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公开(公告)号：CN101724828B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN200910208803.5
申请日：2009-10-29
Applicant: 株式会社堀场制作所 , 株式会社堀场STEC
IPC: C23C16/52
CPC classification number: G05D11/132 , Y10T137/0396 , Y10T137/2499 , Y10T137/2509 , Y10T137/2708
Abstract: 一种材料气体浓度控制系统，用于材料气化系统中，所述材料气化系统包括收纳材料的贮槽、将使所收纳的材料气化的载气导入至所述贮槽内的导入管、以及将气化而成的材料气体及所述载气的混合气体从所述贮槽内导出的导出管，所述材料气体浓度控制系统包括设置于所述导出管上的第1阀、测量所述混合气体中的材料气体的浓度的浓度测量部、以及对所述第1阀的开度进行控制，以使所述浓度测量部所测量的材料气体的测量浓度达到预定的设定浓度的浓度控制部。
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公开(公告)号：CN101724828A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910208803.5
申请日：2009-10-29
Applicant: 株式会社堀场制作所 , 株式会社堀场STEC
IPC: C23C16/52
CPC classification number: G05D11/132 , Y10T137/0396 , Y10T137/2499 , Y10T137/2509 , Y10T137/2708
Abstract: 一种材料气体浓度控制系统，用于材料气化系统中，所述材料气化系统包括收纳材料的贮槽、将使所收纳的材料气化的载气导入至所述贮槽内的导入管、以及将气化而成的材料气体及所述载气的混合气体从所述贮槽内导出的导出管，所述材料气体浓度控制系统包括设置于所述导出管上的第1阀、测量所述混合气体中的材料气体的浓度的浓度测量部、以及对所述第1阀的开度进行控制，以使所述浓度测量部所测量的材料气体的测量浓度达到预定的设定浓度的浓度控制部。
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公开(公告)号：CN108226064B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201711212784.4
申请日：2017-11-28
Applicant: 株式会社堀场制作所
IPC: G01N21/31
Abstract: 本发明提供利用光吸收的分析装置、计算机可读存储介质和分析方法，能通过简单计算且能排除光源强度的变动和其它物质的干扰影响等地高精度地测定测定对象成分的吸光度或浓度。分析装置包括：光源(2)，射出用规定的调制频率对波长进行了调制的参考光；光检测器(3)，检测作为参考光透过测定对象成分后的光的测定对象光的强度和参考光的强度；第一计算部(61)，计算作为测定对象光的强度与参考光的强度之比的对数的强度比对数；频率成分抽出部(62)，用具有调制频率的n倍(n为1以上的整数)的频率的参照信号对强度比对数进行锁定检测；及第二计算部(63)，根据频率成分抽出部(62)的检测结果，计算测定对象成分的浓度或吸光度。
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公开(公告)号：CN1804114B
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN200510092786.5
申请日：2005-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 株式会社堀场制作所
IPC: C23C16/00 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/34 , H01L21/205 , H01L21/66
CPC classification number: C23C16/4405 , C23C16/4412 , Y02C20/30 , Y02P70/605
Abstract: 本发明提供一种半导体处理用的成膜装置和该装置的使用方法，它能够以最佳的清洁时间进行清洁。本发明的半导体处理用的成膜装置，包括：清洁气体供给系统(17)、浓度测定部(27)、以及信息处理部(102)。清洁气体供给系统(17)向反应室内供给，从反应室(2)的内面去除来源于成膜气体的副生成物膜的用于清洁处理的清洁气体。浓度测定部(27)设置在排气系统(GE)，用于监控从反应室(2)排出的排出气体所包含的预定成分的浓度。信息处理部(102)比较在浓度测定部(27)获得的测定值和预设定值，决定清洁处理的结束点。
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公开(公告)号：CN111201684B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201880065242.5
申请日：2018-09-20
Applicant: 株式会社堀场制作所
IPC: H01S5/0687 , G01N21/3504 , H01S5/024
Abstract: 本发明提供半导体激光装置、半导体激光装置的驱动方法和驱动程序。本发明能够抑制半导体激光元件的振荡波数受到周围温度影响而变动，该半导体激光装置包括：半导体激光元件(2)；调温部(32)，对半导体激光元件(2)进行温度调节；温度传感器(4)，检测调温部(32)的温度；以及温度控制装置(5)，控制向调温部(32)供给的供给信号，以使温度传感器(4)的检测温度成为规定的目标温度，温度控制装置(5)根据向调温部(32)供给的供给信号来改变调温部(32)的目标温度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106370303B
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201610577108.6
申请日：2016-07-20
Applicant: 株式会社堀场制作所
IPC: G01J3/42 , G01J3/45 , G01J3/12 , G01N21/3504 , G01N21/01
Abstract: 本发明提供一种光检测器的输出修正方法和光谱分析装置或分光器，能够用短时间且用简单的结构进行用于光谱分析装置(100)或分光器的光检测器(4)的输出修正(校准曲线的制作)。在不使特性已知的光学元件(6)介于其间和不介于其间的两种情况下，使从光源(1)射出的光入射到所述光检测器(4)，取得作为分别针对入射光所包含的多个规定波数的光的、所述光检测器(4)的输出值的第一输出值和第二输出值，把每个所述规定波数的第一输出值和第二输出值的比以及所述光学元件(6)的波数透过特性或反射特性作为参数，求出用于从所述光检测器(4)的输出值计算入射光的强度的计算式。
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公开(公告)号：CN108226064A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711212784.4
申请日：2017-11-28
Applicant: 株式会社堀场制作所
IPC: G01N21/31
Abstract: 本发明提供利用光吸收的分析装置、计算机可读存储介质和分析方法，能通过简单计算且能排除光源强度的变动和其它物质的干扰影响等地高精度地测定测定对象成分的吸光度或浓度。分析装置包括：光源(2)，射出用规定的调制频率对波长进行了调制的参考光；光检测器(3)，检测作为参考光透过测定对象成分后的光的测定对象光的强度和参考光的强度；第一计算部(61)，计算作为测定对象光的强度与参考光的强度之比的对数的强度比对数；频率成分抽出部(62)，用具有调制频率的n倍(n为1以上的整数)的频率的参照信号对强度比对数进行锁定检测；及第二计算部(63)，根据频率成分抽出部(62)的检测结果，计算测定对象成分的浓度或吸光度。
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公开(公告)号：CN1804114A
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：CN200510092786.5
申请日：2005-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 株式会社堀场制作所
IPC: C23C16/00 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/34 , H01L21/205 , H01L21/66
CPC classification number: C23C16/4405 , C23C16/4412 , Y02C20/30 , Y02P70/605
Abstract: 本发明提供一种半导体处理用的成膜装置和该装置的使用方法，它能够以最佳的清洁时间进行清洁。本发明的半导体处理用的成膜装置，包括：清洁气体供给系统(17)、浓度测定部(27)、以及信息处理部(102)。清洁气体供给系统(17)向反应室内供给，从反应室(2)的内面去除来源于成膜气体的副生成物膜的用于清洁处理的清洁气体。浓度测定部(27)设置在排气系统(GE)，用于监控从反应室(2)排出的排出气体所包含的预定成分的浓度。信息处理部(102)比较在浓度测定部(27)获得的测定值和预设定值，决定清洁处理的结束点。
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公开(公告)号：CN109596538B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN201811122846.7
申请日：2018-09-26
Applicant: 株式会社堀场制作所
IPC: G01N21/31
Abstract: 本发明提供一种分析装置(100)，对导入样品的测量腔(1)照射脉冲振荡的光，分析所述样品中所含有的测量对象成分，所述分析装置不缩短脉冲宽度就能够抑制波长分辨率降低，所述分析装置具备：脉冲振荡的多个光源(2)；光检测器(3)，检测由所述光源(2)射出并通过所述测量腔(1)的光；信号分离部(6)，从由所述光检测器(3)得到的光强度信号中分离出与所述光源的脉冲振荡的一部分对应的信号。
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公开(公告)号：CN109596538A
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201811122846.7
申请日：2018-09-26
Applicant: 株式会社堀场制作所
IPC: G01N21/31
CPC classification number: G01N21/39 , G01J3/10 , G01J3/433 , G01J3/4338 , G01J2001/4242 , G01J2003/4332 , G01J2003/4334 , G01N21/3504 , G01N2021/396 , G01N2201/12 , G01N21/31
Abstract: 本发明提供一种分析装置(100)，对导入样品的测量腔(1)照射脉冲振荡的光，分析所述样品中所含有的测量对象成分，所述分析装置不缩短脉冲宽度就能够抑制波长分辨率降低，所述分析装置具备：脉冲振荡的多个光源(2)；光检测器(3)，检测由所述光源(2)射出并通过所述测量腔(1)的光；信号分离部(6)，从由所述光检测器(3)得到的光强度信号中分离出与所述光源的脉冲振荡的一部分对应的信号。
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