半导体装置用接合线
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107004610A

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201580002602.3

    申请日:2015-07-23

    IPC分类号: H01L21/60

    摘要: 本发明提供一种半导体装置用接合线,其具有在Cu合金芯材的表面的以Pd为主成分的被覆层、和在该被覆层的表面的包含Au和Pd的表皮合金层,该半导体装置用接合线能够进一步改善镀Pd引线框上的2nd接合性,并且能够实现在高湿加热条件下也优异的球接合性。一种半导体装置用接合线,具有在Cu合金芯材的表面的以Pd为主成分的被覆层、和在该被覆层的表面的包含Au和Pd的表皮合金层,将线最表面的Cu浓度设为1~10at%,在芯材中含有总计为0.1~3.0质量%的范围的Pd、Pt中的一种或两种,由此能够实现2nd接合性的改善和高湿加热条件下的优异的球接合性。进而,优选表皮合金层的Au的最大浓度为15at%~75at%。

    半导体装置用接合线
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106489199A

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201580002424.4

    申请日:2015-07-22

    IPC分类号: H01L23/48 B60B35/16

    摘要: 本发明涉及一种具有Cu合金芯材和在其表面形成的Pd被覆层的半导体装置用接合线,谋求提高175℃~200℃的HTS中的球接合部的接合可靠性和使耐力比(=最大耐力/0.2%耐力)为1.1~1.6。通过使线中含有总计为0.03~2质量%的Ni、Zn、Rh、In、Ir、Pt中的1种以上,来提高HTS中的球接合部的接合可靠性,进而,在对与接合线的线轴垂直的方向的芯材截面测定晶体取向所得到的结果中,使线长度方向的晶体取向之中、相对于线长度方向角度差为15度以下的晶体取向 的取向比率为50%以上,且与接合线的线轴垂直的方向的芯材截面中的平均结晶粒径为0.9~1.3μm,由此使耐力比为1.6以下。

    半导体装置用接合线
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105981164A

    公开(公告)日:2016-09-28

    申请号:CN201580005634.9

    申请日:2015-12-28

    IPC分类号: H01L23/49

    摘要: 本发明提供一种半导体装置用接合线,其具有在Cu合金芯材的表面的以Pd为主成分的被覆层、和在该被覆层的表面的包含Au和Pd的表皮合金层,该半导体装置用接合线能够进一步改善镀Pd引线框上的2nd接合性,并且能够实现在高湿加热条件下也优异的球接合性。一种半导体装置用接合线,具有在Cu合金芯材的表面的以Pd为主成分的被覆层、和在该被覆层的表面的包含Au和Pd的表皮合金层,将线最表面中的Cu浓度设为1~10at%,在芯材中含有总计为0.1~3.0质量%的范围的元素周期表第10族的金属元素,由此能够实现2nd接合性的改善和高湿加热条件下的优异的球接合性。进而,优选表皮合金层的Au的最大浓度为15at%~75at%。