant: 株式会社荏原制作所

    Inventor： 小林贤一 ,  真继阿沙葵 ,  柏木诚 ,  保科真穗

    IPC: B24B37/10 ,  B24B37/30 ,  B24B37/34 ,  H01L21/304

    Abstract: 本申请提供用于保持基板的顶环以及基板处理装置，顶环用于保持尺寸大的基板。根据一个实施方式，提供用于保持基板的顶环，该顶环具有：基板支承面；保持部件，该保持部件被配置为包围所述基板支承面的外周；以及保持器引导装置，该保持器引导装置以使保持部件能够在与所述基板支承面垂直的方向上位移的方式进行引导，并且以禁止保持部件在与所述基板支承面平行且远离所述基板支承面的方向上的位移的方式进行支承，保持器引导装置配置在将所述基板支承部包围的保持部件的内侧。

    移载机、清洗组件及基板处理装置
    7.
    发明公开
    移载机、清洗组件及基板处理装置 审中-实审

    公开(公告)号：CN116438632A

    公开(公告)日：2023-07-14

    申请号：CN202180076294.4

    申请日：2021-10-25

    Applicant: 株式会社荏原制作所

    Inventor： 真继阿沙葵 ,  谷泽昭寻 ,  古泽磨奈人 ,  青山英治 ,  斋藤步 ,  笹谷祐介 ,  小林贤一 ,  宫泽康之 ,  相马刚 ,  能条启一

    IPC: H01L21/304

    Abstract: 实现能够以简单的构造使基板的清洗力提高的清洗组件及基板处理装置。清洗组件包含：第一搬送机构(210‑1)，该第一搬送机构用于将被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)沿着搬送路径(405)搬送至下游侧的基板交接位置(418)；超声波清洗槽(440)，该超声波清洗槽配置于从搬送路径(405)离开的位置，并用于清洗被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)；移载机(420)，该移载机用于在搬送路径(405)的基板交接位置(418)与超声波清洗槽(440)之间移载基板(WF)；及第二搬送机构(210‑2)，该第二搬送机构用于将通过移载机(420)而从超声波清洗槽(440)移载至基板交接位置(418)的基板(WF)沿着搬送路径(405)进一步向下游侧搬送。

    基板保持部及基板处理装置
    9.
    发明授权
    基板保持部及基板处理装置 有权

    公开(公告)号：CN111791143B

    公开(公告)日：2024-07-05

    申请号：CN202010235762.5

    申请日：2020-03-30

    Applicant: 株式会社荏原制作所

    Inventor： 小林贤一 ,  真继阿沙葵 ,  柏木诚 ,  保科真穂

    IPC: B24B37/30

    Abstract: 本发明为层叠膜、具备层叠膜的基板保持装置及基板处理装置。不使用形状复杂的模具而制造具备多个压力室的弹性部件。根据一实施方式，提供用于基板处理装置的基板保持部的层叠膜。该层叠膜具有第一片材料，和配置在上述第一片材料的上面的第二片材料，上述第一片材料的一部分固定于上述第二片材料的一部分。

    研磨单元、基板处理装置及研磨方法
    10.
    发明授权
    研磨单元、基板处理装置及研磨方法 有权

    公开(公告)号：CN113021173B

    公开(公告)日：2024-05-14

    申请号：CN202011535044.6

    申请日：2020-12-23

    Applicant: 株式会社荏原制作所

    Inventor： 谷泽昭寻 ,  小林贤一 ,  真继阿沙葵

    IPC: B24B37/005 ,  B24B37/10 ,  B24B37/32 ,  B24B37/34 ,  B24B49/12

    Abstract: 本发明提供一种使检测基板从顶环跳出的精度提高的研磨单元、基板处理装置、及研磨方法。研磨单元(300)包含：贴合有用于研磨基板(WF)的研磨垫(352)的研磨台(350)；用于保持基板(WF)并将该基板按压于研磨垫(352)的顶环(302)；用于发射光至在研磨垫(352)上的检测区域(372)的光发射构件(371)；用于依据从检测区域(372)所反射的光来检测基板(WF)从顶环(302)跳出的情况的滑出检测器(370)；以及排除流入检测区域(372)的研磨液的排除机构(380)。

Patent Agency Ranking