叠层型半导体装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1835230A

    公开(公告)日:2006-09-20

    申请号:CN200610068170.9

    申请日:2006-03-17

    Inventor: 赤星年隆

    CPC classification number: H01L2224/16225 H01L2224/73253 H01L2924/15311

    Abstract: 本发明揭示一种叠层型半导体装置,在第2半导体基板(5)的背面上,形成以安装在与该背面侧相邻近的半导体装置(3)上的第1半导体元件(1)接触的状态配置的放热用的金属图案(12),在半导体基板(2、5)周边附近的地方,形成贯通厚度方向传递热量的贯通路径(14、15),在所述半导体基板(5)的背面,使贯通路径(14)与放热用的金属图案(12)连接,设置跨越半导体装置(3、6)之间的焊锡珠(11),利用该焊锡珠(11)使传递到半导体装置(6)的金属图案(12)的热量传递到与设置该金属图案(12)的半导体装置(6)的背面侧邻近的半导体装置3的贯通路径(15)。

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