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公开(公告)号：CN1516259A
公开(公告)日：2004-07-28
申请号：CN200410001485.2
申请日：1999-03-16
申请人： 株式会社日立制作所
IPC分类号： H01L21/76 , H01L21/22 , H01L21/82 , H01L21/8234
CPC分类号： H01L27/11526 , H01L21/76229 , H01L21/76237 , H01L21/823892 , H01L27/0214 , H01L27/10894 , H01L27/10897 , H01L27/11546
摘要： 在半导体衬底上形成使第一井形成区和第二井形成区露出的光致抗蚀剂图形，它被用作掩模，把杂质掺入半导体衬底，由此形成埋置n井，并进一步被用作掩模，把杂质掺入半导体衬底，由此以自对准方式在埋置n井上形成浅p井。接着，去除光致抗蚀剂图形。此后，在半导体衬底主表面上形成使第一井形成区的外围区和第三井形成区露出的光致抗蚀剂图形，并被用作掩模，把杂质掺入半导体衬底，由此形成浅p井。
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公开(公告)号：CN1052344C
公开(公告)日：2000-05-10
申请号：CN94109104.X
申请日：1994-08-19
申请人： 株式会社日立制作所
IPC分类号： H01L29/78 , H01L27/105
CPC分类号： B82Y10/00 , G11C11/22 , G11C11/404 , G11C16/02 , G11C16/0466 , G11C16/10 , G11C16/28 , G11C2216/06 , G11C2216/08 , H01L21/28273 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/115 , H01L27/11526 , H01L27/11546 , H01L27/11551 , H01L27/1203 , H01L29/42328 , H01L29/513 , H01L29/66825 , H01L29/7613 , H01L29/785 , H01L29/7888
摘要： 一种场效应半导体元件，它是用少数元件实现的并具有较小的面积且能够在不需要进行低温冷却的情况下通过其存储数据。栅极－沟道电容被设定得如此地小，以致能根据该半导体场效应晶体管元件电流的改变明确而清楚地检测出捕获区是否俘获到了一个电子或空穴。通过检测该半导体元件的阈值电压由于在捕获区中捕获电子或空穴而产生的改变，就能在室温下实现数据存储。
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公开(公告)号：CN1173043A
公开(公告)日：1998-02-11
申请号：CN97110214.7
申请日：1994-08-19
申请人： 株式会社日立制作所
IPC分类号： H01L27/105
CPC分类号： B82Y10/00 , G11C11/22 , G11C11/404 , G11C16/02 , G11C16/0466 , G11C16/10 , G11C16/28 , G11C2216/06 , G11C2216/08 , H01L21/28273 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/115 , H01L27/11526 , H01L27/11546 , H01L27/11551 , H01L27/1203 , H01L29/42328 , H01L29/513 , H01L29/66825 , H01L29/7613 , H01L29/785 , H01L29/7888
摘要： 一种场效应半导体元件,它是用少数元件实现的并具有较小的面积且能够在不需要进行低温冷却的情况下通过其存储数据,还涉及利用其的存储器件。栅极—沟道电容被设定得如此地小,以致能根据该半导体场效应晶体管元件电流的改变明确而清楚地检测出捕获区是否俘获到了一个电子或空穴。通过检测该半导体元件的阈值电压由于在捕获区中捕获电子或空穴而产生的改变,就能在室温下实现数据存储。
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公开(公告)号：CN1204627C
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN02122083.2
申请日：1994-08-19
申请人： 株式会社日立制作所
IPC分类号： H01L27/105 , H01L29/772
CPC分类号： B82Y10/00 , G11C11/22 , G11C11/404 , G11C16/02 , G11C16/0466 , G11C16/10 , G11C16/28 , G11C2216/06 , G11C2216/08 , H01L21/28273 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/115 , H01L27/11526 , H01L27/11546 , H01L27/11551 , H01L27/1203 , H01L29/42328 , H01L29/513 , H01L29/66825 , H01L29/7613 , H01L29/785 , H01L29/7888
摘要： 一种场效应半导体元件，它是用少数元件实现的并具有较小的面积且能够在不需要进行低温冷却的情况下通过其存储数据，及利用其的数据处理设备。栅极—沟道电容被设定得如此地小，以致能根据该半导体场效应晶体管元件电流的改变明确而清楚地检测出捕获区是否俘获到了一个电子或空穴。通过检测该半导体元件的阈值电压由于在捕获区中捕获电子或空穴而产生的改变，就能在室温下实现数据存储。
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公开(公告)号：CN1142586C
公开(公告)日：2004-03-17
申请号：CN99104015.5
申请日：1999-03-16
申请人： 株式会社日立制作所
CPC分类号： H01L27/11526 , H01L21/76229 , H01L21/76237 , H01L21/823892 , H01L27/0214 , H01L27/10894 , H01L27/10897 , H01L27/11546
摘要： 在半导体衬底上形成使第一阱形成区和第二阱形成区露出的光致抗蚀剂图形，它被用作掩模，把杂质掺入半导体衬底，由此形成埋置n阱，并进一步被用作掩模，把杂质掺入半导体衬底，由此以自对准方式在埋置n阱上形成浅p阱。接着，去除光致抗蚀剂图形。此后，在半导体衬底主表面上形成使第一阱形成区的外围区和第三阱形成区露出的光致抗蚀剂图形，并被用作掩模，把杂质掺入半导体衬底，由此形成浅p阱。
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公开(公告)号：CN1086842C
公开(公告)日：2002-06-26
申请号：CN97110215.5
申请日：1994-08-19
申请人： 株式会社日立制作所
IPC分类号： H01L27/105 , H01L29/772
CPC分类号： B82Y10/00 , G11C11/22 , G11C11/404 , G11C16/02 , G11C16/0466 , G11C16/10 , G11C16/28 , G11C2216/06 , G11C2216/08 , H01L21/28273 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/115 , H01L27/11526 , H01L27/11546 , H01L27/11551 , H01L27/1203 , H01L29/42328 , H01L29/513 , H01L29/66825 , H01L29/7613 , H01L29/785 , H01L29/7888
摘要： 一种场效应半导体元件，它是用少数元件实现的并具有较小的面积且能够在不需要进行低温冷却的情况下通过其存储数据，及利用其的数据处理设备。栅极-沟道电容被设定得如此地小，以致能根据该半导体场效应晶体管元件电流的改变明确而清楚地检测出捕获区是否俘获到了一个电子或空穴。通过检测该半导体元件的阈值电压由于在捕获区中捕获电子或空穴而产生的改变，就能在室温下实现数据存储。
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公开(公告)号：CN1173044A
公开(公告)日：1998-02-11
申请号：CN97110215.5
申请日：1994-08-19
申请人： 株式会社日立制作所
IPC分类号： H01L27/105 , H01L29/772
CPC分类号： B82Y10/00 , G11C11/22 , G11C11/404 , G11C16/02 , G11C16/0466 , G11C16/10 , G11C16/28 , G11C2216/06 , G11C2216/08 , H01L21/28273 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/115 , H01L27/11526 , H01L27/11546 , H01L27/11551 , H01L27/1203 , H01L29/42328 , H01L29/513 , H01L29/66825 , H01L29/7613 , H01L29/785 , H01L29/7888
摘要： 一种场效应半导体元件,它是用少数元件实现的并具有较小的面积且能够在不需要进行低温冷却的情况下通过其存储数据,及利用其的数据处理设备。栅极—沟道电容被设定得如此地小,以致能根据该半导体场效应晶体管元件电流的改变明确而清楚地检测出捕获区是否俘获到了一个电子或空穴。通过检测该半导体元件的阈值电压由于在捕获区中捕获电子或空穴而产生的改变,就能在室温下实现数据存储。
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公开(公告)号：CN1112732C
公开(公告)日：2003-06-25
申请号：CN97110214.7
申请日：1994-08-19
申请人： 株式会社日立制作所
IPC分类号： H01L27/105
CPC分类号： B82Y10/00 , G11C11/22 , G11C11/404 , G11C16/02 , G11C16/0466 , G11C16/10 , G11C16/28 , G11C2216/06 , G11C2216/08 , H01L21/28273 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/115 , H01L27/11526 , H01L27/11546 , H01L27/11551 , H01L27/1203 , H01L29/42328 , H01L29/513 , H01L29/66825 , H01L29/7613 , H01L29/785 , H01L29/7888
摘要： 一种场效应半导体元件，它是用少数元件实现的并具有较小的面积且能够在不需要进行低温冷却的情况下通过其存储数据，还涉及利用其的存储器件。栅极—沟道电容被设定得如此地小，以致能根据该半导体场效应晶体管元件电流的改变明确而清楚地检测出捕获区是否俘获到了一个电子或空穴。通过检测该半导体元件的阈值电压由于在捕获区中捕获电子或空穴而产生的改变，就能在室温下实现数据存储。
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公开(公告)号：CN1398002A
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：CN02122083.2
申请日：1994-08-19
申请人： 株式会社日立制作所
IPC分类号： H01L27/105 , H01L29/772
CPC分类号： B82Y10/00 , G11C11/22 , G11C11/404 , G11C16/02 , G11C16/0466 , G11C16/10 , G11C16/28 , G11C2216/06 , G11C2216/08 , H01L21/28273 , H01L21/8221 , H01L27/0688 , H01L27/105 , H01L27/115 , H01L27/11526 , H01L27/11546 , H01L27/11551 , H01L27/1203 , H01L29/42328 , H01L29/513 , H01L29/66825 , H01L29/7613 , H01L29/785 , H01L29/7888
摘要： 一种场效应半导体元件，它是用少数元件实现的并具有较小的面积且能够在不需要进行低温冷却的情况下通过其存储数据，及利用其的数据处理设备。栅极—沟道电容被设定得如此地小，以致能根据该半导体场效应晶体管元件电流的改变明确而清楚地检测出捕获区是否俘获到了一个电子或空穴。通过检测该半导体元件的阈值电压由于在捕获区中捕获电子或空穴而产生的改变，就能在室温下实现数据存储。
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公开(公告)号：CN1238557A
公开(公告)日：1999-12-15
申请号：CN99104015.5
申请日：1999-03-16
申请人： 株式会社日立制作所
CPC分类号： H01L27/11526 , H01L21/76229 , H01L21/76237 , H01L21/823892 , H01L27/0214 , H01L27/10894 , H01L27/10897 , H01L27/11546
摘要： 在半导体衬底上形成使第一井形成区和第二井形成区露出的光致抗蚀剂图形，它被用作掩模，把杂质掺入半导体衬底，由此形成埋置n井，并进一步被用作掩模，把杂质掺入半导体衬底，由此以自对准方式在埋置n井上形成浅p井。接着，去除光致抗蚀剂图形。此后，在半导体衬底主表面上形成使第一井形成区的外围区和第三井形成区露出的光致抗蚀剂图形，并被用作掩模，把杂质掺入半导体衬底，由此形成浅p井。
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